JPH0433995A - 一酸化炭素を主成分とするガスの精製方法 - Google Patents

一酸化炭素を主成分とするガスの精製方法

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JPH0433995A
JPH0433995A JP2139114A JP13911490A JPH0433995A JP H0433995 A JPH0433995 A JP H0433995A JP 2139114 A JP2139114 A JP 2139114A JP 13911490 A JP13911490 A JP 13911490A JP H0433995 A JPH0433995 A JP H0433995A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
catalyst
main component
carbon monoxide
small amount
Prior art date
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Pending
Application number
JP2139114A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsunori Mushiaki
虫明 光徳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
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  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、一酸化炭素(Co)を主成分とし不純物とし
て少量の水素(H3)を含むガスの精製方法に関し、特
に簡潔な工程で少量の不純物H2を除去することが可能
なcoを主成分とするガスの精製方法に関する。
〈従来の技術〉 従来、H2を主成分とするガスの精製法として、H2を
主成分とするガス中のCO酸成分メタネーション法によ
り除去する方法は一般に行われている。
この従来の方法の温度条件は400を程度で、この温度
条件をCOを主成分とするガス中のH2の除去に適用す
る場合は、H2の除去と同時に起こるCOの分解による
カーボンの析出が問題となる。 例えば、COのロスや
加熱器の故障の原因となる。
使用する触媒は、 Nip/八flへ2ch等Ni系触
媒が中上・である。
COを主成分とするガスとして、例えば製鉄所の転炉か
ら得られる転炉ガス、高炉から得られる高炉ガスなどが
あるが、通常その殆どが燃料として用いられている。
これらのCOを主成分とするガスを、さらに圧力スイン
グ法等により高純度COガスとして種々の用途に利用さ
れるが、不純物としてH2が相当量含まれている。
そのためこのままでは、例えば焼結鉱等の還元テスト用
ガスとして使用した場合には少量含まれるH2の還元作
用により誤差を生ずる。
一方、COを主成分とし不純物として少量のH2を含む
ガスから前記問題を起こすことなくH2を除去する技術
は見当らない。
〈発明が解決しようとする課題〉 本発明は、Coを主成分とし不純物として少量のH2を
含むガスから簡潔な工程で少量の不純物H2を除去する
ことが可能なCOを主成分とするガスの精製方法を提供
することを目的としている。
く課題を解決するための手段〉 本発明者は、COを主成分とするガス中に含まれる少量
の不純物H2を除去するにあたり、特定の金属、金属酸
化物等を添着させた触媒による反応が有効なことを見い
だした。
さらに、前記触媒反応の前に前記ガス中の水分を一定量
以下に除去しておかないと、この水分が触媒作用でH2
とo2に分解し、ガス中のH2が逆に増加することもあ
るとの知見を得、水分を除去することにより安定したガ
ス精製を行うことができることを見いだし、本発明に至
った。
すなわち、上記目的を達成するために本発明によれば、
一酸化炭素を主成分とするガス中に含まれる少量の水素
を除去するにあたり、前記ガスを吸着剤と接触させ水分
を除去する工程、 水分を除去した前記ガスを50〜350t(7)範囲に
加温する工程、 加温された前記ガスを触媒と接触させ該ガス中に含まれ
る少量の水素を除去する工程を有することを特徴とする
一酸化炭素を主成分とするガスの精製方法が提供される
前記触媒は、活性アルミナ、シリカゲルまたはその他の
担体にルテニウムを添着させた触媒であるのが好ましい
また、前記触媒は、活性アルミナ、シリカゲルまたはそ
の他の担体にルテニウムとアルカリ金属酸化物および希
土類酸化物のうちの一極または二種以上とを添着させた
触媒であるのが好ましい。
以下に本発明をざらに詳細に説明する。
第1図は、本発明の1実施例を示す反応系統図である。
処理すべきCOを主成分とし不純物として少量のH3を
含むガス(以下、原料ガスという)1は、水分除去吸着
*2−COガスヒーター3−触媒筒4の順序で処理され
る。
処理すべき原料ガス1としては、coを主成分とし不純
物としてH2を約10〜5000ppm含有するガスで
あればいかなるガスでもよく、例えば転炉ガス、高炉ガ
スを精製して前記範囲のH2濃度としたガスを挙げるこ
とができる。
処理すべき原料ガス1中の水分は、1100pp以下、
好ましくは10ppm以下とする必要がある。 ガス中
の水分が20ppmを越えると前述したように後記する
触媒筒4においてH2と02に分解し、ガス中のH2濃
度を増大させてしまう。
そこで原料ガス1は、まず水分除去吸着筒2へ導入する
吸着筒2としては、モレキュラシーブ、活性アルミナ、
シリカゲル等の脱水用吸着剤を充填した箇が用いられる
この吸着剤の再生には、加温する方法(TSA法)、筒
内圧力を減圧して行う方法(PSA法)などがある。
第1図は、N2 ガス5をヒーター6で約300℃に加
温して再生を行う場合を示した。
吸着筒2の数は、一般には第1図に示すように2箇以上
とし、その一部の箇を再生しながら他の筒を使用するよ
うにして連続稼動するようにしている。
脱水された原料ガスは、COガスヒーター3で加温され
る。
COガスヒーター3は、スチームヒーター電気ヒーター
等を用いることができる。
加温後のガス温度は、50〜350’Cの範囲とし、好
ましくは100〜200tである。
350℃を越えるとcoの分解によるカーボンの発生が
懸念される。 できれば300を以上は避けた方がよい
。 また、50℃未満ではっぎの触媒筒4での反応を十
分行うことができない。
加温された原料ガスは、触媒筒4へ導入さねガス中のH
2が除去されたのち、精製ガス7どなる。
使用する触媒としては、 AJ2203 、5i02あ
るいはその他の担体にルテニウム(Ru)を添着させた
ものが好ましい。
または、前記担体にRuとアルカリ金属(Li、Na、
に等)の酸化物および希土類属(La、Ce、N6% 
Pm、、Sm、Eu、Gd、Tb等)の酸化物のうちの
一種または二種以上とを添着させたものが好ましい。
触媒筒4での反応は、下記式によって行われる。
382 +  Co  −CH4+  H20この反応
で生成するCH4およびH2Oは、必要に応じ適宜の吸
着剤で吸着除去する工程を加えて除去することができる
得られた精製ガス7中のH2含有量は10ppm以下と
することが可能であり前記CH4およびH2Oの生成量
は2000ppm以下であるため、そのまま焼結鉱等の
還元テスト用ガスとして用いることができる。Ruの担
持量は0.5〜10wt%程度で、実用上は0.5〜2
wt%で十分である。
他の成分は、酸化物の量としてルテニウム重量の2〜5
0wt%程度、好ましくは2〜1゜wt%程度である。
Ruおよび他の成分の担持量がそれぞれ前記範囲の下限
未満では触媒効果がなく、また上限を越える量にしても
あまり向上効果はない。
また、前記触媒は長時間使用しても劣化しないため、特
に連続的にガス精製を行うのに適している。
以上により、coを主成分とし不純物として少量のH2
を含むガスから簡潔な工程で少量の不純物H2を除去す
ることができる。
〈実施例〉 以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
(実施例1) 転炉ガスを圧力スイング法により濃縮したガスで表1に
示す組成のガスについて第1図に示す反応系統図に従っ
てガスの精製を行った。
表  1 まず、表1のガスを圧縮機により9〜9.5Kg/cm
2に加圧し約30tに冷却後水分除去吸着筒2に供給し
た。 この時、原料ガス中に含まれる水分は飽和であっ
た。
乾燥用吸着剤はモキュラシーブを使用し、ガス中の水分
を10ppm以下まで除去した。
また、吸着剤の再生は、約300℃に加温したN2によ
って実施し、N2ガス5の加温は電気ヒーター6によっ
て行った。
水分の吸着(使用)と再生の切替周期は6時間で行った
脱水された前記ガスは、Coガスヒーター6へ送られ約
200℃まで加温した。  このヒーター6には、電気
ヒーターを使用した。
つぎに、触媒筒4中の触媒と接触させガス中H2を除去
した。
使用した触媒は Au203  にRuを0.5wt%
、さらにその他の添加物としてに20を0.02wt%
担持したものを使用した。
N20の付加は前記Ru/Af1203触媒をにzcO
s溶液中に含浸させた後、約150℃のN2ガス中で乾
燥させ、その後400℃、N2ガス中で還元してに20
としたものを使用した。
触媒空間速度は500h−’で通ガスした。
得られた精製ガス中の不純物を、表2に示す。
また、本実施例は現在まで約3000時間連続使用して
いるが、触媒の劣化は認められず、連続精製が可能であ
ることがわかった。
〈発明の効果〉 本発明は、以上説明したように構成されているので、本
発明によればCOとおなし還元作用を持つH2構成をc
oを主成分とするガス中から簡潔な工程で除去すること
ができるようになった。 その結果、焼結鉱物等の還元
テスト用ガスとして使用できるガスが容易に得られるよ
うになった。
また、本発明で得られる精製ガス中のその他の不純成分
を既存技術で除去することにより容易に分析用標準ガス
等へ使用可能なガスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の1実施例を示す反応系統図である。 符号の説明 1・・・原料ガス、 2・・・水分除去吸着筒、 3・・・COガスヒーター 4・・・触媒筒、 5・・・N、ガス、 6・・・N2ガスヒーター 7・・・才青製ガス

