JPH04351609A - 重合体の製造方法 - Google Patents
重合体の製造方法Info
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- JPH04351609A JPH04351609A JP12736691A JP12736691A JPH04351609A JP H04351609 A JPH04351609 A JP H04351609A JP 12736691 A JP12736691 A JP 12736691A JP 12736691 A JP12736691 A JP 12736691A JP H04351609 A JPH04351609 A JP H04351609A
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- Japan
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- polymer
- mmol
- formula
- thf
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリスチレン、スチレ
ン・アクリロニトリル共重合体、スチレン・α−メチル
スチレン共重合体、ハイインパクトポリスチレン等のス
チレン系樹脂の改質剤、相溶化剤として有用なカルボニ
ル基を有する重合体の製造方法に関する。
ン・アクリロニトリル共重合体、スチレン・α−メチル
スチレン共重合体、ハイインパクトポリスチレン等のス
チレン系樹脂の改質剤、相溶化剤として有用なカルボニ
ル基を有する重合体の製造方法に関する。
【0002】この重合体はカルボニル基を有するので、
この基を水酸基やシック塩基へ容易に変換することがで
きる。
この基を水酸基やシック塩基へ容易に変換することがで
きる。
【0003】
【従来の技術】水酸基、アミノ基、カルボキシル基を有
するスチレン系重合体の製造法は知られている(中浜精
一、平尾明著;Prog.Polymer Scie
nce;15巻,299頁,1990年)、(中浜精一
、平尾明、石曽根隆、加藤浩著;Macromolec
ules,24巻,7月号,1449頁,1991年)
。
するスチレン系重合体の製造法は知られている(中浜精
一、平尾明著;Prog.Polymer Scie
nce;15巻,299頁,1990年)、(中浜精一
、平尾明、石曽根隆、加藤浩著;Macromolec
ules,24巻,7月号,1449頁,1991年)
。
【0004】しかし、ケトン基(カルボニル基)を有す
るスチレン系重合体は得られていない。
るスチレン系重合体は得られていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、分子量およ
び分子量分布が制御されたケトン基を有するスチレン系
重合体の製造法を提供するものである。
び分子量分布が制御されたケトン基を有するスチレン系
重合体の製造法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、ケトン基を有
するスチレン誘導体のケトン基を有機シランにより保護
し、ついでアニオン重合した後、得られた重合体より有
機シランを脱離させてケトン基を有するスチレン系重合
体を製造する方法を提供するものである。
するスチレン誘導体のケトン基を有機シランにより保護
し、ついでアニオン重合した後、得られた重合体より有
機シランを脱離させてケトン基を有するスチレン系重合
体を製造する方法を提供するものである。
【0007】言いかえれば、本発明は、一般式(I)
【
0008】
0008】
【化5】
【0009】〔式中、R1 は水素原子、アルキル基ま
たはアリール基であり;R2 は炭素数1〜6のアルキ
ル基であり;R3 とR4 は各々独立して水素原子ま
たはアルキル基であり;R5 ,R6 およびR7 は
各々独立してアルキル基またはアリール基であって、R
5 とR6 とR7 の炭素数の和は少くとも4以上で
あり;nは0または1の整数である。また、一般式(I
I)
たはアリール基であり;R2 は炭素数1〜6のアルキ
ル基であり;R3 とR4 は各々独立して水素原子ま
たはアルキル基であり;R5 ,R6 およびR7 は
各々独立してアルキル基またはアリール基であって、R
5 とR6 とR7 の炭素数の和は少くとも4以上で
あり;nは0または1の整数である。また、一般式(I
I)
【0010】
【化6】
【0011】で示される基は、一般式(III)
