JPH04345734A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル及びその製造方法Info
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- JPH04345734A JPH04345734A JP11719791A JP11719791A JPH04345734A JP H04345734 A JPH04345734 A JP H04345734A JP 11719791 A JP11719791 A JP 11719791A JP 11719791 A JP11719791 A JP 11719791A JP H04345734 A JPH04345734 A JP H04345734A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネルおよびその製造方法に関する。
パネルおよびその製造方法に関する。
【０００２】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は
、表示の輝度及びコントラストの点で優れることから、
ＯＡ機器の表示手段などとして広く用いられている。こ
のようなＰＤＰにおいて表示の視認性をさらに向上させ
ることが望まれている。
、表示の輝度及びコントラストの点で優れることから、
ＯＡ機器の表示手段などとして広く用いられている。こ
のようなＰＤＰにおいて表示の視認性をさらに向上させ
ることが望まれている。
【０００３】
【従来の技術】ＰＤＰは、放電空間を介して対向する一
対のガラス基板、及び放電セルを画定する電極群などか
ら構成され、放電セルで生じるガス放電によって表示を
行う。
対のガラス基板、及び放電セルを画定する電極群などか
ら構成され、放電セルで生じるガス放電によって表示を
行う。
【０００４】特に高精細のＰＤＰでは、電極の形成に際
して、高精度のパターンを得るために薄膜法が用いられ
ている。すなわち、電極は、スパッタリング蒸着などに
よって形成した蒸着膜（薄膜）をフォトリソグラフィ法
を用いてパターンニングすることによって形成される。
して、高精度のパターンを得るために薄膜法が用いられ
ている。すなわち、電極は、スパッタリング蒸着などに
よって形成した蒸着膜（薄膜）をフォトリソグラフィ法
を用いてパターンニングすることによって形成される。
【０００５】一般には、電極として、電気的特性及びガ
ラス基板などとの密着性に優れたクロムー銅ークロムの
三層構造の金属薄膜が用いられている。
ラス基板などとの密着性に優れたクロムー銅ークロムの
三層構造の金属薄膜が用いられている。
【０００６】なお、表示面側のガラス基板上の電極とし
て、ネサ膜やＩＴＯ膜などからなる透明電極を設ける場
合もあるが、その場合には、透明電極の導電性を補うた
めの補助電極（バス電極）として、細い幅の金属蒸着膜
が透明電極に重ねて設けられる。
て、ネサ膜やＩＴＯ膜などからなる透明電極を設ける場
合もあるが、その場合には、透明電極の導電性を補うた
めの補助電極（バス電極）として、細い幅の金属蒸着膜
が透明電極に重ねて設けられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述にしたように金属
蒸着膜からなる電極（バス電極を含む）は、その表面が
光沢のある鏡面となる。
蒸着膜からなる電極（バス電極を含む）は、その表面が
光沢のある鏡面となる。
【０００８】したがって、表示面側のガラス基板の内面
上に電極を有したＰＤＰでは、表示面からみてガラス基
板の直下に電極が配置されることから、電極の表面での
外光の反射によって、表示面内で電極部分が放電による
発光とは無関係に輝いてしまい、そのために表示の視認
性が損なわれるという問題があった。
上に電極を有したＰＤＰでは、表示面からみてガラス基
板の直下に電極が配置されることから、電極の表面での
外光の反射によって、表示面内で電極部分が放電による
発光とは無関係に輝いてしまい、そのために表示の視認
性が損なわれるという問題があった。
【０００９】本発明は、上述の問題に鑑み、外光の反射
