JPH04342570A - オキシムの液相転位によるアミドの製造法 - Google Patents
オキシムの液相転位によるアミドの製造法Info
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- JPH04342570A JPH04342570A JP3116077A JP11607791A JPH04342570A JP H04342570 A JPH04342570 A JP H04342570A JP 3116077 A JP3116077 A JP 3116077A JP 11607791 A JP11607791 A JP 11607791A JP H04342570 A JPH04342570 A JP H04342570A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、オキシムの液相転位に
よってアミドを製造する方法に関する。
よってアミドを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オキシムのアミドへの転位反応はベック
マン転位反応として公知である。例えば、シクロヘキサ
ノンオキシムの転位によるε−カプロラクタムの製造に
おいては、発煙硫酸が触媒として工業的に使用されてい
る。しかし発煙硫酸を用いる方法においては、大量の硫
酸アンモニウムが副生するという本質的な欠点のほかに
装置の腐食など工程上の問題も多く、効率的な転位用触
媒の開発が望まれてきた。
マン転位反応として公知である。例えば、シクロヘキサ
ノンオキシムの転位によるε−カプロラクタムの製造に
おいては、発煙硫酸が触媒として工業的に使用されてい
る。しかし発煙硫酸を用いる方法においては、大量の硫
酸アンモニウムが副生するという本質的な欠点のほかに
装置の腐食など工程上の問題も多く、効率的な転位用触
媒の開発が望まれてきた。
【0003】例えば、シリカ、アルミナまたはチタニア
に酸化ホウ素を担持した固体酸化物触媒、及びゼオライ
ト触媒が提案されているが、これらの固体触媒を転位反
応に用いる場合は、高温の気相反応条件を採用する必要
があるため、ε−カプロラクタム収率の低下、触媒の劣
化及びエネルギーコストの増大を伴い、工業的実施に問
題がある。
に酸化ホウ素を担持した固体酸化物触媒、及びゼオライ
ト触媒が提案されているが、これらの固体触媒を転位反
応に用いる場合は、高温の気相反応条件を採用する必要
があるため、ε−カプロラクタム収率の低下、触媒の劣
化及びエネルギーコストの増大を伴い、工業的実施に問
題がある。
【0004】一方、液相反応という比較的温和な反応条
件でシクロヘキサノンオキシムを転位させてε−カプロ
ラクタムを得る方法も幾つか知られている。一つは、N
,N−ジメチルホルムアミドとクロルスルホン酸の反応
で得られるイオン対(ビルスマイヤー錯体)を触媒とす
る方法である(M.A.Kira and Y.M.S
haker, Egypt.J.Chem., 16,
551(1973))。しかし、この方法は生成ラク
タムと触媒が1:1の錯体を形成するため、オキシムと
等モルの触媒を必要とすると記載されており、経済的と
は云えない。
件でシクロヘキサノンオキシムを転位させてε−カプロ
ラクタムを得る方法も幾つか知られている。一つは、N
,N−ジメチルホルムアミドとクロルスルホン酸の反応
で得られるイオン対(ビルスマイヤー錯体)を触媒とす
る方法である(M.A.Kira and Y.M.S
haker, Egypt.J.Chem., 16,
551(1973))。しかし、この方法は生成ラク
タムと触媒が1:1の錯体を形成するため、オキシムと
等モルの触媒を必要とすると記載されており、経済的と
は云えない。
【0005】本発明者は先に、エポキシ化合物と強酸(
三弗化ホウ素・エーテラート等)から得られるアルキル
化剤及びN,N−ジアルキルホルムアミドからなる触媒
を用いる液相ベックマン転位反応を報告した(Y.Iz
umi, Chemistry Letters, p
p.2171(1990))。この方法は優れた新しい
転位方法を開示しているが、転位触媒の成分として用い
るアルキル化剤にエポキシ化合物と強酸を必要とするな
ど、経済性や操作性の点で工業的には必ずしも満足し得
るものではない。
三弗化ホウ素・エーテラート等)から得られるアルキル
化剤及びN,N−ジアルキルホルムアミドからなる触媒
を用いる液相ベックマン転位反応を報告した(Y.Iz
umi, Chemistry Letters, p
p.2171(1990))。この方法は優れた新しい
転位方法を開示しているが、転位触媒の成分として用い
るアルキル化剤にエポキシ化合物と強酸を必要とするな
ど、経済性や操作性の点で工業的には必ずしも満足し得
るものではない。
【0006】また、特開昭62−149665号にはシ
