JPH04343401A - Barium titanate porcelain semiconductor - Google Patents
Barium titanate porcelain semiconductorInfo
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- JPH04343401A JPH04343401A JP3115964A JP11596491A JPH04343401A JP H04343401 A JPH04343401 A JP H04343401A JP 3115964 A JP3115964 A JP 3115964A JP 11596491 A JP11596491 A JP 11596491A JP H04343401 A JPH04343401 A JP H04343401A
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、キュリー点以上の温度
において正の抵抗温度係数を有し、室温抵抗率が非常に
小さいことによる優れたPTC特性を有するチタン酸バ
リウム系磁器半導体に関するものである。[Field of Industrial Application] The present invention relates to a barium titanate-based ceramic semiconductor which has a positive temperature coefficient of resistance at temperatures above the Curie point and has excellent PTC characteristics due to extremely low room temperature resistivity. be.
【0002】0002
【従来の技術】希土類元素、タンタル、ビスマス、タン
グステン、銀、アンチモン等の酸化物をチタン酸バリウ
ム系磁器に添加することによって、正の抵抗温度係数(
PTC特性)を有する磁器半導体が得られることは従来
から知られている。また、例えば特開昭53−5988
8号公報等には、希土類元素、タンタル、ニオブ、また
はアンチモンを含有するチタン酸バリウム系磁器半導体
組成物に二酸化ケイ素を添加し、酸素の存在下で焼成す
ることによって磁器半導体組成物の電気特性が向上する
ことが記載されている。[Prior Art] By adding oxides of rare earth elements, tantalum, bismuth, tungsten, silver, antimony, etc. to barium titanate-based porcelain, a positive temperature coefficient of resistance (
It has been known for a long time that a ceramic semiconductor having PTC characteristics can be obtained. Also, for example, JP-A-53-5988
No. 8, etc., discloses that silicon dioxide is added to a barium titanate-based ceramic semiconductor composition containing rare earth elements, tantalum, niobium, or antimony, and the electrical properties of the ceramic semiconductor composition are determined by firing in the presence of oxygen. It is stated that this improves the
【0003】0003
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のチタン酸バリウム系磁器半導体は、キュリー点以上
の温度における抵抗率の立ち上がり幅が小さく、また、
室温における抵抗率が大きいため、電流容量の小さい回
路中に対応し得るような汎用性に優れた低抵抗PTC素
子が得難いという問題を生じている。[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-mentioned conventional barium titanate-based ceramic semiconductor has a small rise in resistivity at temperatures above the Curie point, and
Since the resistivity at room temperature is high, it is difficult to obtain a versatile low-resistance PTC element that can be used in a circuit with a small current capacity.
【0004】0004
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、キュリー点移動物質としてPbTiO3
を含むチタン酸バリウム系基体組成物に、半導体化剤と
して0.11モル%より多く、0.13モル%より少な
い範囲のSb2 O3 を含むことを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present invention provides PbTiO3 as a Curie point transfer substance.
The barium titanate base composition contains Sb2O3 as a semiconductor agent in a range of more than 0.11 mol% and less than 0.13 mol%.
【0005】[0005]
【作用】上記のようにキュリー点移動物質としてPbT
iO3 を含み、かつ、半導体化剤として0.11モル
%より多く、0.13モル%より少ない範囲のSb2
O3 を添加して作製することにより、室温における抵
抗率が非常に小さく、しかもキュリー点以上の温度にお
いて抵抗率の立ち上がり幅の大きい正の抵抗温度係数を
有するチタン酸バリウム系磁器半導体が得られる。この
結果、電流容量の小さい回路中に対応することが可能で
汎用性に優れた低抵抗PTC素子を得ることができる。[Action] As mentioned above, PbT is used as a Curie point transfer substance.
Sb2 containing iO3 and in a range of more than 0.11 mol% and less than 0.13 mol% as a semiconducting agent
By adding O3, a barium titanate-based ceramic semiconductor can be obtained which has a very small resistivity at room temperature and a positive temperature coefficient of resistance with a large rise in resistivity at temperatures above the Curie point. As a result, it is possible to obtain a low-resistance PTC element that can be used in a circuit with a small current capacity and has excellent versatility.