【00
12】
12】
【化7】
【0013】で示される基に対し、メタ位またはパラ位
に位置する。〕で示される芳香族ビニル単量体をアニオ
ン重合させたのち、酸又は塩基の存在下でアルキルシラ
ン基を離脱させて一般式(IV)
に位置する。〕で示される芳香族ビニル単量体をアニオ
ン重合させたのち、酸又は塩基の存在下でアルキルシラ
ン基を離脱させて一般式(IV)
【0014】
【化8】
【0015】〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4
およびnの定義は式(I)と同じである〕で示されるユ
ニットを有する重合体を提供するものである。
およびnの定義は式(I)と同じである〕で示されるユ
ニットを有する重合体を提供するものである。
【0016】(有機シラン保護芳香族ビニル単量体)上
記一般式(I)で示される有機シランでケトン基が保護
された芳香族ビニル単量体は、式(V)
記一般式(I)で示される有機シランでケトン基が保護
された芳香族ビニル単量体は、式(V)
【0017】
【化9】
【0018】〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4
およびnは一般式(I)と同じである〕で示されるケト
ン基を有する芳香族ビニル単量体に、一般式(VI)
およびnは一般式(I)と同じである〕で示されるケト
ン基を有する芳香族ビニル単量体に、一般式(VI)
【
0019】
0019】
【化10】
【0020】〔式中、R5 とR6 とR7 は式(I
)と同じであり、Xはハロゲン原子である〕で示される
有機シランをアルカリ存在下で反応させることにより得
られる。
)と同じであり、Xはハロゲン原子である〕で示される
有機シランをアルカリ存在下で反応させることにより得
られる。
【0021】式(V)で示されるケトン基を有する芳香
族ビニル単量体としては、p−ビニルアセトフェノン、
m−ビニルアセトフェノン、p−ビニルプロピオフェノ
ン、p−イソプロペニルアセトフェノン、p−イソプロ
ペニルプロピオフェノン等が利用できる。この単量体に
おいて、ケトン基は、パラ位またはメタ位に位置するこ
とが必要である。
族ビニル単量体としては、p−ビニルアセトフェノン、
m−ビニルアセトフェノン、p−ビニルプロピオフェノ
ン、p−イソプロペニルアセトフェノン、p−イソプロ
ペニルプロピオフェノン等が利用できる。この単量体に
おいて、ケトン基は、パラ位またはメタ位に位置するこ
とが必要である。
【0022】式(IV)で示される有機シランとしては
、t−ブチルジメチルクロロシラン、t−ブチルジエチ
ルクロロシラン、ジメチルエチルブロモシラン、ジエチ
ルブチルブロモシラン、ジアリールメチルクロロシラン
等が利用できる。
、t−ブチルジメチルクロロシラン、t−ブチルジエチ
ルクロロシラン、ジメチルエチルブロモシラン、ジエチ
ルブチルブロモシラン、ジアリールメチルクロロシラン
等が利用できる。
【0023】反応は、水素化カリウム、水素化ナトリウ
ム等のアルカリの存在下、テトラヒドロフラン(THF
)、ジオキサン、ジメチルスルホアミド等の溶媒の存在
下、−100℃〜+20℃の温度で行なう。
ム等のアルカリの存在下、テトラヒドロフラン(THF
)、ジオキサン、ジメチルスルホアミド等の溶媒の存在
下、−100℃〜+20℃の温度で行なう。
【0024】(重合)一般式(I)で示されるビニル単
量体の重合は、金属含有重合開始剤の存在下、アニオン
重合することによりリビングポリマーが得られる。金属
含有重合開始剤としては、例えば、n−ブチルリチウム
、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム
、エチルリチウム、ベンジルカリウム、クミルカリウム
、K−ナフタレン、α−メチルスチレン二量体ジアニオ
ン−K、α−メチルスチレン四量体ジアニオン−Na、
Na−ナフタレン、Na−ビフェニル、Na−アントラ
セン等があげられる。
量体の重合は、金属含有重合開始剤の存在下、アニオン
重合することによりリビングポリマーが得られる。金属
含有重合開始剤としては、例えば、n−ブチルリチウム
、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム
、エチルリチウム、ベンジルカリウム、クミルカリウム
、K−ナフタレン、α−メチルスチレン二量体ジアニオ
ン−K、α−メチルスチレン四量体ジアニオン−Na、
Na−ナフタレン、Na−ビフェニル、Na−アントラ