クロヘキサノンオキシムをヘプタン溶媒中でリン酸触媒
を用いて転位させてε−カプロラクタムを製造する方法
が開示されているが、この方法ではオキシム1モルに対
して、約2倍モルもの大量のリン酸を触媒に用いる必要
があり、従って反応後アンモニア中和し、リン酸触媒を
複雑な工程を経て回収、再使用する旨記載されている。
クロヘキサノンオキシムをヘプタン溶媒中でリン酸触媒
を用いて転位させてε−カプロラクタムを製造する方法
が開示されているが、この方法ではオキシム1モルに対
して、約2倍モルもの大量のリン酸を触媒に用いる必要
があり、従って反応後アンモニア中和し、リン酸触媒を
複雑な工程を経て回収、再使用する旨記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の問題
点のない、液相条件下、温和な反応温度で、しかも量論
量以下の少量の触媒の存在下、オキシムを転位せしめて
アミドを製造する方法を提供することを目的とする。
点のない、液相条件下、温和な反応温度で、しかも量論
量以下の少量の触媒の存在下、オキシムを転位せしめて
アミドを製造する方法を提供することを目的とする。
【0008】本発明者らはオキシムをアミドへ転位する
ための触媒について鋭意研究を重ねてきた結果、N,N
−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミドまたはジ
アルキルスルホキシドから選ばれた少なくとも一種の化
合物及び五酸化リンの存在下にオキシムの転位反応を行
うと、反応が著しく促進されることを見いだし、本発明
に到達したものである。
ための触媒について鋭意研究を重ねてきた結果、N,N
−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミドまたはジ
アルキルスルホキシドから選ばれた少なくとも一種の化
合物及び五酸化リンの存在下にオキシムの転位反応を行
うと、反応が著しく促進されることを見いだし、本発明
に到達したものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明はN,
N−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミド及びジ
アルキルスルホキシドからなる群より選ばれた少なくと
も一種の化合物及び五酸化リンの存在下に反応させるこ
とを特徴とするオキシムの液相転位によるアミドの製造
法である。
N−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミド及びジ
アルキルスルホキシドからなる群より選ばれた少なくと
も一種の化合物及び五酸化リンの存在下に反応させるこ
とを特徴とするオキシムの液相転位によるアミドの製造
法である。
【0010】本発明に用いられるN,N−ジアルキルア
ミドとしては、炭素数1〜6の同一または異なるアルキ
ル基を窒素原子上に有するホルムアミドまたは炭素数1
〜6のカルボン酸アミドであり、具体的には、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド
、N,N−ジ−i−プロピルホルムアミド、N,N−ジ
ブチルホルムアミド、N,N−ジヘキシルホルムアミド
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルア
セトアミド、N,N−ジ−i−プロピルアセトアミド、
N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジメチル
酪酸アミド、N,N−ジメチルカプロン酸アミド等が挙
げられる。
ミドとしては、炭素数1〜6の同一または異なるアルキ
ル基を窒素原子上に有するホルムアミドまたは炭素数1
〜6のカルボン酸アミドであり、具体的には、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド
、N,N−ジ−i−プロピルホルムアミド、N,N−ジ
ブチルホルムアミド、N,N−ジヘキシルホルムアミド
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルア
セトアミド、N,N−ジ−i−プロピルアセトアミド、
N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジメチル
酪酸アミド、N,N−ジメチルカプロン酸アミド等が挙
げられる。
【0011】N−アルキル環状アミドとしては、炭素数
1〜6のアルキル基を窒素原子上に有する炭素数4〜6
の環状アミドであり、具体的には、N−メチルピロリド
ン、N−メチルピペリドン等を挙げることができる。
1〜6のアルキル基を窒素原子上に有する炭素数4〜6
の環状アミドであり、具体的には、N−メチルピロリド
ン、N−メチルピペリドン等を挙げることができる。