【0006】[0006]
〔実施例1〕無水炭酸バリウム(BaCO3 、堺化学
社製高純度品)、高純度二酸化チタン(TiO2 、東
邦チタニウム社製)、酸化鉛(PbO、日本化学社製リ
サージ1号)、炭酸マンガン(MnCO3 、和光純薬
社製、99.9%)、二酸化ケイ素(SiO2 )、酸
化アンチモン(Sb2 O3 、レアメタリック社製、
99.9%)を出発原料として以下の組成となるように
配合した。[Example 1] Anhydrous barium carbonate (BaCO3, high-purity product manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.), high-purity titanium dioxide (TiO2, manufactured by Toho Titanium Co., Ltd.), lead oxide (PbO, Resurge No. 1 manufactured by Nippon Kagaku Co., Ltd.), manganese carbonate ( MnCO3, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 99.9%), silicon dioxide (SiO2), antimony oxide (Sb2 O3, manufactured by Rare Metallic Co., Ltd.,
99.9%) was used as a starting material and blended to have the following composition.
【0007】
(Ba0.95Pb0.05)TiO3+0.
0005MnO2+0.005SiO2 +0.001
2Sb2O3
すなわち、上記式に示されているように、キュリー点移
動物質としてPbTiO3 を5モル%、鉱化剤として
MnO2 を0.05モル%、異常粒成長抑制剤として
二酸化ケイ素を0.5モル%、そして、半導体化剤とし
てのSb2 O3 を0.12モル%それぞれ含有する
ように配合した。(Ba0.95Pb0.05)TiO3+0.
0005MnO2+0.005SiO2 +0.001
2Sb2O3 That is, as shown in the above formula, 5 mol% of PbTiO3 as a Curie point transfer substance, 0.05 mol% of MnO2 as a mineralizer, and 0.5 mol% of silicon dioxide as an abnormal grain growth inhibitor. and 0.12 mol% of Sb2O3 as a semiconducting agent.
【0008】配合後の原料1キログラムを、内容積5リ
ットルのナイロン製ボールミルに、メノウボール(直径
25mm)40個とイオン交換水3リットルと共に入れ
、24時間混合した。混合終了後、濾過し、130℃で
16時間乾燥した。その後、乾燥混合物を内径45mm
、高さ65mmの成形用金型に充填し、150kg/c
m2 の圧力で加圧成形した後180℃/minの昇温
速度で1150℃まで昇温し、1150℃で2時間仮焼
した。[0008] One kilogram of the raw materials after blending was put into a nylon ball mill having an internal volume of 5 liters, together with 40 agate balls (diameter 25 mm) and 3 liters of ion-exchanged water, and mixed for 24 hours. After the mixing was completed, the mixture was filtered and dried at 130° C. for 16 hours. Then, the dry mixture was cut into a 45 mm inner diameter
, filled into a mold with a height of 65 mm, 150 kg/c
After pressure molding at a pressure of m2, the temperature was raised to 1150°C at a rate of 180°C/min, and calcined at 1150°C for 2 hours.
【0009】その後、仮焼物を乳鉢で粉砕した後、11
9メッシュのふるいを通して分級し、粉末を成形用金型
(内径12.5mm、高さ35mm)に入れ、1トン/
cm2 の圧力で加圧成形し、その成形物を次の条件に
て焼成した。
〔温度範囲〕 〔昇温また
は降温の条件〕室温〜800℃
145℃/hの昇温800℃
2時間保持800〜1360℃
150℃/hの昇温1360℃
15分間保持13
60〜1000℃ 360℃/hの降温
1000〜550℃ 245℃/h
の降温550℃
温度コントロールの終了焼成後の試料は室温に冷却
した後、錠剤状成形物の円盤面にオーミック性の銀電極
(デグサ社製)を塗布し、580℃で5分間焼付けて電
極を形成した。さらに、その電極上にカバー電極(デグ
サ社製)を塗布し、560℃で5分間焼付けを行って、
チタン酸バリウム系磁器半導体の試料を得た。[0009] Then, after crushing the calcined product in a mortar,
The powder was classified through a 9-mesh sieve, put into a mold (inner diameter 12.5 mm, height 35 mm), and 1 ton/h
Pressure molding was performed at a pressure of cm2, and the molded product was fired under the following conditions. [Temperature range] [Temperature raising or lowering conditions] Room temperature to 800℃
Temperature increase 800℃ at 145℃/h
Hold for 2 hours 800-1360℃
Temperature increase 1360℃ at 150℃/h
Hold for 15 minutes 13
60~1000℃ 360℃/h Temperature drop 1000~550℃ 245℃/h
Temperature drop of 550℃
After the sample after completion of temperature control firing was cooled to room temperature, an ohmic silver electrode (manufactured by Degussa) was applied to the disk surface of the tablet-shaped molded product and baked at 580° C. for 5 minutes to form an electrode. Furthermore, a cover electrode (manufactured by Degussa) was applied on the electrode, and baked at 560°C for 5 minutes.