セン等があげられる。
【0025】芳香族ビニル単量体に対する重合開始剤の
使用量は、0.01〜2重量%、好ましくは0.5〜1
重量%である。
使用量は、0.01〜2重量%、好ましくは0.5〜1
重量%である。
【0026】一般式(I)で示されるケトン基が有機シ
ランで保護された芳香族ビニル単量体の90モル%以下
、好ましくは5〜85モル%を、他のアニオン性単量体
に置き代えても良い。かかるアニオン重合性単量体の例
を挙げれば、スチレン、α−メチルスチレン、(o、m
、p)−メチルスチレン、(o、m、p)−クロルスチ
レン、(m、p)−ジビニルベンゼン、(m、p)−ジ
イソプロペニルベンゼン、(m、p)−ビニルイソプロ
ペニルベンゼン、ビニルナフタレン、アセナフタレン、
ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチルブタジエン
、1,3−ペンタジエン、2−シアノブタジエン、2−
クロロブタジエン、2−フェニルブタジエン、ビニルク
ロライド、ビニリデンクロライド、アクリロニトリル、
α−メタクリロニトリル、α−エタクリロニトリル、α
−オクチルアクリロニトリル、N,N−ジメチルアクリ
ルアミド、N,N−ジオクチルアクリルアミド、N−メ
チル−N−エチルアクリルアミド、メチルアクリレート
、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、2−メチルヘキシルアクリレート
、オクチルアクリレート、メチルメタクリレート、メチ
ルエタクリレート、エチルメタクリレート、フェニルメ
タクリレート、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジ
ン、エチルビニルケトン、t−ブチルビニルケトン、N
−ビニルカルバゾール、トリメトキシビニルシラン、ト
リエトキシビニルシラン、トリ2−メトキシエトキシシ
ラン、トリアセトキシビニルシラン、トリメチルビニル
シラン、トリブチルビニルシラン、ジメチルジビニルシ
ラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリ
シロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
2,4,6−トリメチル−2,4,6−トリフェニルシ
クロトリシロキサン、トリメチルトリエチルシクロトリ
シロキサン、テトラメチルテトラエチルシクロトリシロ
キサン、トリメチルトリビニルシクロトリシロキサン、
エチルイソシアネート、プロピルイソシアネート、n−
ブチルイソシアネート、イソブチルイソシアネート、ア
ミルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、オクタ
デシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ベン
ジルイソシアネート、アリルイソシアネート、トリルイ
ソシアネート、p−メトキシフェニルイソシアネート、
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,2−エポ
キシブタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポ
キシオクタン、2−フェニル−1,2−エポキシエタン
、4−フェニル1,2−エポキシブタン、ε−カプロラ
クトンおよびδ−バレロラクトンである。
ランで保護された芳香族ビニル単量体の90モル%以下
、好ましくは5〜85モル%を、他のアニオン性単量体
に置き代えても良い。かかるアニオン重合性単量体の例
を挙げれば、スチレン、α−メチルスチレン、(o、m
、p)−メチルスチレン、(o、m、p)−クロルスチ
レン、(m、p)−ジビニルベンゼン、(m、p)−ジ
イソプロペニルベンゼン、(m、p)−ビニルイソプロ
ペニルベンゼン、ビニルナフタレン、アセナフタレン、
ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチルブタジエン
、1,3−ペンタジエン、2−シアノブタジエン、2−
クロロブタジエン、2−フェニルブタジエン、ビニルク
ロライド、ビニリデンクロライド、アクリロニトリル、
α−メタクリロニトリル、α−エタクリロニトリル、α
−オクチルアクリロニトリル、N,N−ジメチルアクリ
ルアミド、N,N−ジオクチルアクリルアミド、N−メ
チル−N−エチルアクリルアミド、メチルアクリレート
