JPH0434710A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH0434710A
JPH0434710A JP14221490A JP14221490A JPH0434710A JP H0434710 A JPH0434710 A JP H0434710A JP 14221490 A JP14221490 A JP 14221490A JP 14221490 A JP14221490 A JP 14221490A JP H0434710 A JPH0434710 A JP H0434710A
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JP
Japan
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core
thin film
magnetic core
track
magnetic
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JP14221490A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Okamoto
義弘 岡本
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、ハードディスクドライブ装置、VTR装置等
に使用され、記録再生を行う磁気ヘッドの製造方法に関
するもので、詳しくは磁気ヘッドの磁気コアのトラック
の製造方法についてのものである。
「従来の技術」 磁気ヘッドの磁気コアからの漏れ磁束を集中させるため
、磁気コアに狭幅のトラックを形成している。第19図
に従来の磁気ヘッドの磁気コアを示す。符号101は■
バー、102はCバー、103はギャップ、104は溜
りガラスで、狭幅のトラック105を形成するために、
破線部を研削加工で削除する。
「発明が解決しようとする課RJ 従来の磁気コアで、研削加工によりトラックを形成して
いるため、トラック幅にバラツキが生じ、また、トラッ
ク幅が狭い時はトラック105に欠けやクラックが生じ
たりして良品としての歩留りが低下している。その後の
工程においてもトラック105が欠けたり、あるいはク
ラックの起こる可能性が高いため、取り扱いに注意が必
要である。
「課題を解決するための手段」 そこで、本発明は、上記の事情に鑑み、磁気コアのトラ
ックの研削加工を不要として、高品質のトラックでしか
も磁気ヘッドの安定な製造方法を提供すべく、一対のコ
ア素材、例えばI形コア素材とC形コア素材、C形コア
素材とC形コア素材をギャップ部材を介して接合し、所
定厚みに切り出した磁気コアを備えた磁気ヘッドの製造
方法であって、少なくとも一方のコア素材の対向面に形
成したギャップ部材を薄膜でもって形成し、該薄膜ギャ
ップ部材の一部に、作成する磁気コアの厚さ以上の間隔
でトラック幅に相当する薄膜トラック突出部を形成した
後、他方のコア素材と接合させ、接合させた両コア素材
の薄膜トラック突出部間で所要の磁気コア厚さに切り出
すようにした磁気ヘッドの製造方法である。
「実施例」 本発明を添付する図面に示す具体的な実施例に基づいて
詳細に説明する。
本発明の磁気ヘッドに用いる磁気コアは次の工程により
作成する。
まず、第1図に示すように、磁性材料のフェライトの直
方体状の素材1.2をスライシングにより切り出す。
次に、第2図に示すように、フェライトのコア素材lを
例えば断面がI形状のI形フェライトのI形コア素材(
以下、I形素材という)11に、フェライトのコア素材
2を例えば断面がC形状のC形フェライトのC形コア素
材(以下、C形素材という)12にそれぞれ作成する。
なお、I形素材11およびC形素材12の高さは、例え
ば0.96mmである。
また、図では■形素材とC形素材であるが、C形素材ど
うしを用いてもよい。
続いて、第3図に示すように、I形素材11のC形素材
12との対向面に金属Wl!3−ギャップガラス4−金
属膜3の薄膜面7を作成する。薄膜面7の全体の厚さ5
n前後である。薄膜面7にはその上端部に作成する磁気
コアの厚さ以上の所要の間隔でトラック幅に相当する薄
膜トラック突出部34を形成する0例えば薄膜トラック
突出部34の突出高さ100μ、幅104.TR膜トラ
ック突出部34の間隔100〜200nである。
なお、金属膜3は例えばセンダストを用い厚さ約2−で
ある。ギャップガラス4は例えばSin!で厚さ0.5
〜0.6−である。
薄膜の形成は、I形素材11だけでなくC形素材12に
も形成することができる。
次に、ギャップ6の形成は、第4図に示すように、上記
のI形素材11とC形素材12とを薄膜面7を対向させ
て挟持し、軟化点630℃の鉛系ガラスの溜りガラス5
により接合する。
続いて、第5図に示すように、ワイヤソーやダイア砥石
によるスライシングで例えば厚さ178μの磁気コア8
を切り出す、符号21はIバーで、22はCバーである
。第5図(a)では磁気コア8のギャップ6において、
トラック13が磁気コア8の厚さ方向で中央に位置して
いる例で、第5図(ロ)ではトラック14が磁気コア8
の側面寄りに形成された例を示す。このようにギャップ
6におけるトラックの位置は、接合した■形素材11と
C形素材12との¥III)ラック突出部34間のどの
位置で切断するかによって決定される。
上記の薄膜面7作成について詳述する。
二の薄膜面7の作成法として、フォトレジストパターン
による形成方法と、エツチングによるパターン形成方法
とがある。
まず、フォトレジストパターンによる形成方法について
述べる。
まず、第6図に示すように、I形素材あるいはC形素材
の素材31ギャップ対向面にレジスト32を塗布する。
次に、第7図に示すように、レジスト32面上にマスク
33を配置して現像する。
第8図に示すように、現像された部分と他の部分とに同
時に、例えば厚さ約2−のセンダストの金属膜3を蒸着
で形成し、続いて金属膜3上に例えば厚さ0.5〜0.