A sample of barium titanate ceramic semiconductor was obtained.
【0010】この試料のキュリー点は148℃であり、
抵抗の立ち上がり幅は3.8桁であった。また試料の室
温における抵抗率は4.6Ω・cmであった。抵抗−温
度特性の測定結果を図1中のaの曲線にて示している。[0010] The Curie point of this sample is 148°C,
The rise width of the resistance was 3.8 orders of magnitude. Further, the resistivity of the sample at room temperature was 4.6 Ω·cm. The measurement results of the resistance-temperature characteristics are shown by the curve a in FIG.
【0011】〔実施例2〕無水炭酸バリウム(BaCO
3 、堺化学社製高純度品)、高純度二酸化チタン(T
iO2 、東邦チタニウム社製)、酸化鉛(PbO、日
本化学社製リサージ1号)、炭酸マンガン(MnCO3
、和光純薬社製、99.9%)、二酸化ケイ素(Si
O2 )、酸化アンチモン(Sb2 O3 、レアメタ
リック社製、99.9%)を出発原料として以下の組成
となるように配合した。[Example 2] Anhydrous barium carbonate (BaCO
3, high-purity product manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.), high-purity titanium dioxide (T
iO2, manufactured by Toho Titanium Co., Ltd.), lead oxide (PbO, Resurge No. 1 manufactured by Nippon Kagaku Co., Ltd.), manganese carbonate (MnCO3)
, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 99.9%), silicon dioxide (Si
O2) and antimony oxide (Sb2O3, manufactured by Rare Metallic Co., Ltd., 99.9%) were blended as starting materials to have the following composition.
【0012】
(Ba0.95Pb0.05)TiO3+0.
0005MnO2+0.005SiO2 +0.001
25Sb2O3
上記の配合で、実施例1と同様な操作でチタン酸バリウ
ム系磁器半導体を作製した。焼成後の試料に実施例1と
同様に電極を形成し、電気特性を測定した。(Ba0.95Pb0.05)TiO3+0.
0005MnO2+0.005SiO2 +0.001
25Sb2O3 A barium titanate-based ceramic semiconductor was produced using the above-mentioned formulation and the same operations as in Example 1. Electrodes were formed on the fired sample in the same manner as in Example 1, and the electrical properties were measured.
【0013】この試料のキュリー点は145℃であり、
抵抗の立ち上がり幅は3.5桁であった。また、試料の
室温における抵抗率は3.7Ω・cmであった。抵抗−
温度特性の測定結果を図1中のbの曲線にて示している
。[0013] The Curie point of this sample is 145°C,
The rise width of the resistance was 3.5 orders of magnitude. Further, the resistivity of the sample at room temperature was 3.7 Ω·cm. Resistance-
The measurement results of the temperature characteristics are shown by the curve b in FIG.
【0014】〔比較例1〕無水炭酸バリウム(BaCO
3 、堺化学社製高純度品)、高純度二酸化チタン(T
iO2 、東邦チタニウム社製)、酸化鉛(PbO、日
本化学社製リサージ1号)、炭酸マンガン(MnCO3
、和光純薬社製、99.9%)、二酸化ケイ素(Si
O2 )、酸化アンチモン(Sb2 O3 、レアメタ
リック社製、99.9%)を出発原料として以下の組成
となるように配合した。[Comparative Example 1] Anhydrous barium carbonate (BaCO
3, high-purity product manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.), high-purity titanium dioxide (T
iO2, manufactured by Toho Titanium Co., Ltd.), lead oxide (PbO, Resurge No. 1 manufactured by Nippon Kagaku Co., Ltd.), manganese carbonate (MnCO3)
, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 99.9%), silicon dioxide (Si
O2) and antimony oxide (Sb2O3, manufactured by Rare Metallic Co., Ltd., 99.9%) were blended as starting materials to have the following composition.