、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、2−メチルヘキシルアクリレート
、オクチルアクリレート、メチルメタクリレート、メチ
ルエタクリレート、エチルメタクリレート、フェニルメ
タクリレート、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジ
ン、エチルビニルケトン、t−ブチルビニルケトン、N
−ビニルカルバゾール、トリメトキシビニルシラン、ト
リエトキシビニルシラン、トリ2−メトキシエトキシシ
ラン、トリアセトキシビニルシラン、トリメチルビニル
シラン、トリブチルビニルシラン、ジメチルジビニルシ
ラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリ
シロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
2,4,6−トリメチル−2,4,6−トリフェニルシ
クロトリシロキサン、トリメチルトリエチルシクロトリ
シロキサン、テトラメチルテトラエチルシクロトリシロ
キサン、トリメチルトリビニルシクロトリシロキサン、
エチルイソシアネート、プロピルイソシアネート、n−
ブチルイソシアネート、イソブチルイソシアネート、ア
ミルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、オクタ
デシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ベン
ジルイソシアネート、アリルイソシアネート、トリルイ
ソシアネート、p−メトキシフェニルイソシアネート、
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,2−エポ
キシブタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポ
キシオクタン、2−フェニル−1,2−エポキシエタン
、4−フェニル1,2−エポキシブタン、ε−カプロラ
クトンおよびδ−バレロラクトンである。
【0027】これらのアニオン重合性単量体は単独でま
たは2成分以上を混合あるいは逐次的に使用することも
できる。すなわち、このリビングポリマーは単独、ラン
ダムおよびブロック重合鎖であってもよい。
たは2成分以上を混合あるいは逐次的に使用することも
できる。すなわち、このリビングポリマーは単独、ラン
ダムおよびブロック重合鎖であってもよい。
【0028】一般式(I)で示されるアニオン重合性単
量体の重合は−100℃以上200℃以下、好ましくは
−90℃以上180℃以下、特に好ましくは−80℃以
上150℃以下、の温度で常圧下、減圧下または加圧下
で行なうことができる。
量体の重合は−100℃以上200℃以下、好ましくは
−90℃以上180℃以下、特に好ましくは−80℃以
上150℃以下、の温度で常圧下、減圧下または加圧下
で行なうことができる。
【0029】上記重合において使用することができる溶
媒としては、例えば、脂肪族炭化水素としてn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、脂環式炭化水素としてシクロヘキサ
ン、デカヒドロナフタレン、芳香族炭化水素としてベン
ゼン、トルエン、キシレン(o−、m−、p−)、非プ
ロトン性極性溶媒としてテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルエーテル、ピリジン、ジグリムなどを使用で
きる。これらの溶媒は、単独でも混合物でもよい。
媒としては、例えば、脂肪族炭化水素としてn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、脂環式炭化水素としてシクロヘキサ
ン、デカヒドロナフタレン、芳香族炭化水素としてベン
ゼン、トルエン、キシレン(o−、m−、p−)、非プ
ロトン性極性溶媒としてテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルエーテル、ピリジン、ジグリムなどを使用で
きる。これらの溶媒は、単独でも混合物でもよい。
【0030】(有機シランの脱離)有機シラン基により
ケトン基が保護された(シリルエノールエーテル構造)
リビングポリマーより、有機シランを脱離し、重合体に
ケトンを再生するために酸、または塩基をリビングポリ
マーに作用させる。
ケトン基が保護された(シリルエノールエーテル構造)
リビングポリマーより、有機シランを脱離し、重合体に