【0012】ジアルキルスルホキシドとしては、炭素数
1〜6の同一または異なるアルキル基を有するスルホキ
シドであり、具体的には、ジメチルスルホキシド、ジエ
チルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジヘキシ
ルスルホキシド等を挙げることができる。
1〜6の同一または異なるアルキル基を有するスルホキ
シドであり、具体的には、ジメチルスルホキシド、ジエ
チルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジヘキシ
ルスルホキシド等を挙げることができる。
【0013】本反応の活性は水分によって阻害されるの
で、上記の化合物は乾燥して用いられる。五酸化リンの
使用量は、特に制限されるものではないが、通常、オキ
シムの約0.1〜50モル%、好ましくは約1〜20モ
ル%の範囲である。
で、上記の化合物は乾燥して用いられる。五酸化リンの
使用量は、特に制限されるものではないが、通常、オキ
シムの約0.1〜50モル%、好ましくは約1〜20モ
ル%の範囲である。
【0014】本発明の方法は、ケトンオキシムのアミド
への転位に好ましく適用することができる。具体的なオ
キシムとしては、シクロヘキサノンオキシム、シクロペ
ンタノンオキシム、シクロドデカノンオキシム、2−ブ
タノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェ
ノンオキシムなどを挙げられる。これらの中で特に、シ
クロヘキサノンオキシムに好ましく適用出来る。
への転位に好ましく適用することができる。具体的なオ
キシムとしては、シクロヘキサノンオキシム、シクロペ
ンタノンオキシム、シクロドデカノンオキシム、2−ブ
タノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェ
ノンオキシムなどを挙げられる。これらの中で特に、シ
クロヘキサノンオキシムに好ましく適用出来る。
【0015】本発明において、五酸化リンとオキシムを
N,N−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミド及
びジアルキルスルホキシドからなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物と単に混合するだけで転位反応が進
行し、対応するアミドが得られる。添加順序の一例を挙
げるならば、N,N−ジアルキルアミド、N−アルキル
環状アミド及びジアルキルスルホキシドからなる群より
選ばれた少なくとも一種の化合物中に五酸化リンを添加
後、所定の反応温度に加熱し、オキシム溶液を滴下、反
応させる方法等が挙げられる。反応温度は、通常、約2
0〜200℃、好ましくは約30〜150℃である。反
応終了後、小量のアルカリを添加して触媒活性をうしな
わせる。反応生成物は蒸留等、通常の手段で反応液から
分離、精製取得することができる。
N,N−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミド及
びジアルキルスルホキシドからなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物と単に混合するだけで転位反応が進
行し、対応するアミドが得られる。添加順序の一例を挙
げるならば、N,N−ジアルキルアミド、N−アルキル
環状アミド及びジアルキルスルホキシドからなる群より
選ばれた少なくとも一種の化合物中に五酸化リンを添加
後、所定の反応温度に加熱し、オキシム溶液を滴下、反
応させる方法等が挙げられる。反応温度は、通常、約2
0〜200℃、好ましくは約30〜150℃である。反
応終了後、小量のアルカリを添加して触媒活性をうしな
わせる。反応生成物は蒸留等、通常の手段で反応液から
分離、精製取得することができる。
【0016】
【実施例】本発明を実施例を挙げて更に具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0017】実施例1
200mlの丸底フラスコを窒素置換後、乾燥したN,
N−ジメチルホルムアミド45mlと五酸化リン0.3
5g(2.5mmol)を添加し、60℃に加熱した。 次いでシクロヘキサノンオキシム8.0g(70.7m
mol)をN,N−ジメチルホルムアミド45mlに溶
解した液を60℃で60分間かかって滴下、反応した。 反応終了後、ガスクロマトグラフによる分析の結果、シ
クロヘキサノンオキシムの転化率は52.9%、ε−カ
プロラクタムの収率は48.1%(選択率は91.0%
)であった。生成ε−カプロラクタムの五酸化リン基準
での触媒ターンオーバー(TON)は13.8(mol
/mol)であった。
N−ジメチルホルムアミド45mlと五酸化リン0.3
