JPH04339336A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば光デイスクある
は光−磁気デイスクなどの光情報記録媒体の製造方法に
係り、特にポリカーボネートなどのプラスチックス製の
透明基板とその上に形成される下地膜あるいは記録膜な
どの薄膜との密着性に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光デイスクは、プリグループやプリピツ
トなどの信号パターン面が形成された透明な基板上に直
接、または下地層を介して記録膜が形成された構造にな
つている。そしてレーザ光が透明基板を透過して前記信
号パターン面に到達し、その信号パターン面に対応した
反射光を光学的に読み取るようになつている。

【０００３】従来より透明基板の材質として、光学的に
透明度が高く、耐熱性に優れ、しかも成形性が良いこと
からポリカーボネートが賞用されている。

【０００４】そして、ポリカーボネート製の透明基板と
その上に形成される記録膜との密着性を向上するため、
逆スパツタリングあるいは反応性スパツタリングが行わ
れていた。

【０００５】前記逆スパツタリングはポリカーボネート
製透明基板上に記録膜を形成する直前に行い、基板表面
を物理的に荒らすことにより、記録膜との密着性を図ろ
うとするものである。

【０００６】また前記反応性スパツタリング覇、スパツ
タチヤンバー内でスパツタ膜を形成する際にスパツタ気
体と反応させることにより、記録膜との密着性を図ろう
とするものである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで前記従来では
、透明基板とその上に形成される記録膜との密着性はさ
ほど向上せず、記録膜が剥離することがあり、光情報記
録媒体の耐久性の点で問題がある。

【０００８】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、耐久性に優れた信頼性の高い光情報記録媒
体の製造方法を提供するにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、例えばポリカーボネートなどのプラスチ
ックス製の透明基板上に下地膜を介してまたは記録膜を
直接形成する光情報記録媒体において、前記透明基板の
表面に例えばエポキシ変性シランカツプリング剤あるい
はアミン系シランカツプリング剤などのシランカツプリ
ング剤を例えばスピンナー塗布法などによつて塗布し、
例えば８０℃などの所定の温度で熱処理する、所謂、プ
ライマー処理をしたことを特徴とするものである。

【００１０】

【作用】このように透明基板の表面にプライマー処理す
ることにより、透明基板とその表面に形成される下地膜
または記録膜などの薄膜との密着性が良好となり、耐久
性に優れた信頼性の高い光情報記録媒体を提供すること
ができる。

【００１１】

【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。 図１は実施例に係るエアサンドイツチ型光デイスクの断
面図、図２は図１の要部拡大断面図、図３ならびに図４
は図２の変形例を示す要部拡大断面図である。

【００１２】これらの図において、図中の１は円板状の
透明基板、２は下地膜、３は記録膜、４は中心孔、５は
通気孔であり、図１に示すように２枚の光デイスク単板
を貼り合わせることによつて内側に空隙６が形成されて
いる。なお、７は透明基板１上に形成されたプリグルー
ブやプリピツトなどの信号パターン面、８、９は保護膜
を示している。

【００１３】前記透明基板１として、光学的に透明度が
高く、耐熱性に優れ、しかも成形性が良いなどの理由か
らポリカーボネートが使用される。又、ポリカーボネー
トの他に例えばポリメチルメタクリレート、エポキシ樹
脂などのプラスチツクスを用いることもできる。この透
明基板１の上には、記録、再生用光ビームを案内するプ
リグルーブや、情報を記録したプリピツトなどの信号パ
ターン面７が微細な凹凸の形で形成されている。

【００１４】そしてこの透明基板１は、例えばβ−（３
，４エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシランの
如きエポキシ変性シランカツプリング剤、あるいはγ−
アミノプロピルトリエトキシシランの如きアミン系シラ
ンカツプリング剤などによりプライマー処理がなされる
。

【００１５】次にこのプライマー処理例について具体的
に説明する。 （処理例１）β−（３，４エポキシシクロヘキシル）エ
チルメトキシシランをイソプロピールアルコールに溶解
させ、この処理溶液にポリカーボネート製の透明基板１
上の中央部に滴下し、透明基板１を６０００ｒｐｍで３
００秒間回転してスピンナー塗布し、その回転で余剰の
処理溶液を透明基板１から振り切る。