による表示の視認性の低下を防止することを目的として
いる。
による表示の視認性の低下を防止することを目的として
いる。
【００１０】また、請求項２の発明は、表示の視認性の
低下を防止したＰＤＰを効率的に製造することを目的と
している。
低下を防止したＰＤＰを効率的に製造することを目的と
している。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係るＰ
ＤＰは、上述の課題を解決するため、図１に示すように
、表示面Ｈ側の基板１１の内面上に金属蒸着膜からなる
電極１３を有したプラズマディスプレイパネル１におい
て、前記電極１３の前記表示面Ｈ側に、当該電極１３に
重ねて光吸収層４０が設けられてなる。
ＤＰは、上述の課題を解決するため、図１に示すように
、表示面Ｈ側の基板１１の内面上に金属蒸着膜からなる
電極１３を有したプラズマディスプレイパネル１におい
て、前記電極１３の前記表示面Ｈ側に、当該電極１３に
重ねて光吸収層４０が設けられてなる。
【００１２】請求項２の発明に係る製造方法は、表示面
Ｈ側の基板１１上に暗色蒸着膜４０ａと金属蒸着膜１３
ａとを順に連続的に成膜する蒸着工程と、前記金属蒸着
膜１３ａ及び前記暗色蒸着膜４０ａを部分的に除去する
ことによって、電極１３及びその表面を覆う光吸収層４
０を形成するパターンニング工程とを含む。
Ｈ側の基板１１上に暗色蒸着膜４０ａと金属蒸着膜１３
ａとを順に連続的に成膜する蒸着工程と、前記金属蒸着
膜１３ａ及び前記暗色蒸着膜４０ａを部分的に除去する
ことによって、電極１３及びその表面を覆う光吸収層４
０を形成するパターンニング工程とを含む。
【００１３】
【作用】金属蒸着膜からなる電極１３は、光吸収層４０
によって表示面Ｈに対して被覆され、これによって電極
１３の表面での外光の反射が防止される。
によって表示面Ｈに対して被覆され、これによって電極
１３の表面での外光の反射が防止される。
【００１４】電極１３及び光吸収層４０は、蒸着工程で
連続的に成膜した暗色蒸着膜４０ａと金属蒸着膜１３ａ
とをパターンニングすることによって形成される。
連続的に成膜した暗色蒸着膜４０ａと金属蒸着膜１３ａ
とをパターンニングすることによって形成される。
【００１５】
【実施例】図１は本発明に係るＰＤＰ１の構造を模式的
に示す断面図である。
に示す断面図である。
【００１６】ＰＤＰ１は、表示面Ｈ側のガラス基板１１
、背面側のガラス基板２１、各ガラス基板１１，２１の
内面上に形成された電極１３，２３、低融点ガラスから
なる誘電体層１５，２５、ＭｇＯからなる保護膜１７，
２７、ガラス基板１１，２１の周囲を封止する封止ガラ
ス３１、及び電極１３の表示面Ｈ側に各電極１３に重ね
て設けられた光吸収層４０などから構成されたマトリク
ス表示方式の対向放電型のＰＤＰである。
、背面側のガラス基板２１、各ガラス基板１１，２１の
内面上に形成された電極１３，２３、低融点ガラスから
なる誘電体層１５，２５、ＭｇＯからなる保護膜１７，
２７、ガラス基板１１，２１の周囲を封止する封止ガラ
ス３１、及び電極１３の表示面Ｈ側に各電極１３に重ね
て設けられた光吸収層４０などから構成されたマトリク
ス表示方式の対向放電型のＰＤＰである。
【００１７】図示しないスペーサによって間隙寸法が規
定された内部の放電空間３０には、キセノンとネオンを
混合した放電ガスが封入されている。また、格子状に対
向配置された電極１３，２３の交差部には、表示のドッ
トに対応した放電セルが画定される。
定された内部の放電空間３０には、キセノンとネオンを
混合した放電ガスが封入されている。また、格子状に対
向配置された電極１３，２３の交差部には、表示のドッ
トに対応した放電セルが画定される。
【００１８】電極１３，２３は、クロムー銅ークロムの
三層構造の金属薄膜からなり、１００００Å程度の厚さ
を有する。クロム層は白銀色を呈しその表面は光沢のあ
る鏡面となる。
三層構造の金属薄膜からなり、１００００Å程度の厚さ
を有する。クロム層は白銀色を呈しその表面は光沢のあ
る鏡面となる。
【００１９】しかし、ＰＤＰ１では、表示面Ｈ側の電極
１３とガラス基板１１との間に、クロム層に比べて暗色
を呈する例えば酸化クロム又は酸化珪素からなる光吸収
