JPH0434447B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0434447B2
JPH0434447B2 JP15422885A JP15422885A JPH0434447B2 JP H0434447 B2 JPH0434447 B2 JP H0434447B2 JP 15422885 A JP15422885 A JP 15422885A JP 15422885 A JP15422885 A JP 15422885A JP H0434447 B2 JPH0434447 B2 JP H0434447B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
collective
gas treatment
guide chamber
piping
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP15422885A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6214927A (ja
Inventor
Naokuni Takemoto
Tomoaki Okamura
Hiromi Tsuno
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan, Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
Priority to JP15422885A priority Critical patent/JPS6214927A/ja
Publication of JPS6214927A publication Critical patent/JPS6214927A/ja
Publication of JPH0434447B2 publication Critical patent/JPH0434447B2/ja
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガスを各ガス処理装置へ送つて処理し
たのち、集めて、他の工程へ排出する集合ガス処
理装置の改良に関するものである。
(従来の技術) 従来の集合ガス処理装置には、例えば(i)特開昭
54−158596号公報に記載のもの、(ii)特公昭55−
25893号公報に記載のものがある。前記(i)の集合
ガス処理装置は、複数台のガス処理装置を連絡す
るガス配管を集合ガス処理装置の内部に設けたも
のであり、前記(ii)の集合ガス処理装置は、複数台
のガス処理装置を連絡するガス配管を集合ガス処
理装置の外部に設けたものである。
また従来の集合ガス処理装置のさらに他の例と
しては、、(iii)特開昭57−113830号公報に記載のも
のがある。この集合ガス処理装置は、集合ガス処
理装置の上部にガス配管を設け、さらに同ガス配
管と複数台のガス処理装置とを同ガス配管から分
かれた複数の分岐配管により接続したものであ
る。
(発明が解決しようとする問題点) 前記(i)の集合ガス処理装置は、複数種類のガス
配管のための空間部を必要としており、集合ガス
処理装置の全体が大型化して、製作コストが高く
なる。また前記(ii)の集合ガス処理装置は、集合ガ
ス処理装置外で大気中で接続する必要があつて、
厳密にシールしなければならない上に、接続個所
が多くて、製作コストが高くなる。また前記(iii)の
集合ガス処理装置は、集合ガス処理装置上部のガ
ス配管から分かれた複数の分岐配管におけるガス
の通路抵抗が大きい。またこのガスの通路抵抗を
低減するために、分岐配管の径を大きくすると集
合ガス処理装置の全体が大型化して、製作コスト
が高くなるという問題があつた。
また従来の集合ガス処理装置では、カスケード
状に配置する場合、第4,5図に示すように、各
ガス処理装置1からガス配管2a,2b,2cを
延設して、同各ガス配管2a,2b,2cを各ガ
ス配管3a,3b,3cに接続しているが、この
場合には、集合ガス処理装置の据付スペースの全
域にわたりガス配管を必要とするために、ガス配
管の製作費及び据付費が嵩むという問題があつ
た。
(問題点を解決するための手段) 本発明は前記の問題点に対処するもので、集合
容器の内部に複数台のガス処理装置を収納した集
合ガス処理装置において、前記集合容器の上部を
共通のカバーにより覆つて同カバーと前記各ガス
処理装置との間にガス案内室を形成し、同ガス案
内室の内部に1つ以上の集合ガス室を設けて、同
集合ガス室と前記各ガス処理装置とを前記ガス案
内室の内部に配設した内部配管及び連絡口を介し
て接続したことを特徴とする集合ガス処理装置に
係わり、その目的とする処は、製作コストを低減
できる。据付面積を節減できる。さらに信頼性を
向上できる改良された集合ガス処理装置を供する
点にある。
(実施例) 次に本発明の集合ガス処理装置を第1図に示す
一実施例により説明すると、1′が複数台のガス
処理装置、4が同各ガス処理装置1′を収納した
集合容器、8aが両端部のガス処理装置1′を除
く他の各ガス処理装置1′の上端開口部を覆うフ
ランジ、8b,8cは両端部のガス処理装置1′
の上端開口部を覆うフランジ、5が同集合容器4
の上部を覆うカバーで、同カバー5と上記集合容
器4との間は溶接等によりシールされ、また同カ
バー5と上記各ガス処理装置1′のフランジ8a,
8b,8cとの間にガス案内室6aが形成されて
いる。同ガス案内室6aの内部のうち、両端部の
ガス処理装置1′のフランジ8b,8cの真上に
は、同フランジ8b,8cと上部仕切板7b,7
cとにより集合ガス室6b,6cが形成されてい
る。また8a′,8a″,8aが両端部のガス処理
装置1′を除く他の各ガス処理装置1′の上端開口
部を覆うフランジ8aに設けたガス通路、8b′,
8b″,8bが一端部のガス処理装置1′の上端
開口部を覆うフランジ8bに設けたガス通路、8
