JPH04350158A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH04350158A JPH04350158A JP12423991A JP12423991A JPH04350158A JP H04350158 A JPH04350158 A JP H04350158A JP 12423991 A JP12423991 A JP 12423991A JP 12423991 A JP12423991 A JP 12423991A JP H04350158 A JPH04350158 A JP H04350158A
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- Japan
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- metal ingot
- metal
- vapor deposition
- ingot
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、電子ビーム蒸着にお
ける真空蒸着装置に関し、特に半導体ウェーハにおける
電極形成に好適する装置に関する。
ける真空蒸着装置に関し、特に半導体ウェーハにおける
電極形成に好適する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の真空蒸着装置は、図２の
概略構成図に示すように、真空チャンバー内（図示せず
）で、ハース４内に収容した金属インゴット３に電子ビ
ームを照射し、プラネタドーム６に装着されているウェ
ーハ７に向かって、蒸着金属８を蒸発させてウェーハに
金属薄膜（図示せず）を付着させるものとなっていた。
概略構成図に示すように、真空チャンバー内（図示せず
）で、ハース４内に収容した金属インゴット３に電子ビ
ームを照射し、プラネタドーム６に装着されているウェ
ーハ７に向かって、蒸着金属８を蒸発させてウェーハに
金属薄膜（図示せず）を付着させるものとなっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の従来
の真空蒸着装置は、蒸着する際において、電子ビーム５
で部分的に金属インゴット３を溶融させるため、蒸着さ
せていくにつれて、金属インゴット３に穴があき、穴の
底で溶融・蒸発するのでかげとなって蒸着膜の成膜速度
が低下する。それを、補うように、蒸着パワーが高くな
っていくため、蒸着させる金属が突沸を起こし、粒状で
蒸着されるという欠点があった。
の真空蒸着装置は、蒸着する際において、電子ビーム５
で部分的に金属インゴット３を溶融させるため、蒸着さ
せていくにつれて、金属インゴット３に穴があき、穴の
底で溶融・蒸発するのでかげとなって蒸着膜の成膜速度
が低下する。それを、補うように、蒸着パワーが高くな
っていくため、蒸着させる金属が突沸を起こし、粒状で
蒸着されるという欠点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明の電子ビーム蒸
着による真空蒸着装置は、装置内部に金属インゴットの
表面全体を溶融させることを目的としたレーザー光源を
設けたことを特徴としている。この発明はまた、金属イ
ンゴットを収容するハースにハースライナを取り付けた
ことを特徴とする。
着による真空蒸着装置は、装置内部に金属インゴットの
表面全体を溶融させることを目的としたレーザー光源を
設けたことを特徴としている。この発明はまた、金属イ
ンゴットを収容するハースにハースライナを取り付けた
ことを特徴とする。
【０００５】
【作用】上記の構成によると、金属インゴットにレーザ
ー光をあてることによって、金属インゴットの表面全体
を溶融させることができ、これを実施することによって
、蒸着させる金属を、突沸の発生なく、正常な状態で、
真空蒸着させることが可能である。
ー光をあてることによって、金属インゴットの表面全体
を溶融させることができ、これを実施することによって
、蒸着させる金属を、突沸の発生なく、正常な状態で、
真空蒸着させることが可能である。
【０００６】また、ハースライナーは、金属インゴット
の熱がハースに放熱されることによる溶融困難ないし溶
融不足を防止する。
の熱がハースに放熱されることによる溶融困難ないし溶
融不足を防止する。
【０００７】
【実施例】以下、この発明について図面を参照して説明
する。図１は、この発明の一実施例のレーザー光源を有
する真空蒸着装置の概略構成図である。図において、１
はレーザー光源、２はレーザー光源１より生成されたレ
ーザー光、３は金属インゴット、４はハース、５は電子
ビーム、６はプラネタドーム、７はウェーハである。