層４０が設けられており、これによって外光が吸収され
、電極１３の最上層（クロム層）での外光の反射が防止
される。
１３とガラス基板１１との間に、クロム層に比べて暗色
を呈する例えば酸化クロム又は酸化珪素からなる光吸収
層４０が設けられており、これによって外光が吸収され
、電極１３の最上層（クロム層）での外光の反射が防止
される。
【００２０】次にＰＤＰ１の製造方法について説明する
。
。
【００２１】図２は本発明に係るＰＤＰ１の各製造段階
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【００２２】蒸着による成膜を行うため、ガラス基板１
１を図示しないスパッタリング蒸着装置のチャンバー内
に配置する。ここで使用するスパッタリング蒸着装置は
、チャンバー内に互いに異なる蒸着物質からなる複数の
ターゲットが装填可能であり、ガラス基板１１を搬送し
て各ターゲットに順次対向させることによって、連続的
に複層の蒸着膜を形成することができる。
１を図示しないスパッタリング蒸着装置のチャンバー内
に配置する。ここで使用するスパッタリング蒸着装置は
、チャンバー内に互いに異なる蒸着物質からなる複数の
ターゲットが装填可能であり、ガラス基板１１を搬送し
て各ターゲットに順次対向させることによって、連続的
に複層の蒸着膜を形成することができる。
【００２３】チャンバーの排気を行った後に酸素を導入
し、まず、酸素雰囲気中でクロムターゲット（Ｃｒ）の
スパッタリングを行う。これにより、蒸発したクロムと
酸素とが化合して蒸着することから、ガラス基板１１上
に酸化クロムからなる暗色蒸着膜４０ａが形成される［
図２（ａ）］。スパッタリング時間は暗色蒸着膜４０ａ
の膜厚が１０００Å程度になるように選定する。
し、まず、酸素雰囲気中でクロムターゲット（Ｃｒ）の
スパッタリングを行う。これにより、蒸発したクロムと
酸素とが化合して蒸着することから、ガラス基板１１上
に酸化クロムからなる暗色蒸着膜４０ａが形成される［
図２（ａ）］。スパッタリング時間は暗色蒸着膜４０ａ
の膜厚が１０００Å程度になるように選定する。
【００２４】なお、不活性ガス雰囲気中で酸化クロムタ
ーゲットのスパッタリングを行い、これによって酸化ク
ロムからなる暗色蒸着膜４０ａを形成することもできる
。また、酸化クロムの暗色蒸着膜４０ａを形成する代わ
りに、酸化珪素ターゲットを用いて酸化珪素からなる蒸
着膜を形成してもよい。
ーゲットのスパッタリングを行い、これによって酸化ク
ロムからなる暗色蒸着膜４０ａを形成することもできる
。また、酸化クロムの暗色蒸着膜４０ａを形成する代わ
りに、酸化珪素ターゲットを用いて酸化珪素からなる蒸
着膜を形成してもよい。
【００２５】続いて、再びチャンバーの排気を行った後
にアルゴンなどの不活性ガスを導入する。不活性ガス雰
囲気中でクロムターゲット及び銅ターゲットのスパッタ
リングを行い、クロム層１３１、銅層１３２、クロム層
１３３を順に蒸着して三層構造の金属蒸着膜１３ａ（膜
厚は１００００Å程度）を暗色蒸着膜４０ａ上に形成す
る［図２（ｂ）］。
にアルゴンなどの不活性ガスを導入する。不活性ガス雰
囲気中でクロムターゲット及び銅ターゲットのスパッタ
リングを行い、クロム層１３１、銅層１３２、クロム層
１３３を順に蒸着して三層構造の金属蒸着膜１３ａ（膜
厚は１００００Å程度）を暗色蒸着膜４０ａ上に形成す
る［図２（ｂ）］。
【００２６】以上の蒸着工程を終えた後、パターンニン
グ工程に移る。パターンニング工程では、感光性のレジ
ストの塗布、パターン露光、レジスト現像の一連のフォ
トリソグラフィ処理を行い、金属蒸着膜１３ａ上に所定
パターンのレジスト層６０をエッチングマスクとして設
ける［図２（ｃ）］。
グ工程に移る。パターンニング工程では、感光性のレジ
ストの塗布、パターン露光、レジスト現像の一連のフォ
トリソグラフィ処理を行い、金属蒸着膜１３ａ上に所定
パターンのレジスト層６０をエッチングマスクとして設
ける［図２（ｃ）］。
【００２７】次に、例えば、塩酸（クロムのエッチャン
ト）及び塩化第２鉄（銅のエッチャント）を用いて金属
蒸着膜１３ａを部分的に除去（エッチング）する。そし
