JPH0433775B2 - - Google Patents

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JPH0433775B2
JPH0433775B2 JP24572785A JP24572785A JPH0433775B2 JP H0433775 B2 JPH0433775 B2 JP H0433775B2 JP 24572785 A JP24572785 A JP 24572785A JP 24572785 A JP24572785 A JP 24572785A JP H0433775 B2 JPH0433775 B2 JP H0433775B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
caustic alkali
formula
group
complex
compound
Prior art date
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Expired
Application number
JP24572785A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62106034A (ja
Inventor
Fumio Toda
Koichi Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osaka Soda Co Ltd
Original Assignee
Daiso Co Ltd
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Publication date
Application filed by Daiso Co Ltd filed Critical Daiso Co Ltd
Priority to JP24572785A priority Critical patent/JPS62106034A/ja
Publication of JPS62106034A publication Critical patent/JPS62106034A/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は苛性アルカリを包含してなる新規な錯
体に関する。
(従来の技術) 苛性アルカリを包含する錯体はきわめて文献に
乏しく現在米国特許第3663628号に記載がある程
度である。上記特許に記載の化合物はケトンにア
セチレンが付加して生成する型のアセチレンアル
コールである。このものは苛性アルカリとアダク
ト(adduct)を形成し、このアダクトは上記の
アセチレンアルコールの合成触媒として有用な事
が述べられている。しかしながらこの錯体はケト
ン−アセチレン付加型のアセチレンアルコールを
ホスト化合物とするものであり、その用途は触媒
物質以外には記載がなく、しかもその製法も有機
触媒中で無水の微細に粉砕した苛性アルカリとア
セチレンアルコールとを接触させるものである。
本発明者らはアチチレンアルコール系のホスト
化合物について種々研究を行つた結果、前記一般
式()で表わされる化合物が特に水溶液中の苛
性アルカリと容易に錯体を形成し、さらにこの錯
体は固形苛性アルカリを簡単な操作で分離しうる
ことを見出し本発明を完成した。
(発明の目的) したがつて本発明の目的は、通常の濃縮法では
膨大なエネルギーを必要とする苛性アルカリ水溶
液より固形苛性アルカリを回収する工程におい
て、このようなエネルギーを不要ならしめる濃縮
媒体として有用であり、その他苛性アルカリ成分
を必要とする各種化学反応上利用し得られる苛性
アルカリを包含する錯体を提供することにある。
(発明の構成) 本発明は、すなわち式() (式中Rはアルキル基、シクロアルキル基、又
は置換基を有していてもよいアリール基、アラル
キル基、R′は水素原子、アルキル基又はアリー
ル基) で表わされるアセチレンアルコール系化合物であ
るホスト化合物が苛性アルカリを包含してなる新
規な苛性アルカリ包含錯体とその製法である。
式()化合物としては具体的には次のような
化合物を例示できる。すなわちR=アルキル基の
場合、3−エチル−ペンタ−1,4−ジイン−3
−オール,3−イソプロピル−ペンタ−1,4−
ジイン−3−オール,3−ターシヤリ−ブチル−
ペンタ−1,4−ジイン−3−オール等、R=シ
クロヘキシル基の場合3−シクロヘキシル−ペン
タ−1,4−ジイン−3−オール等、R=アリー
ル基の場合、3−フエニル−ペンタ−1,4−ジ
イン−3−オール等、R=置換基を有するアリー
ル基の場合3−パラ−メチルフエニル−ペンタ−
1,4−ジイン−3−オール,3−パラ−フロロ
フエニル−ペンタ−1,4−ジイン−3−オー
ル,3−(3,4−ジクロロフエニル)−ペンタ−
1,4−ジイン−3−オール,3−パラ−メトキ
シフエニル−ペンタ−1,4−ジイン−3−オー
ル等が挙げられる。
上記式()化合物は次の反応によつて製造さ
れる(例えばR.D.Dillard and D.E.Pavey,J.
Org.Chem,36,749(1971)) すなわち上記()式エステル(Meはメチル
基)の液体アンモニア溶液に、ナトリウムアセチ
ライドの液体アンモニア溶液を滴下して常法によ
り反応させると式()化合物が生成する。
本発明においては上記式()化合物を濃度20
〜50重量%の苛性アルカリ水溶液と混合し常温で
放置すると無色針状の結晶が析出する。この結晶
を濾過し乾燥すると苛性アルカリを包含した錯体
が得られる。
この錯体は式()化合物:苛性アルカリ:
H2Oのモル比が通常1:1:1〜3の範囲にあ
る。すなわち式()化合物はホスト化合物であ
り、苛性アルカリを固形として分子内に包含させ
ることができる。
この場合、水溶液中より苛性アルカリの回収率
は略100%である。この錯体は式()ホスト化
合物を溶解するが苛性アルカリを溶解しない有機
溶媒にて処理するか、又は該ホスト化合物を減圧
下加熱して留去させることによりホスト化合物を
分離除去し容易に固形状の苛性アルカリを得るこ
とができる。このような有機媒体としてはヘプタ
ン、ヘキサン、オクタン、ペンタン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、テトラヒドロフランのようなエーテル類、各
種アルコール類、ケトン類又はこれらの混合溶媒
が挙げられ特に低沸点の溶媒が好ましい。
この錯体は一般の苛性アルカリ水和物に比較し
容易に結晶水が分離しやすい特徴を有し、約200
℃までの減圧加熱操作により高純度の固形苛性ア
ルカリが得られるものである。
次に本発明の実施例を示す。なお組成%はいず
れも重量基準である。
実施例 1 3−ターシヤリ−ブチル−ペンタ−1,4−ジ
イン−3−オール6.8g(0.05モル)と濃度30%
の苛性ソーダ水溶液6.67g(NaOH0.05モル)と
を混合し、室温で2時間放置し析出した結晶を濾
取しデシケーター中で一夜乾燥すると式()化
合物:NaOH:H2Oのモル比が1:1:3の組
成比からなる錯体(無色針状結晶)5.26gが得ら
れた 実施例 2 実施例1と同様のアセチレンアルコール6.8g
(0.05モル)と濃度60%の苛性カリ水溶液4.68g
(KOH0.05モルと)を混合し室温で2時間放置し
析出した結晶を濾取しデシケーター中で一夜乾燥
すると式()化合物:KOH:H2Oのモル比が
1:1:1.5の組成比からなる錯体(無色針状結
晶)6.54gが得られた。
実施例 3 3−イソプロピル−ペンタ−1,4−ジイン−
3−オール1.0g(8.20ミリモル)と濃度30%の
苛性ソーダ水溶液1.09g(NaOH8.20ミリモル)
を混合し室温で2時間放置して析出した結晶を濾
取しデシケーター中で一夜乾燥すると、式()
化合物:NaOH:H2Oのモル比が1:1:1の
組成比からなる錯体(無色針状結晶)0.50gが得
られた。
(発明の効果) 本発明における苛性アルカリを包含してなる錯
体は、苛性アルカリ水溶液を一般式()で示さ
れるホスト化合物に接触させることにより容易に
製造することができる。この錯体よりホスト化合
物を分離し得られるので高純度の固形苛性アルカ
リが簡単に回収できる。この性質を利用して例え
ば次のような分野に利用できる。
一般に塩化アルカリ水溶液の電解によつて製造
される苛性アルカリ水溶液の濃度は約10〜50重量
%程度であり、これら水溶液より高濃度の固形苛
性アルカリを製造するには水溶液を約200〜450℃
に加熱して約80重量%以上に濃縮し、これを冷却
して固形苛性アルカリとする。しかしこの様な濃
縮法は大量の熱エネルギー、大規模な蒸発設備を
必要とし高温のアルカリ液に耐える材質面の考慮
も要する。他の方法として苛性アルカリ水溶液の
冷却によつて純粋な苛性アルカリの含水結晶を得
る水和物法も知られており、NaOH31/2H2Oの
晶析が行われるが生成苛性アルカリの濃度が低く
冷凍設備を要するので同じくエネルギーの経済性
が悪い。
本発明によれば特定のホスト化合物を媒体とし
て大量の熱エネルギーを要することなく高い回収
率をもつて苛性アルカリの効果的な濃縮および精
製を行うことができ工業的にきわめて有用であ
る。さらに、この錯体は、高濃度のアルカリ成分
を必要とする触媒等各種化学反応上の用途にも有
効に使用されるものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式() (式中Rはアルキル基、シクロアルキル基又は
    置換基を有していてもよいアリール基、アラルキ
    ル基、R′は水素原子、アルキル基又はアリール
    基) で表わされるアセチレンアルコール系化合物であ
    るホスト化合物が苛性アルカリを包含してなる新
    規な苛性アルカリ包含錯体。 2 式() (式中Rはアルキル基、シクロアルキル基又は
    置換基を有していてもよいアリール基、アラルキ
    ル基、R′は水素原子、アルキル基又はアリール
    基) で表わされるアセチレンアルコール系ホスト化合
    物を苛性アルカリ水溶液と接触させることを特徴
    とする苛性アルカリ包含錯体の製法。
JP24572785A 1985-10-31 1985-10-31 新規な苛性アルカリ包含錯体およびその製法 Granted JPS62106034A (ja)

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JP24572785A JPS62106034A (ja) 1985-10-31 1985-10-31 新規な苛性アルカリ包含錯体およびその製法

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JPS62106034A JPS62106034A (ja) 1987-05-16
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JP24572785A Granted JPS62106034A (ja) 1985-10-31 1985-10-31 新規な苛性アルカリ包含錯体およびその製法

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