ケトンを再生するために酸、または塩基をリビングポリ
マーに作用させる。
【0031】
【作用】パラ位またはメタ位に置換した有機シリルエノ
ールエーテルを一般式(I)で示される芳香族ビニル単
量体は備えるので、アニオン重合が可能であり、分子量
、分子量分布が制御された一般式(IV)で示されるユ
ニットを有するポリマーが製造できる。
ールエーテルを一般式(I)で示される芳香族ビニル単
量体は備えるので、アニオン重合が可能であり、分子量
、分子量分布が制御された一般式(IV)で示されるユ
ニットを有するポリマーが製造できる。
【0032】
実施例1
(1)p−ビニルアセトフェノンの合成窒素置換した2
00mlの2口ナスフラスコ内に、Mg2.73g(1
12.3ミリモル)、THF10mlを入れ、エチレン
ジブロマイドを数滴加えてMgを活性化した。エチレン
の気泡が発生し始めたらp−クロロスチレン11.17
g(80.6ミリモル)/THF70ml溶液を60℃
で1時間かけて滴下した。滴下終了後、15分間還流し
、室温で1時間攪拌した。ガスクロマトグラフでp−ク
ロロスチレンが残っていないことを確認した後に、無水
酢酸9.72g(86.6ミリモル)/エーテル80m
lの混合溶液に−78℃で45分間かけてグリニヤール
試薬を滴下し、メカニカルスターラーを用いて−78℃
で3時間攪拌した。反応溶液を2N−HClと氷の入っ
たビーカーに注ぎ、エーテル抽出した後に5%NaOH
水溶液、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥
した。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明の
目的物8.05g(55.1ミリモル)を得た。
00mlの2口ナスフラスコ内に、Mg2.73g(1
12.3ミリモル)、THF10mlを入れ、エチレン
ジブロマイドを数滴加えてMgを活性化した。エチレン
の気泡が発生し始めたらp−クロロスチレン11.17
g(80.6ミリモル)/THF70ml溶液を60℃
で1時間かけて滴下した。滴下終了後、15分間還流し
、室温で1時間攪拌した。ガスクロマトグラフでp−ク
ロロスチレンが残っていないことを確認した後に、無水
酢酸9.72g(86.6ミリモル)/エーテル80m
lの混合溶液に−78℃で45分間かけてグリニヤール
試薬を滴下し、メカニカルスターラーを用いて−78℃
で3時間攪拌した。反応溶液を2N−HClと氷の入っ
たビーカーに注ぎ、エーテル抽出した後に5%NaOH
水溶液、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥
した。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明の
目的物8.05g(55.1ミリモル)を得た。
【0033】収率 68%、沸点 63〜64℃/
1mmHg(文献、80℃/0.5mmHg)(2)p
−ビニルアセトフェノンのシリル化窒素置換した200
mlの2口ナスフラスコ内に、水素化カリウムを入れ、
脱水ペンタン10mlで洗浄して傾斜法でペンタンを除
去した。洗浄を3回繰り返した後、水素化カリウムを秤
量した。この水素化カリウム4.13g(103ミリモ
ル)にTHF60mlを加え、p−ビニルアセトフェノ
ン5.94g(40.6ミリモル)/THF30ml溶
液を−78℃で40分間かけて滴下した。−78℃で1
時間攪拌した後、tert−ブチルジメチルクロロシラ
ン7.58g(50.3ミリモル)/THF60ml溶
液を−78℃で40分間かけて滴下し、室温で一晩攪拌
する。氷水とエーテルの混合溶媒中に反応溶液を注ぎ、
エーテルで抽出した後に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、減圧
蒸留して無色透明のp−(α−t−ブチル・ジメチルシ
リロキシビニル)スチレン7.12g(27.3ミリモ
ル)を得た。
1mmHg(文献、80℃/0.5mmHg)(2)p
−ビニルアセトフェノンのシリル化窒素置換した200
mlの2口ナスフラスコ内に、水素化カリウムを入れ、
脱水ペンタン10mlで洗浄して傾斜法でペンタンを除
去した。洗浄を3回繰り返した後、水素化カリウムを秤
量した。この水素化カリウム4.13g(103ミリモ
ル)にTHF60mlを加え、p−ビニルアセトフェノ
ン5.94g(40.6ミリモル)/THF30ml溶
液を−78℃で40分間かけて滴下した。−78℃で1
時間攪拌した後、tert−ブチルジメチルクロロシラ
