JPH0416842B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0416842B2 JPH0416842B2 JP57001649A JP164982A JPH0416842B2 JP H0416842 B2 JPH0416842 B2 JP H0416842B2 JP 57001649 A JP57001649 A JP 57001649A JP 164982 A JP164982 A JP 164982A JP H0416842 B2 JPH0416842 B2 JP H0416842B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gap forming
- core
- magnetic head
- forming surface
- ion beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は再生効率の良い磁気ヘツドの製造方法
に関するものである。
に関するものである。
通常、磁気ヘツドコアは１組のコア半体を衝き
合わせて構成するようにしており、各コア半体は
両者間に非磁性体を配して対向配置されるように
なつている。例えば、第１図の如く、コア半体１
と２の各対向面を所定距離（ギヤツプ長３に相当
する距離）だけ空けて実質的に平行配置するよう
にしている。これは、各コア半体１，２のバツク
ギヤツプ構成面間にもフロントギヤツプ構成面間
の距離すなわちギヤツプ長３に相当する磁気空隙
を持つことになるから、再生時、この磁気空隙に
よる磁気抵抗で再生効率を低下させることが知ら
れている。この再生効率の低下を防止するため、
第２図に示す如く、少くとも一方のコア半体（例
えば２の作動ギヤツプ構成面とバツクギヤツプ構
成面との間に、上記ギヤツプ長３に相当する段差
４を設け、バツクギヤツプ側のコア半体を実質的
に面一となるように衝き合わせるものが提案され
ている。しかし、この段差を機械加工により成形
することは、段差を管理すること及び加工面の平
面度を出すことなどが難しく、困難であるとされ
ている。そこで、この段差を得るための加工面
を、ケミカルエツチング法で製出する方法が試行
されている。磁気ヘツドコア材がフエライトであ
る場合、エツチヤントして濃リン酸がよく利用さ
れるが、エツチング速度の不安定性によりエツチ
ング量の不同を招くという欠点があり、作動ギヤ
ツプの精度として要求される±５％以内を実現さ
せることが難しい。
合わせて構成するようにしており、各コア半体は
両者間に非磁性体を配して対向配置されるように
なつている。例えば、第１図の如く、コア半体１
と２の各対向面を所定距離（ギヤツプ長３に相当
する距離）だけ空けて実質的に平行配置するよう
にしている。これは、各コア半体１，２のバツク
ギヤツプ構成面間にもフロントギヤツプ構成面間
の距離すなわちギヤツプ長３に相当する磁気空隙
を持つことになるから、再生時、この磁気空隙に
よる磁気抵抗で再生効率を低下させることが知ら
れている。この再生効率の低下を防止するため、
第２図に示す如く、少くとも一方のコア半体（例
えば２の作動ギヤツプ構成面とバツクギヤツプ構
成面との間に、上記ギヤツプ長３に相当する段差
４を設け、バツクギヤツプ側のコア半体を実質的
に面一となるように衝き合わせるものが提案され
ている。しかし、この段差を機械加工により成形
することは、段差を管理すること及び加工面の平
面度を出すことなどが難しく、困難であるとされ
ている。そこで、この段差を得るための加工面
を、ケミカルエツチング法で製出する方法が試行
されている。磁気ヘツドコア材がフエライトであ
る場合、エツチヤントして濃リン酸がよく利用さ
れるが、エツチング速度の不安定性によりエツチ
ング量の不同を招くという欠点があり、作動ギヤ
ツプの精度として要求される±５％以内を実現さ
せることが難しい。
本発明はかかる欠点に鑑みなされたものにし
て、磁気ヘツドコアのバツクギヤツプ構成面に対
して段差を持つべく形成される作動ギヤツプ構成
面を、該バツクギヤツプ構成面と実質的に面一な
る表面を有するコア素材の前記作動ギヤツプ構成
面を形成すべき部分にメカノケミカル研摩を施し
た後、イオンビームを付与することにより得る磁
気ヘツドの製造方法を提供しようとするものであ
る。
て、磁気ヘツドコアのバツクギヤツプ構成面に対
して段差を持つべく形成される作動ギヤツプ構成
面を、該バツクギヤツプ構成面と実質的に面一な
る表面を有するコア素材の前記作動ギヤツプ構成
面を形成すべき部分にメカノケミカル研摩を施し
た後、イオンビームを付与することにより得る磁
気ヘツドの製造方法を提供しようとするものであ
る。
イオンビームを使うエツチング（イオンビーム
ミリング）はエツチングガスの物理的な作用によ
つてエツチングされることや、イオンビーム室と
加工室が分離されているため加工室の真空度を高
くできるなどの特徴を有し、そのためエツチング
速度の再現性が極めて良い（±５％以内）とされ
ている。従い、このイオンビームミリングはこれ
を磁気ヘツドコアのバツクギヤツプ構成面と作動
ギヤツプ構成面との間の段差を形成するために利
用すれば、該段差の管理を比較的簡単にすること
ができて有利であるから、該作動ギヤツプ構成面
の形成に適しているといえる。しかし、このビー
ム加工前のコア素材の表面が仮に鏡面に研摩され
ていてもその表面状態は均質でない（例えば一見
フラツトな鏡面に見えても実際には目ずまりが生
じてそのように見えるなど）場合があり、この場
合上記イオンビーム加工を施してもエツチング速
度が部分的に異なるため、エツチング終了後の表
面状態が最初の状態より却つて悪くなることがあ
る。これを防止するには、このビーム加工を行な
う前に被加工面について鏡面研摩時に生じうる加