て、引き続いてレジスト層６０をエッチングマスクとし
て、例えばフェリシアン化カリと水酸化ナトリウムの混
合溶液を用いて暗色蒸着膜４０ａをエッチングする。
ト）及び塩化第２鉄（銅のエッチャント）を用いて金属
蒸着膜１３ａを部分的に除去（エッチング）する。そし
て、引き続いてレジスト層６０をエッチングマスクとし
て、例えばフェリシアン化カリと水酸化ナトリウムの混
合溶液を用いて暗色蒸着膜４０ａをエッチングする。
【００２８】このように金属蒸着膜１３ａ及び暗色蒸着
膜４０ａをエッチングすることにより、暗色蒸着膜４０
ａからなる光吸収層４０と金属蒸着膜１３ａからなる電
極１３とが同一の平面パターンでガラス基板１１上に形
成される［図２（ｄ）］。
膜４０ａをエッチングすることにより、暗色蒸着膜４０
ａからなる光吸収層４０と金属蒸着膜１３ａからなる電
極１３とが同一の平面パターンでガラス基板１１上に形
成される［図２（ｄ）］。
【００２９】その後、電極１３を被覆する誘電体層１５
及び保護膜１７を設けたガラス基板１１と、別に電極２
３及び誘電体層２５などを設けた背面側のガラス基板２
１とを電極１３，２３が直交するように対向配置し、封
止ガラス３１による封止及び放電ガスの封入などを経て
ＰＤＰ１を完成させる。
及び保護膜１７を設けたガラス基板１１と、別に電極２
３及び誘電体層２５などを設けた背面側のガラス基板２
１とを電極１３，２３が直交するように対向配置し、封
止ガラス３１による封止及び放電ガスの封入などを経て
ＰＤＰ１を完成させる。
【００３０】上述の実施例によれば、光吸収層４０を蒸
着膜としたので、電極１３を形成するための蒸着工程に
際して、金属蒸着膜１３ａの蒸着に先立って１層の蒸着
を行うだけで光吸収層４０を設けることができ、光吸収
層４０を設けるための別途の工程が不要となることから
ＰＤＰ１を効率的に製造することができる。さらに、電
極１３の金属材料の酸化物（酸化クロム）によって光吸
収層４０となる暗色蒸着膜４０ａを形成するようにした
ので、蒸着雰囲気を変更するだけで暗色蒸着膜４０ａと
金属蒸着膜１３ａとを連続的に形成することができる。
着膜としたので、電極１３を形成するための蒸着工程に
際して、金属蒸着膜１３ａの蒸着に先立って１層の蒸着
を行うだけで光吸収層４０を設けることができ、光吸収
層４０を設けるための別途の工程が不要となることから
ＰＤＰ１を効率的に製造することができる。さらに、電
極１３の金属材料の酸化物（酸化クロム）によって光吸
収層４０となる暗色蒸着膜４０ａを形成するようにした
ので、蒸着雰囲気を変更するだけで暗色蒸着膜４０ａと
金属蒸着膜１３ａとを連続的に形成することができる。
【００３１】上述の実施例において、蒸着の手法として
真空蒸着法を用いてもよい、また、エッチングの手法と
してウエットエッチングに代えてドライエッチングを用
いてもよい。
真空蒸着法を用いてもよい、また、エッチングの手法と
してウエットエッチングに代えてドライエッチングを用
いてもよい。
【００３２】上述の実施例においては、酸化クロム又は
酸化珪素からなる光吸収層４０を設けたが、光吸収層４
０の材質としては、電極１３の表層に比べて暗色であり
且つガラス基板１１及び電極１３との密着性が良好であ
るものを適宜選定することができる。例えば暗色顔料で
着色した低融点ガラスを用いてもよい。
酸化珪素からなる光吸収層４０を設けたが、光吸収層４
０の材質としては、電極１３の表層に比べて暗色であり
且つガラス基板１１及び電極１３との密着性が良好であ
るものを適宜選定することができる。例えば暗色顔料で
着色した低融点ガラスを用いてもよい。
【００３３】上述の実施例においては、三層構造の金属
蒸着膜１３ａからなる電極１３を例示したが、電極１３
は１層構造の薄膜であってもよい。また、本発明は、表
示面Ｈ側のガラス基板１１に透明電極に重ねて薄膜のバ
ス電極を設けたＰＤＰにも適用することができる。
蒸着膜１３ａからなる電極１３を例示したが、電極１３
は１層構造の薄膜であってもよい。また、本発明は、表
示面Ｈ側のガラス基板１１に透明電極に重ねて薄膜のバ
ス電極を設けたＰＤＰにも適用することができる。
【発明の効果】本発明によれば、電極の表面での外光の