6nのSiO□のギャップガラス4を蒸着で形成し、ギ
ャップガラス4上に例えば厚さ約2iaのセンダストの
金属膜3を蒸着で形成する。
次に、第9図に示すように、現像された部分を残し、他
の現像されなかった部分を剥離し、て薄膜面7を形成す
る。この薄膜面7は所要の薄膜トラツク突出部34が形
成されるパターンとなるように現像してお(。薄膜トラ
ック突出部34は第3図に明示されている。
今度は、エツチングによる薄膜面7の形成方法について
述べる。
まず、第10図に示すように、素材31上に金属膜3、
ギャップガラス4、金属膜3を前記と同様にして形成す
る。
次に、第11図に示すように、金属膜3上にレジスト3
2を塗布する。
続いて、第12図に示すように、レジスト32上にマス
ク33を配置し、現像する。
第13図に示すように、エツチング35を施す。エツチ
ングとしては、プラズマエツチング、励起ガスエツチン
グ、反応性イオンエツチング、スパッタエツチング、反
応性イオンビームエツチング、イオンビームエツチング
などがある。
次に、第14図に示すように、レジスト32を剥離して
、所要の薄膜面7を形成する。この場合も所要薄膜トラ
ック突出部34が形成されているのは前記と同様である
本発明は、上述のように、予め薄膜トラック突出部を形
成したI形素材とC形素材とを薄膜トラック突出部の間
で所要の磁気コア厚さに切り出し薄膜加工にてトラック
幅を形成したので、従来のトラックの形成が研削加工な
どの機械的加工により形成し加工にバラツキが生じてい
たのに比し、バラツキが少なく精度のよい磁気ヘッドが
提供できる。
第15図(a)に本発明により製造した磁気コア42の
スライダー41への装着部の拡大縦断面図を示し、同図
(ロ)に従来の同郡の拡大縦断面図を示す、スライダー
41の溝に磁気コア42がボンディングガラス43によ
り接着されている。
従来の同図(ロ)では、スライダー41の溝に従来の研
削加工により狭幅のトラック44を有する磁気コア45
がボンディングガラス43により接着されている。従来
の磁気ヘッドがボンディングガラス430面積が大きい
ために、研磨した際にガラス部が凹み平面度が悪くなる
。これに対し、本発明により製作した磁気コア42では
同図(a)で明らかなように、ボンディングガラス43
が小さいことから凹み部が小さく平面度が向上する。
従来の研削などによる機械加工ではフェライトの透磁率
が3000から1500に低下するが、本発明による薄
膜を形成して製作する製造方法では、透磁率の低下がな
いため特性の向上が計れる。
第16図に示すようにスライダー51に磁気コア52を
挿入する際に、磁気コア52の浮きをなくするために、
上部より押さえるが、従来の磁気コアの形状ではトラッ
ク部が細いため、欠けが生じやすいことから作業に手間
が掛かかるが、本発明による磁気コアの形状では欠ける
心配がなく押さえられるため、作業性および歩留まりの
向上が計れる。
また、第17図(荀に示すように、従来の磁気コア61
の形状では磁束の絞り込みを行うために、破線部を機械
加工することにより磁気抵抗が大きくなるが、本発明に
よる第17図(ロ)に示す磁気コア62の形状では薄膜
部のみで磁束の絞り込みを行うために、全体的な磁気抵
抗が小さくなることにより記録再生効率を向上させるこ
とが可能である。なお、上述の実施例では一対のフェラ
イトバーを接合した磁気コアを用いてなるが、第18図
Ca)、(ロ)に示すようにアルミナセラミックのよう
な非磁性材71の接合面側内面にセンダスト等の磁性材
72を形成し一対の素材を用いてもよい。