ン7.58g(50.3ミリモル)/THF60ml溶
液を−78℃で40分間かけて滴下し、室温で一晩攪拌
する。氷水とエーテルの混合溶媒中に反応溶液を注ぎ、
エーテルで抽出した後に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、減圧
蒸留して無色透明のp−(α−t−ブチル・ジメチルシ
リロキシビニル)スチレン7.12g(27.3ミリモ
ル)を得た。
【0034】収率 67%、沸点 89〜91℃/
1mmHg (3)重合 重合は高真空下、ブレークシール法を用いて行なった。
1mmHg (3)重合 重合は高真空下、ブレークシール法を用いて行なった。
【0035】まず、装置内を洗浄用K−ナフタレン(0
.250ミリモル/5mlTHF溶液)で洗浄した。 次に開始剤用K−ナフタレン(0.0638ミリモル/
5mlTHF溶液)とα−メチルスチレン(0.215
ミリモル/5mlTHF溶液)を加え混合し、25℃で
1分間、次いで−78℃で10分間攪拌下反応させた。 次にp−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキシビニル
)スチレン(2.32ミリモル/10mlTHF溶液)
を−78℃で加え、十分に攪拌しながら10分間重合を
行った後、大過剰のメタノール中へ重合溶液を加え、生
成した重合体を沈澱させた。
.250ミリモル/5mlTHF溶液)で洗浄した。 次に開始剤用K−ナフタレン(0.0638ミリモル/
5mlTHF溶液)とα−メチルスチレン(0.215
ミリモル/5mlTHF溶液)を加え混合し、25℃で
1分間、次いで−78℃で10分間攪拌下反応させた。 次にp−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキシビニル
)スチレン(2.32ミリモル/10mlTHF溶液)
を−78℃で加え、十分に攪拌しながら10分間重合を
行った後、大過剰のメタノール中へ重合溶液を加え、生
成した重合体を沈澱させた。
【0036】重合体を濾過、乾燥した後、THF−メタ
ノールで2回再沈澱をし、最後にベンゼンより凍結乾燥
させた。得られた重合体はGPCで分子量分布〔重量平
均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)〕を測定し、
VPOで数平均分子量(Mn)を測定し、分子量分布(
Mw/Mn)=1.06、Mn=18000の結果を得
た。この値は、単量体と重合開始剤の比より算出した数
平均分子量の値20000に近似している。収率は、9
9.8%であった。
ノールで2回再沈澱をし、最後にベンゼンより凍結乾燥
させた。得られた重合体はGPCで分子量分布〔重量平
均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)〕を測定し、
VPOで数平均分子量(Mn)を測定し、分子量分布(
Mw/Mn)=1.06、Mn=18000の結果を得
た。この値は、単量体と重合開始剤の比より算出した数
平均分子量の値20000に近似している。収率は、9
9.8%であった。
【0037】(4)有機シランの脱離
この重合体0.24gを、THF1.5mlに溶解させ
、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオライドのTH
F溶液1.7ml(1.7ミリモル、1M)を加え、室
温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰のメタノール
中へ注いでポリマーを沈澱させ、濾過、乾燥した後、T
HF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより
凍結乾燥させた。得られた重合体の 1H−NMR及び
IRスペクトルより、有機シラン基が完全に除去され、
ケトンが生成していることが確認された。また、この反
応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確認さ
れた。
、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオライドのTH
F溶液1.7ml(1.7ミリモル、1M)を加え、室
温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰のメタノール
中へ注いでポリマーを沈澱させ、濾過、乾燥した後、T