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一酸化炭素を主成分とするガス中に含まれる少量
    の水素を除去するにあたり、 前記ガスを吸着剤と接触させ水分を除去する工程、 水分を除去した前記ガスを50〜350℃の範囲に加温
    する工程、 加温された前記ガスを触媒と接触させ該ガス中に含まれ
    る少量の水素を除去する工程を有することを特徴とする
    一酸化炭素を主成分とするガスの精製方法。
  2. (2)前記触媒は、活性アルミナ、シリカゲルまたはそ
    の他の担体にルテニウムを添着させた触媒である請求項
    1記載の一酸化炭素を主成分とするガスの精製方法。
  3. (3)前記触媒は、活性アルミナ、シリカゲルまたはそ
    の他の担体にルテニウムとアルカリ金属酸化物および希
    土類酸化物のうちの一種または二種以上とを添着させた
    触媒である請求項1記載の一酸化炭素を主成分とするガ
    スの精製方法。
JP2139114A 1990-05-29 1990-05-29 一酸化炭素を主成分とするガスの精製方法 Pending JPH0433995A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05994A (ja) * 1991-06-21 1993-01-08 Tokyo Gas Co Ltd 水素含有coガスの精製方法および該精製coガスを用いる酢酸製造方法
CN100391839C (zh) * 2005-09-27 2008-06-04 上海化工研究院 Co低温精馏法分离13c稳定性同位素中原料气的净化工艺

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