工変質層を除去したり、平面度及び面粗度を充分
なものにしておく必要がある。このため、本発明
では鏡面に研摩された被加工面（少なくともバツ
クギヤツプ構成面と実質的に面一なる表面を有す
るコア素材の作動ギヤツプ構成面に相当する部
分、すなわちイオンビーム加工を施こす部分、を
含む）に、工作物に機械的エネルギーを与えそこ
に誘起する化学的反応を積極的に研摩に利用する
メカノケミカル研摩を施こし研摩面の均質性を向
上させるようにし、その後上記イオンビームミリ
ングを行なうようにして上記段差を、作動ギヤツ
プ構成面の面精度を保障して歩留まり良く形成す
ることができる。
ミリング）はエツチングガスの物理的な作用によ
つてエツチングされることや、イオンビーム室と
加工室が分離されているため加工室の真空度を高
くできるなどの特徴を有し、そのためエツチング
速度の再現性が極めて良い（±５％以内）とされ
ている。従い、このイオンビームミリングはこれ
を磁気ヘツドコアのバツクギヤツプ構成面と作動
ギヤツプ構成面との間の段差を形成するために利
用すれば、該段差の管理を比較的簡単にすること
ができて有利であるから、該作動ギヤツプ構成面
の形成に適しているといえる。しかし、このビー
ム加工前のコア素材の表面が仮に鏡面に研摩され
ていてもその表面状態は均質でない（例えば一見
フラツトな鏡面に見えても実際には目ずまりが生
じてそのように見えるなど）場合があり、この場
合上記イオンビーム加工を施してもエツチング速
度が部分的に異なるため、エツチング終了後の表
面状態が最初の状態より却つて悪くなることがあ
る。これを防止するには、このビーム加工を行な
う前に被加工面について鏡面研摩時に生じうる加
工変質層を除去したり、平面度及び面粗度を充分
なものにしておく必要がある。このため、本発明
では鏡面に研摩された被加工面（少なくともバツ
クギヤツプ構成面と実質的に面一なる表面を有す
るコア素材の作動ギヤツプ構成面に相当する部
分、すなわちイオンビーム加工を施こす部分、を
含む）に、工作物に機械的エネルギーを与えそこ
に誘起する化学的反応を積極的に研摩に利用する
メカノケミカル研摩を施こし研摩面の均質性を向
上させるようにし、その後上記イオンビームミリ
ングを行なうようにして上記段差を、作動ギヤツ
プ構成面の面精度を保障して歩留まり良く形成す
ることができる。
次に、本発明方法の実施例を簡単に説明する。
第３図は本発明方法の加工工程の概要を示すもの
であり、５は磁性材例えば単結晶フエライト材よ
りなるウエハで該ウエハの衝合面となる表面は従
来通りの方法で鏡面に研摩されている。この加工
面は微視的には上述の如く加工変質層６が形成さ
れている（第３図イ）。このウエハ５について、
該加工変質層６を除去するためメカノケミカル研
摩を施こし、加工変質層の浅い良好な仕上面５ａ
を得る（第３図ロ）。次いで、通常の方法と同様、
巻線溝７を成形しまた該巻線溝と直交する方向に
延在するトラツク巾規定溝（図示省略））を成形
する（第３図ハ）。次いで、イオンビームミリン
グを実行する面を除き通常のホトリソグラフイー
によるパターニングを行ない保護膜８を形成する
（第３図ニ）。次いで、この試料を10″マイクロエ
ツチシステムに入れ下記条件で加工をすれば、被
加工面５ｂを0.37μｍエツチングすることができ、
バツクギヤツプ構成面に対して段差４を有する作
動ギヤツプ構成面５ｃを成形することができる。
エネルギー（ｖ／mA）500／440電流密度
（μA／cm2）600、角度（θ）30、時間（分）20、
アルゴン圧力（Torr）2.0×10-4、アーク（Ｖ／
Ａ）60／60、カソード（Ｖ／Ａ）11／39、コイル
（Ｖ／Ａ）19／0.45、サプレツサ（Ｖ／mA）
300／40、ニユートラ（Ｖ／Ａ）50／10.5。尚、
このイオンビームミリングは第３図ハの溝加工前
に実行するようにしても良い。第３図ホは保護膜
８を除去した状態を示している。次いで、このイ
オンビームミリングを行なつたウエハ５Ａと、第
３図ロのウエハ５Ｂとを相互の衝合面が対面する
ように衝き合わせ、両者の各バツクギヤツプ構成
面を直接当接させかつ各作動ギヤツプ構成面が上
記段差４に相当するスペースをあけて対向させ
る。その後、該スペース内にガラス９を充填さ
せ、また図示省略した結合材で各ウエハを一体化
する（第３図ヘ）。この一体化はトラツク巾規定
溝内にまたバツクギヤツプ構成面の下端部に結合
材を充てんすることにより実現することができ
る。次いで、一体化したブロツクについて従来通
りテープ当接面の成形、スライシング、コアの厚
み加工を施こし、ヘツドチツプを得る。そして、
このヘツドチツプをヘツドベースに取付け、コイ
ルを巻回して磁気ヘツドを製出する。上記スペー
ス内へのガラス浸透に代え、適当なスペーサ材を
該段差を解消するように付着させても良い。ま
た、各ウエハを衝き合わせたとき所定のギヤツプ
長を形成するように、巻線溝を有するウエハとは
別のウエハに或いは衝合すべき各ウエハにイオン
ビーム加工を施こすようにしても良い。
第３図は本発明方法の加工工程の概要を示すもの
であり、５は磁性材例えば単結晶フエライト材よ
りなるウエハで該ウエハの衝合面となる表面は従
来通りの方法で鏡面に研摩されている。この加工
面は微視的には上述の如く加工変質層６が形成さ
れている（第３図イ）。このウエハ５について、
該加工変質層６を除去するためメカノケミカル研
摩を施こし、加工変質層の浅い良好な仕上面５ａ
を得る（第３図ロ）。次いで、通常の方法と同様、
巻線溝７を成形しまた該巻線溝と直交する方向に
延在するトラツク巾規定溝（図示省略））を成形
する（第３図ハ）。次いで、イオンビームミリン
グを実行する面を除き通常のホトリソグラフイー
によるパターニングを行ない保護膜８を形成する
（第３図ニ）。次いで、この試料を10″マイクロエ