HF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより
凍結乾燥させた。得られた重合体の 1H−NMR及び
IRスペクトルより、有機シラン基が完全に除去され、
ケトンが生成していることが確認された。また、この反
応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確認さ
れた。
【0038】これらのことから、得られたポリマーは、
次式(VII)
次式(VII)
【0039】
【化11】
【0040】で示されるユニットを有する重合体と推測
される。
される。
【0041】実施例2
実施例1において、K−ナフタレンの使用量を0.14
4ミリモル、α−メチルスチレンの使用量を0.404
ミリモル、p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキシ
ビニル)スチレンの使用量を2.75ミリモルと変更す
る他は同様にして重合を行った。結果を表1に示す。収
率は99.0%であった。
4ミリモル、α−メチルスチレンの使用量を0.404
ミリモル、p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキシ
ビニル)スチレンの使用量を2.75ミリモルと変更す
る他は同様にして重合を行った。結果を表1に示す。収
率は99.0%であった。
【0042】得られた重合体0.180gをTHF5m
lに溶解させ、室温で濃塩酸0.2mlを加えた。室温
で90分攪拌した後、反応溶液を大過剰のメタノール中
へ注いでポリマーを沈澱し、濾過乾燥した後、THF−
メタノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより凍結乾
燥させた。得られた重合体の 1H−NMR及びIRス
ペクトルより、有機シラン基が重合体より完全に除去さ
れ、ケトンが生成していることが確認された。また、こ
の反応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確
認された。
lに溶解させ、室温で濃塩酸0.2mlを加えた。室温
で90分攪拌した後、反応溶液を大過剰のメタノール中
へ注いでポリマーを沈澱し、濾過乾燥した後、THF−
メタノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより凍結乾
燥させた。得られた重合体の 1H−NMR及びIRス
ペクトルより、有機シラン基が重合体より完全に除去さ
れ、ケトンが生成していることが確認された。また、こ
の反応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確
認された。
【0043】実施例3
実施例1において、K−ナフタレンの使用量を0.09
58ミリモル、α−メチルスチレンの使用量を0.30
4ミリモル、p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキ
シビニル)スチレンの使用量を2.57ミリモルに変え
た以外は重合、脱離とも実施例1と全く同じ条件で行な
った。重合の結果を表1に示す。収率は99.1%であ
った。
58ミリモル、α−メチルスチレンの使用量を0.30
4ミリモル、p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキ
シビニル)スチレンの使用量を2.57ミリモルに変え
た以外は重合、脱離とも実施例1と全く同じ条件で行な
った。重合の結果を表1に示す。収率は99.1%であ
った。
【0044】実施例4
実施例1において、K−ナフタレンの使用量を0.03
91ミリモル、α−メチルスチレンの使用量を0.19
7ミリモル、p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキ
シビニル)スチレンの使用量を2.75ミリモルに変え
た以外は、重合、脱離とも実施例1と全く同じ条件で行
なった。重合の結果を表1に示す。収率は98.5%で
あった。
91ミリモル、α−メチルスチレンの使用量を0.19
7ミリモル、p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキ
シビニル)スチレンの使用量を2.75ミリモルに変え
た以外は、重合、脱離とも実施例1と全く同じ条件で行
なった。重合の結果を表1に示す。収率は98.5%で
あった。
【0045】実施例5
(1)p−イソプロペニルアセトフェノンの合成窒素置