【００１６】次にこの透明基板１を８０℃で１時間熱処
理し、その後さらに付着しているアルコールや水分など
を除去するため、真空下において８０℃で３時間熱処理
する。

【００１７】（処理例２）γ−アミノプロピルトリエト
キシシランをイソプロピールアルコールに溶解させ、こ
の処理溶液にポリカーボネート製の透明基板１上の中央
部に滴下し、透明基板１を６０００ｒｐｍで３００秒間
回転してスピンナー塗布し、その回転で余剰の処理溶液
を透明基板１から振り切る。

【００１８】次にこの透明基板１の信号パターン面７の
上に、例えばＳｉＯ，ＳｉＯ２　，ＳｉＮ，Ｓｉ３　Ｎ
４　，ＡｌＮ，Ａｌ２　Ｏ３　ＺｎＳなどからなる下地
膜２がスパツタリングなどの手段で形成される。

【００１９】この下地膜２の上には、例えば希土類元素
と遷移金属を主体とする垂直磁化膜からなる記録膜３が
スパツタリングなどの手段で形成される。この記録膜３
の材質として、例えばＧｄ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ，Ｄｙ−
Ｆｅ，Ｇｄ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｃｏ，Ｄｙ−Ｃｏなどの２元
合金、Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｔｂ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｄ
ｙ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｄｙ
−Ｆｅ−Ｃｏなどの３元合金、Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ
，Ｔｂ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏな
どの４元合金が使用される。また、メチン鎖を有するイ
ンドール系シアニン色素などからなる有機化合物を使用
することもできる。

【００２０】この記録膜３上に形成される保護膜８とし
ては、例えばアクリル樹脂あるいは無機化合物などが使
用される。

【００２１】前記実施例としては、β−（３，４エポキ
シシクロヘキシル）エチルメトキシシランやγ−アミノ
プロピルトリエトキシシランなどのケイ素有機化合物を
使用したが、この他チタン系有機化合物でプライマー処
理することもできる。

【００２２】なお、前記実施例では透明基板上に下地膜
を介して記録膜を形成したが、透明基板上に直接記録膜
を形成することもできる。

【００２３】

【発明の効果】本発明のものと従来のものの透明基板に
対する密着度試験（ピール試験）を行い、その結果を次
の表に示す。なお、この密着度試験（ピール試験）は、
日本工業規格（ＪＩＳ規格）に規定されている試験方法
で、透明基板上に形成された記録膜に１ｍｍ間隔で１０
０個のますの切れ目を入れ、その上に粘着テープを張り
付けて、その粘着テープを剥がしたときに残ったます目
の数により、透明基板に対する密着性を評価する試験方
法である。

【００２４】

【００２５】この結果から明らかなように本発明のもの
は、プラスチツクス製透明基板に対する密着性が非常に
良好であり、信号の書込み、読み出しが適正に行える、
信頼性の高い光情報記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係るエアサンドイツチ型光デ
イスクの断面図である。

【図２】図１の要部拡大断面図である。

【図３】図２の変形例を示す要部拡大断面図である。

【図４】図２の変形例を示す要部拡大断面図である。

【符号の説明】

１　　透明基板 ２　　下地膜 ３　　記録膜 ７　　信号パターン面 ８　　保護膜 ９　　保護膜

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　プラスチックス製の透明基板上に直接
   または下地膜を介して記録膜を形成する光情報記録媒体
   において、前記透明基板の表面にプライマー処理をした
   ことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】　　請求項１記載において、前記プライマ
   ー処理がエポキシ変性シランカツプリング剤によつて行
   われることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】　　請求項２記載において、前記エポキシ
   変性シランカツプリング剤がβ−（３，４エポキシシク
   ロヘキシル）エチルメトキシシランであることを特徴と
   する光情報記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】　　請求項１記載において、前記プライマ
   ー処理がアミン系シランカツプリング剤によつて行われ
   ることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】　　請求項４記載において、前記アミン系
   シランカツプリング剤がγ−アミノプロピルトリエトキ
   シシランであることを特徴とする光情報記録媒体の製造
   方法。
6. 【請求項６】　　請求項１記載において、前記透明基板
   がポリカーボネートであることを特徴とする光情報記録
   媒体の製造方法。