c′,8c″,8cが他端部のガス処理装置1′の
上端開口部を覆うフランジ8cに設けたガス通
路、9b,9cが上記集合ガス室6bの内部に設
けた内部配管、10aが上記ガス案内室6aに開
口した集合ガス配管の入口管、11b,11cが
上記集合ガス室6b,6cから延びた集合ガス配
管の出口管である。また第2,3図は、上記第1
図の集合ガス処理装置12をカスケード配置した
場合の配管図で、10が各集合ガス処理装置12
を接続する集合ガス配管である。
(作用) 次に前記第1,2,3図の集合ガス処理装置の
作用を説明する。集合ガス配管10の入口管11
aからガス案内室6aへ供給されたガスは、同ガ
ス案内室6a内を流れて、各ガス処理装置1′の
ガス通路8a′,8b′,8c′から同各ガス処理装置
1′内へ供給され、また同各ガス処理装置1′で処
理されたガスは、同各ガス処理装置1′の8a′,
8a,8b″,8b,8c″,8cから内部配
管9a及び9b内を流れて集合ガス室6b,6c
に集約され、さらに外部配管11b及び11cか
ら他のガス処理装置1′へ供給される。
(発明の効果) 本発明は前記のように集合容器の内部に複数台
のガス処理装置を収納した集合ガス処理装置にお
いて、前記集合容器の上部を共通のカバーにより
覆つて同カバーと前記各ガス処理装置との間にガ
ス案内室を形成し、同ガス案内室の内部に1つ以
上の集合ガス室を設けて、同集合ガス室と前記各
ガス処理装置とを前記ガス案内室の内部に配設し
た内部配管及び連絡口を介して接続しており、同
内部配管及び連絡口を介して接続しており、同内
部配管が上記ガス案内室の内部にあつて、同内部
配管の内部と外部とに圧力差が生ぜず、同内部配
管の接続を厳密なシールを必要とせずに接続でき
て、製作コストを低減できる。また前記集合容器
の上部を共通のカバーにより覆つて同カバーと前
記各ガス処理装置との間に、ガスの流路抵抗の小
さいガス案内室(ガス通路)を設けており、集合
ガス処理装置をカスケード配置にした場合に、集
合ガス処理装置間のガス配管を第2,3図に示す
ように簡略化できて、カスケード当りのガス配管
数を従来に比べ減少できて、この点でも製作コス
トを低減できる。また上記のようにカスケード当
たりのガス配管数を従来に比べ減少できるので、
集合ガス処理装置の配置を稠密化できて、据付面
積を節減できる。またガス配管の接続部の数が減
少するので、集合ガス処理装置の信頼性を向上で
きる効果がある。
以上本発明を実施例について説明したが、勿論
本発明はこのような実施例にだけ局限されるもの
ではなく、本発明の精神を逸脱しない範囲で種々
の設計の改変を施しうるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わる集合ガス処理装置の一
実施例を示す縦断側面図、第2図は同集合ガス処
理装置をカスケード構成にした場合の配管系統
図、第3図は第2図の矢視−線に沿う側面
図、第4図は従来の集合ガス処理装置を示す側面
図、第5図は第4図の矢視−線に沿う側面図
である。 1′……ガス処理装置、5……カバー、6a…
…ガス案内室、6b,6c……集合ガス室、8
a′,8a″,8a,8b′,8b″,8b,8c′,
8c″,8c……連絡口、9b,9c……内部配
管。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 集合容器の内部に複数台のガス処理装置を収
    納した集合ガス処理装置において、前記集合容器
    の上部を共通のカバーにより覆つて同カバーと前
    記各ガス処理装置との間にガス案内室を形成し、
    同ガス案内室の内部に1つ以上の集合ガス室を設
    けて、同集合ガス室と前記各ガス処理装置とを前
    記ガス案内室の内部に配設した内部配管及び連絡
    口を介して接続したことを特徴とする集合ガス処
    理装置。
JP15422885A 1985-07-15 1985-07-15 集合ガス処理装置 Granted JPS6214927A (ja)

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JP15422885A JPS6214927A (ja) 1985-07-15 1985-07-15 集合ガス処理装置

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JP15422885A JPS6214927A (ja) 1985-07-15 1985-07-15 集合ガス処理装置

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Publication Number Publication Date
JPS6214927A JPS6214927A (ja) 1987-01-23
JPH0434447B2 true JPH0434447B2 (ja) 1992-06-08

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JP15422885A Granted JPS6214927A (ja) 1985-07-15 1985-07-15 集合ガス処理装置

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US6159644A (en) * 1996-03-06 2000-12-12 Hitachi, Ltd. Method of fabricating semiconductor circuit devices utilizing multiple exposures

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JPS6214927A (ja) 1987-01-23

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