【0015】
(Ba0.95Pb0.05)TiO3+
0.0005MnO2+0.005SiO2 +0.0
011Sb2O3
上記の配合で、実施例1と同様な操作でチタン酸バリウ
ム系磁器半導体を作製した。焼成後の試料に実施例1と
同様に電極を形成し、電気特性を測定した。(Ba0.95Pb0.05)TiO3+
0.0005MnO2+0.005SiO2 +0.0
011Sb2O3 A barium titanate-based ceramic semiconductor was produced using the above-mentioned formulation and the same operations as in Example 1. Electrodes were formed on the fired sample in the same manner as in Example 1, and the electrical properties were measured.
【0016】この試料のキュリー点は145℃であり、
抵抗の立ち上がり幅は3.2桁であった。また、試料の
室温における抵抗率は12.5Ω・cmであった。抵抗
−温度特性の測定結果を図1中のcの曲線にて示してい
る。[0016] The Curie point of this sample is 145°C,
The resistance rise width was 3.2 digits. Further, the resistivity of the sample at room temperature was 12.5 Ω·cm. The measurement results of the resistance-temperature characteristics are shown by the curve c in FIG.
【0017】〔比較例2〕無水炭酸バリウム(BaCO
3 、堺化学社製高純度品)、高純度二酸化チタン(T
iO2 、東邦チタニウム社製)、酸化鉛(PbO、日
本化学社製リサージ1号)、炭酸マンガン(MnCO3
、和光純薬社製、99.9%)、二酸化ケイ素(Si
O2 )、酸化アンチモン(Sb2 O3 、レアメタ
リック社製、99.9%)を出発原料として以下の組成
となるように配合した。[Comparative Example 2] Anhydrous barium carbonate (BaCO
3, high-purity product manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.), high-purity titanium dioxide (T
iO2, manufactured by Toho Titanium Co., Ltd.), lead oxide (PbO, Resurge No. 1 manufactured by Nippon Kagaku Co., Ltd.), manganese carbonate (MnCO3)
, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 99.9%), silicon dioxide (Si
O2) and antimony oxide (Sb2O3, manufactured by Rare Metallic Co., Ltd., 99.9%) were blended as starting materials to have the following composition.
【0018】
(Ba0.95Pb0.05)TiO3+
0.0005MnO2+0.005SiO2 +0.0
013Sb2O3
上記の配合で、実施例1と同様な操作でチタン酸バリウ
ム系磁器半導体を作製した。焼成後の試料に実施例1と
同様に電極を形成し、電気特性を測定した。(Ba0.95Pb0.05)TiO3+
0.0005MnO2+0.005SiO2 +0.0
013Sb2O3 A barium titanate-based ceramic semiconductor was produced using the above-mentioned formulation and the same operations as in Example 1. Electrodes were formed on the fired sample in the same manner as in Example 1, and the electrical properties were measured.
【0019】この試料の室温における抵抗率は3400
Ω・cmであった。The resistivity of this sample at room temperature is 3400
It was Ωcm.
【0020】以上実施例1、実施例2、比較例1、比較
例2の結果を整理すると、表1に示すようになる。Table 1 summarizes the results of Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2.