ツチシステムに入れ下記条件で加工をすれば、被
加工面５ｂを0.37μｍエツチングすることができ、
バツクギヤツプ構成面に対して段差４を有する作
動ギヤツプ構成面５ｃを成形することができる。
エネルギー（ｖ／mA）500／440電流密度
（μA／cm2）600、角度（θ）30、時間（分）20、
アルゴン圧力（Torr）2.0×10-4、アーク（Ｖ／
Ａ）60／60、カソード（Ｖ／Ａ）11／39、コイル
（Ｖ／Ａ）19／0.45、サプレツサ（Ｖ／mA）
300／40、ニユートラ（Ｖ／Ａ）50／10.5。尚、
このイオンビームミリングは第３図ハの溝加工前
に実行するようにしても良い。第３図ホは保護膜
８を除去した状態を示している。次いで、このイ
オンビームミリングを行なつたウエハ５Ａと、第
３図ロのウエハ５Ｂとを相互の衝合面が対面する
ように衝き合わせ、両者の各バツクギヤツプ構成
面を直接当接させかつ各作動ギヤツプ構成面が上
記段差４に相当するスペースをあけて対向させ
る。その後、該スペース内にガラス９を充填さ
せ、また図示省略した結合材で各ウエハを一体化
する（第３図ヘ）。この一体化はトラツク巾規定
溝内にまたバツクギヤツプ構成面の下端部に結合
材を充てんすることにより実現することができ
る。次いで、一体化したブロツクについて従来通
りテープ当接面の成形、スライシング、コアの厚
み加工を施こし、ヘツドチツプを得る。そして、
このヘツドチツプをヘツドベースに取付け、コイ
ルを巻回して磁気ヘツドを製出する。上記スペー
ス内へのガラス浸透に代え、適当なスペーサ材を
該段差を解消するように付着させても良い。ま
た、各ウエハを衝き合わせたとき所定のギヤツプ
長を形成するように、巻線溝を有するウエハとは
別のウエハに或いは衝合すべき各ウエハにイオン
ビーム加工を施こすようにしても良い。
本発明方法になる磁気ヘツドは衝合せるコア半
体のバツクギヤツプ構成面が直接当接するからこ
の衝合部における磁気抵抗を著しく低下させるこ
とができ磁気ヘツドの再生効生効率の低滅を防ぐ
ことができる。また、このバツクギヤツプ構成面
に対して段差を有する作動ギヤツプ構成面はイオ
ンビームミリング法でエツチングされたものであ
りその表面精度を向上させることができ、製造歩
留まりの向上ひいては磁気ヘツドの低価格化に寄
与できる。
体のバツクギヤツプ構成面が直接当接するからこ
の衝合部における磁気抵抗を著しく低下させるこ
とができ磁気ヘツドの再生効生効率の低滅を防ぐ
ことができる。また、このバツクギヤツプ構成面
に対して段差を有する作動ギヤツプ構成面はイオ
ンビームミリング法でエツチングされたものであ
りその表面精度を向上させることができ、製造歩
留まりの向上ひいては磁気ヘツドの低価格化に寄
与できる。
第１図は従来の磁気ヘツドの典型的な構成図、
第２図は再生効率の向上に資する従来の磁気ヘツ
ドの構成図、第３図イ〜ヘは本発明方法を含む磁
気ヘツドの製造工程図を示したものである。 主な図番の説明、５Ａ，５Ｂ…１組のコア半体
となるウエハ、４…段差。
第２図は再生効率の向上に資する従来の磁気ヘツ
ドの構成図、第３図イ〜ヘは本発明方法を含む磁
気ヘツドの製造工程図を示したものである。 主な図番の説明、５Ａ，５Ｂ…１組のコア半体
となるウエハ、４…段差。
Claims (1)
- １ １組のコア半体を衝き合わせてなる磁気ヘツ
ドコアの少なくとも一方のコア半体の作動ギヤツ
プ構成面を、該一方のコア半体のバツクギヤツプ
構成面に対して段差を持つように構成してなる磁
気ヘツドの製造方法において、前記一方のコア半
体となるウエハの表面を鏡面に研摩した後、該研
摩により形成された加工変質層をメカノケミカル
研摩により除去し、その後、前記ウエハの表面の
うち作動ギヤツプ構成面を形成すべき部分にイオ
ンビームを付与することにより前記段差を形成す
ることを特徴とする磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP164982A JPS58121124A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP164982A JPS58121124A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121124A JPS58121124A (ja) | 1983-07-19 |
| JPH0416842B2 true JPH0416842B2 (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=11507359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP164982A Granted JPS58121124A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121124A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60211608A (ja) * | 1984-04-04 | 1985-10-24 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| US6771462B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-08-03 | Seagate Technology Llc | Perpendicular recording head including concave tip |
| US6865056B1 (en) | 1999-10-05 | 2005-03-08 | Seagate Technology Llc | Longitudinal magnetic recording heads with variable-length gaps |