「発明の効果」 以上、上述したように、本発明によれば、磁気コアのト
ラックの研削加工が不要となり、製造工程が簡素化し、
さらにトラック幅の精度、透磁率の向上、磁気抵抗の低
減ができ、しかもスライダーと磁気コアとの接合、加工
等が大幅に改善される磁気ヘッドの製造方法となる。
【図面の簡単な説明】
第1〜5図は磁気コアの製造工程を示し、第1図は素材
を切り出した状態の斜視図、第2図は素材を■形素材と
C形素材とに形成した状態を示す斜視図、第3図はI形
素材のギャップ対向面に薄膜面を形成した状態を示す斜
視図、第4図は11面を形成した■形素材とC形素材を
嵌まりガラスで接合した状態を示す斜視図、第5図は磁
気コアに切り出した状態を示す斜視図で、同図(→はト
ラックが磁気コアのギャップの中央部にある状態を示す
斜視図、同図ら)はトラックが磁気コアの端面側に位置
した状態を示す斜視図、第6〜9図はフォトレジストパ
ターン形成方法により薄膜面を形成する工程を示す図で
あって、第6図はレジスト塗布状態を示す縦断面図、第
7図はマスクを配置して現像する状態を示す縦断面図、
第8図は金属膜、ギャップガラス、金属膜を蒸着した状
態を示す縦断面図、第9図は不要部分を剥離した状態を
示す縦断面図、第10〜14図はエツチングによる薄膜
面のパターンを形成する状態を示す図で、第1θ図は素
材31上に金属膜、ガラス、金属膜を蒸着して形成した
状態を示す縦断面図、第11図はレジストを塗布した状
態を示す縦断面図、第12図はマスクを配して現像した
状態を示す縦断面図、第13図はエツチングを施した状
態を示す縦断面図、第14図はレジストを剥離した状態
を示す縦断面図、第15図は本発明により製作された磁
気コアをスライダーに装着した状態を、従来のものと比
較する図で、同図(a)は本発明により製作された磁気
コアをスライダーに装着した拡大縦断面図、同図ら)は
従来の磁気コアをスライダーに装着した拡大縦断面図、
第16図は磁気コアをスライダーに装着する作業状態を
示す斜視図、第17図は磁気抵抗について説明する図で
、同図(a)は従来の磁気コアの斜視図、同図(b)は
本発明の磁気コアの斜視図、第18図は本発明の他の実
施例の磁気コアを説明する図であり、同図(a)は側面
図、同図の)はギャップ部分の上面図、第19図は従来
の磁気コアの斜視図である。 出願人  京 セ ラ 株式会社 代理人  高  木  義  輝 第4図 第15図(a) 第15図(b) 第旧図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一対のコア素材をギャップ部材を介して接合し、
    所定厚みに切り出した磁気コアを備えた磁気ヘッドの製
    造方法であって、少なくとも一方のコア素材の対向面に
    形成したギャップ部材を薄膜でもって形成し、該薄膜ギ
    ャップ部材の一部に、作成する磁気コアの厚さ以上の間
    隔でトラック幅に相当する薄膜トラック突出部を形成し
    た後、他方のコア素材と接合させ、接合させた両コア素
    材の薄膜トラック突出部間で所要の磁気コア厚さに切り
    出すことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
JP14221490A 1990-05-31 1990-05-31 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH0434710A (ja)

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