反射による表示の視認性の低下を防止することができる
。
反射による表示の視認性の低下を防止することができる
。
【００３４】請求項２の発明によれば、表示の視認性の
低下を防止したＰＤＰを効率的に製造することができる
。
低下を防止したＰＤＰを効率的に製造することができる
。
【図１】本発明に係るＰＤＰの構造を模式的に示す断面
図である。
図である。
【図２】本発明に係るＰＤＰの各製造段階を示す部分断
面図である。
面図である。
１ ＰＤＰ
Ｈ 表示面
１１ ガラス基板（基板）
１３ 電極
４０ 光吸収層
１３ａ 金属蒸着膜
４０ａ 暗色蒸着膜
Claims (2)
- 【請求項１】表示面（Ｈ）側の基板（１１）の内面上に
金属蒸着膜からなる電極（１３）を有したプラズマディ
スプレイパネル（１）において、前記電極（１３）の前
記表示面（Ｈ）側に、当該電極（１３）に重ねて光吸収
層（４０）が設けられてなることを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項２】表示面（Ｈ）側の基板（１１）の内面上に
金属蒸着膜からなる電極（１３）を有したプラズマディ
スプレイパネル（１）の製造方法であって、前記基板（
１１）上に暗色蒸着膜（４０ａ）と金属蒸着膜（１３ａ
）とを順に連続的に成膜する蒸着工程と、前記金属蒸着
膜（１３ａ）及び前記暗色蒸着膜（４０ａ）を部分的に
除去することによって、前記電極（１３）及びその表面
を覆う光吸収層（４０）を形成するパターンニング工程
とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11719791A JP3122482B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11719791A JP3122482B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04345734A true JPH04345734A (ja) | 1992-12-01 |
| JP3122482B2 JP3122482B2 (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=14705800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11719791A Expired - Lifetime JP3122482B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3122482B2 (ja) |
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| JP2002343260A (ja) * | 2001-05-04 | 2002-11-29 | Samsung Sdi Co Ltd | 基板とこの基板の製造方法及びこの基板を有するプラズマ表示装置 |
| KR100520392B1 (ko) * | 1999-04-19 | 2005-10-12 | 현대 프라즈마 주식회사 | 실린더 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
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Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
| JP4795233B2 (ja) | 2004-04-28 | 2011-10-19 | 三菱電機株式会社 | 車載用表示装置 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP11719791A patent/JP3122482B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3122482B2 (ja) | 2001-01-09 |
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