| KR100846237B1 (ko) * | 1999-10-05 | 2008-07-16 | 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 | 가변 길이의 갭을 갖는 수직 자기 기록 헤드 |
| US6707642B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-03-16 | Seagate Technology Llc | Longitudinal magnetic recording head with reduced side fringing |
| JP4130868B2 (ja) * | 2001-03-19 | 2008-08-06 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 垂直記録用磁気ヘッド及びそれを搭載した磁気ディスク装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51148412A (en) * | 1975-06-16 | 1976-12-20 | Mitsumi Electric Co Ltd | Head-core and its production method |
| JPS52153715A (en) * | 1976-06-16 | 1977-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head manufacture |
| JPS5311012A (en) * | 1976-07-16 | 1978-02-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
-
1982
- 1982-01-07 JP JP164982A patent/JPS58121124A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58121124A (ja) | 1983-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4425701A (en) | Methods of making magnetic recording heads | |
| JPH0416842B2 (ja) | ||
| CA1055234A (en) | Method of manufacturing magnetic heads | |
| JPS61151818A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP2751696B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2680750B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3135021B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH11213321A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッド | |
| JPH0512616A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6327768B2 (ja) | ||
| JP3114216B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0434710A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2735967B2 (ja) | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH06274813A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0241083B2 (ja) | Kinzokujiseihakumakugatajikihetsudonoseizohoho | |
| JPH05334612A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS63259807A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH05159239A (ja) | 薄膜磁気ヘッドスライダーおよびその製造方法 | |
| JPH11213323A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH06139523A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH05258231A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS6366704A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH1049823A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS63249920A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH06243419A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 |