する。図１は、この発明の一実施例のレーザー光源を有
する真空蒸着装置の概略構成図である。図において、１
はレーザー光源、２はレーザー光源１より生成されたレ
ーザー光、３は金属インゴット、４はハース、５は電子
ビーム、６はプラネタドーム、７はウェーハである。
【０００８】次に、上記レーザー光源を有する真空蒸着
装置の動作について説明する。この真空蒸着装置は、金
属インゴット３（例えば、ニッケルインゴット）に電子
ビーム５をあて、溶融すると同時に、電子ビーム５のあ
たっていない部分の金属インゴット３にレーザー光源１
で生成されたレーザー光２をあて、金属インゴット３の
表面全体を溶融した状態でプラネタドーム６に装着した
ウェーハ７に蒸着膜を形成するものである。
装置の動作について説明する。この真空蒸着装置は、金
属インゴット３（例えば、ニッケルインゴット）に電子
ビーム５をあて、溶融すると同時に、電子ビーム５のあ
たっていない部分の金属インゴット３にレーザー光源１
で生成されたレーザー光２をあて、金属インゴット３の
表面全体を溶融した状態でプラネタドーム６に装着した
ウェーハ７に蒸着膜を形成するものである。
【０００９】この実施例によれば、レーザー光２を金属
インゴット３にあてることにより、金属インゴット３の
電子ビーム５のあたらない部分を溶融することが可能と
なり、蒸着させる金属を突沸の発生なく、正常な状態で
蒸着することができるという利点がある。
インゴット３にあてることにより、金属インゴット３の
電子ビーム５のあたらない部分を溶融することが可能と
なり、蒸着させる金属を突沸の発生なく、正常な状態で
蒸着することができるという利点がある。
【００１０】
【実施例２】また、ハース４にはＢＮ（窒化ボロン）等
よりなるハースライナ（図示せず）を取り付けると、ハ
ース４内の金属インゴット３の冷却し過ぎを防止し、も
ってレーザ光２による金属インゴット３の確実な溶融を
確保する。
よりなるハースライナ（図示せず）を取り付けると、ハ
ース４内の金属インゴット３の冷却し過ぎを防止し、も
ってレーザ光２による金属インゴット３の確実な溶融を
確保する。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、この発明は従来の
電子ビームによる真空蒸着装置にレーザー光源を取り付
けたことにより、レーザー光を金属インゴットにあてる
ことが可能になり、金属インゴットの表面全体を溶融す
ることができ、ウェーハに金属を蒸着する際に発生する
突沸を防止することができ、正常な状態で蒸着できる効
果がある。
電子ビームによる真空蒸着装置にレーザー光源を取り付
けたことにより、レーザー光を金属インゴットにあてる
ことが可能になり、金属インゴットの表面全体を溶融す
ることができ、ウェーハに金属を蒸着する際に発生する
突沸を防止することができ、正常な状態で蒸着できる効
果がある。
【図１】 この発明のレーザー光源を有する真空蒸着
装置の概略構成図、
装置の概略構成図、
【図２】 従来の真空蒸着装置の概略構成図、
１ レーザー光源、
２ レーザー光、
３ 金属インゴット、
４ ハース、
５ 電子ビーム、
６ プラネタドーム、
７ ウェーハ、
８ 蒸着金属、
Claims (2)
- 【請求項１】電子ビームによる真空蒸着装置において、
装置内部に、金属インゴット表面全体を溶融させるため
のレーザー光源を設けたことを特徴とする真空蒸着装置
。 - 【請求項２】金属インゴットを収容するハースにハース
ライナを取り付けたことを特徴とする請求項１記載の真
空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12423991A JPH04350158A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12423991A JPH04350158A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04350158A true JPH04350158A (ja) | 1992-12-04 |
Family
ID=14880414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12423991A Pending JPH04350158A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04350158A (ja) |
-
1991
- 1991-05-29 JP JP12423991A patent/JPH04350158A/ja active Pending
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