5g(2.5mmol)を添加し、60℃に加熱した。 次いでシクロヘキサノンオキシム8.0g(70.7m
mol)をN,N−ジメチルホルムアミド45mlに溶
解した液を60℃で60分間かかって滴下、反応した。 反応終了後、ガスクロマトグラフによる分析の結果、シ
クロヘキサノンオキシムの転化率は52.9%、ε−カ
プロラクタムの収率は48.1%(選択率は91.0%
)であった。生成ε−カプロラクタムの五酸化リン基準
での触媒ターンオーバー(TON)は13.8(mol
/mol)であった。
【0018】実施例2〜4
実施例1に於ける反応温度を80℃、100℃、120
℃に変えた以外は実施例1と同様に反応を行った。得ら
れた結果を表1に示す。
℃に変えた以外は実施例1と同様に反応を行った。得ら
れた結果を表1に示す。
【0019】
【0020】実施例5
200mlの丸底フラスコを窒素置換後、乾燥したN,
N−ジメチルホルムアミド75mlと五酸化リン0.7
0g(5.0mmol)を添加し、95℃に加熱した。 次いでシクロヘキサノンオキシム8.0g(70.7m
mol)をN,N−ジメチルホルムアミド75mlに溶
解した液を95℃で60分間かかって滴下、反応した。 反応終了後、ガスクロマトグラフによる分析の結果、シ
クロヘキサノンオキシムの転化率は100%、ε−カプ
ロラクタムの収率は92.1%(選択率は92.1%)
であった。生成ε−カプロラクタムの五酸化リン基準で
の触媒ターンオーバーは13.0(mol/mol)で
あった。
N−ジメチルホルムアミド75mlと五酸化リン0.7
0g(5.0mmol)を添加し、95℃に加熱した。 次いでシクロヘキサノンオキシム8.0g(70.7m
mol)をN,N−ジメチルホルムアミド75mlに溶
解した液を95℃で60分間かかって滴下、反応した。 反応終了後、ガスクロマトグラフによる分析の結果、シ
クロヘキサノンオキシムの転化率は100%、ε−カプ
ロラクタムの収率は92.1%(選択率は92.1%)
であった。生成ε−カプロラクタムの五酸化リン基準で
の触媒ターンオーバーは13.0(mol/mol)で
あった。
【0021】実施例6〜10
200mlの丸底フラスコを窒素置換後、表2に示した
N,N−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミド又
はジアルキルスルホキシドを各々23mlと五酸化リン
0.35g(2.5mmol)を添加し、95℃に加熱
した。 次にシクロヘキサノンオキシム4.0g(35.4mm
ol)を各N,N−ジアルキルアミド系溶媒22mlに
溶解した液を95℃で60分間かかって滴下、反応した
。反応終了後、ガスクロマトグラフによる分析の結果を
表2に示した。
N,N−ジアルキルアミド、N−アルキル環状アミド又
はジアルキルスルホキシドを各々23mlと五酸化リン
0.35g(2.5mmol)を添加し、95℃に加熱
した。 次にシクロヘキサノンオキシム4.0g(35.4mm
ol)を各N,N−ジアルキルアミド系溶媒22mlに
溶解した液を95℃で60分間かかって滴下、反応した
。反応終了後、ガスクロマトグラフによる分析の結果を
表2に示した。
【0022】
【0023】実施例11〜13
200mlの丸底フラスコを窒素置換後、乾燥したN,
N−ジメチルホルムアミド23mlと五酸化リン0.1
8g(1.25mmol)を添加し、120℃に加熱し
た。 次いで表3に示した各種ケトンオキシム35.5mmo
lをN,N−ジメチルホルムアミド22mlに溶解した
液を120℃で30分間かかって滴下、反応した。反応
終了後、ガスクロマトグラフによる分析結果を表3に示
す。
N−ジメチルホルムアミド23mlと五酸化リン0.1
8g(1.25mmol)を添加し、120℃に加熱し
た。 次いで表3に示した各種ケトンオキシム35.5mmo
lをN,N−ジメチルホルムアミド22mlに溶解した
液を120℃で30分間かかって滴下、反応した。反応
終了後、ガスクロマトグラフによる分析結果を表3に示
す。
【0024】
Claims (4)
- 【請求項1】 N,N−ジアルキルアミド、N−アル
キル環状アミド及びジアルキルスルホキシドからなる群
より選ばれた少なくとも一種の化合物及び五酸化リンの
存在下に反応させることを特徴とするオキシムの液相転
位によるアミドの製造法。 - 【請求項2】 N,N−ジアルキルアミドがN,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド
、N,N−ジ−i−プロピルホルムアミド、N,N−ジ
ブチルホルムアミド、N,N−ジヘキシルホルムアミド
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルア
セトアミド、N,N−ジ−i−プロピルアセトアミド、
N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジメチル
酪酸アミドまたはN,N−ジメチルカプロン酸アミドで
ある請求項1記載のオキシムの液相転位によるアミドの
製造法。 - 【請求項3】 N−アルキル環状アミドがN−メチル
ピロリドンまたはN−メチルピペリドンである請求項1
記載のオキシムの液相転位によるアミドの製造法。 - 【請求項4】 ジアルキルスルホキシドがジメチルス
ルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホ
キシドまたはジヘキシルスルホキシドである請求項1記
載のオキシムの液相転位によるアミドの製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3116077A JP2652280B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | オキシムの液相転位によるアミドの製造法 |
| TW081103515A TW223622B (ja) | 1991-05-21 | 1992-05-05 | |
| DE69205623T DE69205623T2 (de) | 1991-05-21 | 1992-05-08 | Verfahren zur Herstellung von Amid durch Oximumlagerung in flüssiger Phase. |
| EP92304140A EP0515063B1 (en) | 1991-05-21 | 1992-05-08 | Process for producing amide by liquid phase rearrangement of oxime |
| US07/885,604 US5254684A (en) | 1991-05-21 | 1992-05-19 | Process for producing amide by liquid phase rearrangement of oxime |
| KR1019920008639A KR0183044B1 (ko) | 1991-05-21 | 1992-05-21 | 옥심의 액상 전위에 의한 아미드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3116077A JP2652280B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | オキシムの液相転位によるアミドの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04342570A true JPH04342570A (ja) | 1992-11-30 |
| JP2652280B2 JP2652280B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=14678144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3116077A Expired - Lifetime JP2652280B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | オキシムの液相転位によるアミドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2652280B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011037208A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 宇部興産株式会社 | 新規化合物およびそれを用いたアミド化合物の製造方法 |
-
1991
- 1991-05-21 JP JP3116077A patent/JP2652280B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011037208A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 宇部興産株式会社 | 新規化合物およびそれを用いたアミド化合物の製造方法 |
| US8624021B2 (en) | 2009-09-24 | 2014-01-07 | Ube Industries, Ltd. | Compound and process for producing amide compound therewith |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2652280B2 (ja) | 1997-09-10 |
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