【0021】[0021]
【表1】[Table 1]
【0022】表1から明らかなように、半導体化剤とし
てチタン酸バリウム系基体組成物にSb2 O3 を添
加することによって、室温における抵抗率を非常に小さ
くすることができる。しかし、Sb2 O3 の添加量
が、0.11モル%より少ない場合、または、0.13
モル%よりも多い場合には室温における抵抗率は大きく
なってしまう。したがって、半導体化剤としてのSb2
O3 の添加量は、PbTiO3 をキュリー点移動
物質として含むチタン酸バリウム系磁器半導体において
、0.11モル%より多く、0.13モル%より少ない
範囲とすることによって、室温抵抗率が非常に小さく、
かつ、抵抗率の立ち上がり幅の大きい優れたPTC特性
を有するチタン酸バリウム系磁器半導体が得られること
が明らかとなった。As is clear from Table 1, by adding Sb2O3 to the barium titanate base composition as a semiconductor agent, the resistivity at room temperature can be made extremely low. However, if the amount of Sb2O3 added is less than 0.11 mol%, or 0.13
If the amount is more than mol %, the resistivity at room temperature will increase. Therefore, Sb2 as a semiconducting agent
By setting the amount of O3 added in a range of more than 0.11 mol% and less than 0.13 mol% in a barium titanate ceramic semiconductor containing PbTiO3 as a Curie point transfer substance, the room temperature resistivity can be extremely small. ,
Moreover, it has been revealed that a barium titanate-based ceramic semiconductor having excellent PTC characteristics with a wide rise in resistivity can be obtained.
【0023】なお、チタン酸バリウム系磁器半導体の試
料の諸物性の測定方法について説明すれば、以下の通り
である。The method for measuring the physical properties of a barium titanate-based ceramic semiconductor sample will be described below.
【0024】(1)キュリー点の測定
チタン酸バリウム系磁器半導体の試料を測定用の試料ホ
ルダーに取りつけ、測定槽〔MINI−SUBZERO
MC−810P タバイ エスペック社製〕内に
装着して、−50℃から190℃までの温度変化に対す
る試料の電気抵抗の変化を直流抵抗計(マルチメーター
3478A YHP製)を用いて測定する。測定により
得られた電気抵抗−温度プロットにより、抵抗値が室温
における抵抗値の2倍になるときの温度をキュリー点と
する。(1) Measurement of Curie point A barium titanate ceramic semiconductor sample is attached to a sample holder for measurement, and placed in a measurement tank [MINI-SUBZERO].
MC-810P manufactured by Tabai Espec Co., Ltd.], and the change in electrical resistance of the sample with respect to temperature changes from -50°C to 190°C is measured using a DC resistance meter (Multimeter 3478A manufactured by YHP). Based on the electrical resistance-temperature plot obtained by measurement, the temperature at which the resistance value becomes twice the resistance value at room temperature is defined as the Curie point.
【0025】(2)室温抵抗率の測定
チタン酸バリウム系磁器半導体の試料を25℃の測定槽
において、直流抵抗計(マルチメーター3478A Y
HP製)を用いて電気抵抗を測定する。チタン酸バリウ
ム系磁器半導体の試料の調整において、電極塗布前に試
料の大きさ(径及び厚さ)を測定しておき、次式により
比抵抗(ρ)を算出し、これを抵抗率とする。
ρ=R・S/t
ρ: 比抵抗(抵抗率) 〔Ω・cm〕R
: 電気抵抗の測定値 〔Ω〕S: 電
極の面積 〔cm2 〕t:
試料の厚さ 〔cm〕(3)
抵抗率の立ち上がり幅の測定
キュリー点の測定の温度変化(−50℃から190℃)
に対する試料の電気抵抗の変化の測定を、さらに200
℃を超える温度まで続行し、その抵抗率−温度プロット
において、キュリー点における電気抵抗の急激な立ち上
がりのときの抵抗率と200℃における抵抗率とを比較
して、その桁数の対数比を抵抗率の立ち上がり幅とする
。(2) Measurement of room temperature resistivity A barium titanate ceramic semiconductor sample was placed in a measurement tank at 25°C using a DC resistance meter (Multimeter 3478A Y).
The electrical resistance is measured using a 100% HP (manufactured by HP) product. When preparing a barium titanate ceramic semiconductor sample, measure the size (diameter and thickness) of the sample before applying the electrode, calculate the specific resistance (ρ) using the following formula, and use this as the resistivity. . ρ=R・S/t ρ: Specific resistance (resistivity) [Ω・cm]R
: Measured value of electrical resistance [Ω] S: Area of electrode [cm2] t:
Sample thickness [cm] (3)
Measurement of rise width of resistivity Temperature change in measurement of Curie point (-50℃ to 190℃)
Measurement of the change in electrical resistance of the sample was further carried out for 200
℃, and in the resistivity-temperature plot, compare the resistivity when the electrical resistance suddenly rises at the Curie point and the resistivity at 200℃, and calculate the logarithmic ratio of that order of magnitude as the resistance. This is the rise width of the rate.
【0026】なお、本発明に係わる上記のように作製さ
れた各実施例のチタン酸バリウム系磁器半導体は、室温
での抵抗率が小さいので、電気容量の小さい回路におけ
る低抵抗PTC素子として使用することができ、例えば
温度ヒューズ、スイッチング電源のコンパレータ等とし
て使用することができる。また、キュリー点移動物質と
して添加した5モル%のPbTiO3 により、キュリ
ー点が140℃付近にあることから、140℃付近をス
イッチング温度とするヒーター用素子としても応用でき
る。さらに上記以外にも電解コンデンサーの保護回路、
カラーテレビ自動消磁装置、自動車等のモータ起動装置
、電子機器の加熱防止装置、遅延素子、タイマ、液面計
、無接点スイッチ、リレー接点保護装置などに利用する
ことが可能である。It should be noted that the barium titanate-based ceramic semiconductor of each of the embodiments according to the present invention manufactured as described above has a low resistivity at room temperature, so it can be used as a low resistance PTC element in a circuit with a small capacitance. For example, it can be used as a thermal fuse, a comparator for a switching power supply, etc. Furthermore, since the Curie point is around 140°C due to 5 mol % of PbTiO3 added as a Curie point shifting substance, it can also be applied as a heater element with a switching temperature around 140°C. In addition to the above, there are protection circuits for electrolytic capacitors,
It can be used in automatic color TV degaussing devices, motor starting devices for automobiles, heating prevention devices for electronic equipment, delay elements, timers, liquid level gauges, non-contact switches, relay contact protection devices, etc.
【0027】[0027]
【発明の効果】本発明に係わるチタン酸バリウム系磁器
半導体は、以上のように、キュリー点移動物質としてP
bTiO3 、チタン酸バリウム系基体組成物に対して
0.11モル%より多く、0.13モル%より少ないS
b2 O3 を半導体化剤として含む構成である。Effects of the Invention As described above, the barium titanate-based ceramic semiconductor according to the present invention has P as a Curie point moving substance.
bTiO3, more than 0.11 mol% and less than 0.13 mol% S based on barium titanate based substrate composition
This structure includes b2 O3 as a semiconductor agent.
【0028】これにより、キュリー点以上の温度におい
て正の抵抗温度係数を有すると共に、室温での抵抗率が
より小さく、かつ、抵抗率の立ち上がり幅の大きいチタ
ン酸バリウム系磁器半導体が作製されるので、電流容量
の小さい回路中に対応することが可能で汎用性に優れた
低抵抗PTC素子を得ることができるという効果を奏す
る。[0028] As a result, a barium titanate-based ceramic semiconductor having a positive temperature coefficient of resistance at temperatures above the Curie point, a smaller resistivity at room temperature, and a wide rise in resistivity can be produced. This has the effect that it is possible to obtain a low-resistance PTC element that can be used in a circuit with a small current capacity and has excellent versatility.
【図1】本発明に係わるチタン酸バリウム系磁器半導体
における比抵抗温度特性の測定結果を示すグラフである
。FIG. 1 is a graph showing measurement results of resistivity temperature characteristics of a barium titanate-based ceramic semiconductor according to the present invention.
Claims (1)
を含むチタン酸バリウム系基体組成物に、半導体化剤と
して0.11モル%より多く、0.13モル%より少な
い範囲のSb2 O3 を含むことを特徴とするチタン
酸バリウム系磁器半導体。Claim 1: PbTiO3 as a Curie point transfer substance
A barium titanate-based ceramic semiconductor, characterized in that the barium titanate-based substrate composition contains Sb2O3 as a semiconductor agent in a range of more than 0.11 mol% and less than 0.13 mol%.
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| JP3115964A JP2613323B2 (en) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | Barium titanate-based porcelain semiconductor |
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| JP3115964A JP2613323B2 (en) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | Barium titanate-based porcelain semiconductor |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04343401A true JPH04343401A (en) | 1992-11-30 |
| JP2613323B2 JP2613323B2 (en) | 1997-05-28 |
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