換した200mlの2口ナスフラスコ内に、Mg2.4
4g(100.4ミリモル)、THF10mlを入れ、
エチレンジブロマイドを数滴加えてMgを活性化した。 エチレンの気泡が発生し始めたらp−イソプロペニルク
ロロベンゼン10.02g(65.7ミリモル)/TH
F50ml溶液を60℃で45分間かけて滴下した。 滴下終了後、途中でエチレンジブロマイドを数回加えな
がら6時間還流し、室温で一晩攪拌して反応を完結させ
る。GCでp−イソプロペニルクロロベンゼンが残って
いないことを確認した後に、無水酢酸7.56g(74
.0ミリモル)/エーテル60mlの混合溶液に−78
℃で45分間かけてグリニヤール試薬を滴下し、メカニ
カルスターラーを用いて−78℃で4時間攪拌する。反
応溶液を2N−HClと氷の入ったビーカーに注ぎ、エ
ーテル抽出した後に5%NaOH水溶液、水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。溶媒を減圧留去
した後、減圧蒸留して無色透明の目的物6.57g(4
1.0ミリモル)を得た。
換した200mlの2口ナスフラスコ内に、Mg2.4
4g(100.4ミリモル)、THF10mlを入れ、
エチレンジブロマイドを数滴加えてMgを活性化した。 エチレンの気泡が発生し始めたらp−イソプロペニルク
ロロベンゼン10.02g(65.7ミリモル)/TH
F50ml溶液を60℃で45分間かけて滴下した。 滴下終了後、途中でエチレンジブロマイドを数回加えな
がら6時間還流し、室温で一晩攪拌して反応を完結させ
る。GCでp−イソプロペニルクロロベンゼンが残って
いないことを確認した後に、無水酢酸7.56g(74
.0ミリモル)/エーテル60mlの混合溶液に−78
℃で45分間かけてグリニヤール試薬を滴下し、メカニ
カルスターラーを用いて−78℃で4時間攪拌する。反
応溶液を2N−HClと氷の入ったビーカーに注ぎ、エ
ーテル抽出した後に5%NaOH水溶液、水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。溶媒を減圧留去
した後、減圧蒸留して無色透明の目的物6.57g(4
1.0ミリモル)を得た。
【0046】収率 62%、沸点 62〜64℃/
0.2mmHg (2)p−イソプロペニルアセトフェノンのシリル化窒
素置換した200mlの2口ナスフラスコ内に、水素化
カリウムを入れ、脱水ペンタン10mlで洗浄して傾斜
法でペンタンを除去した。洗浄を3回繰り返した後、水
素化カリウムを秤量した。この水素化カリウム4.13
g(103ミリモル)にTHF60mlを加え、p−イ
ソプロペニルアセトフェノン6.51g(40.6ミリ
モル)/THF30ml溶液を−78℃で40分間かけ
て滴下した。−78℃で1時間攪拌した後、tert−
ブチルジメチルクロロシラン7.58g(50.3ミリ
モル)/THF60ml溶液を−78℃で40分間かけ
て滴下し、室温で一晩攪拌する。氷水とエーテルの混合
溶媒中に反応溶液を注ぎ、エーテルで抽出した後に飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明のp−(α
−t−ブチル・ジメチルシリロキシビニル)−α−メチ
ルスチレン6.11g(22.3ミリモル)を得た。
0.2mmHg (2)p−イソプロペニルアセトフェノンのシリル化窒
素置換した200mlの2口ナスフラスコ内に、水素化
カリウムを入れ、脱水ペンタン10mlで洗浄して傾斜
法でペンタンを除去した。洗浄を3回繰り返した後、水
素化カリウムを秤量した。この水素化カリウム4.13
g(103ミリモル)にTHF60mlを加え、p−イ
ソプロペニルアセトフェノン6.51g(40.6ミリ
モル)/THF30ml溶液を−78℃で40分間かけ
て滴下した。−78℃で1時間攪拌した後、tert−
ブチルジメチルクロロシラン7.58g(50.3ミリ
モル)/THF60ml溶液を−78℃で40分間かけ
て滴下し、室温で一晩攪拌する。氷水とエーテルの混合
溶媒中に反応溶液を注ぎ、エーテルで抽出した後に飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明のp−(α
−t−ブチル・ジメチルシリロキシビニル)−α−メチ
ルスチレン6.11g(22.3ミリモル)を得た。
【0047】収率 62%、沸点 77〜78℃/
0.25mmHg (3)重合 装置内を洗浄用K−ナフタレン(0.250ミリモル/
5mlTHF溶液)で洗浄した。次に開始剤用クミルカ
リウム(0.0590ミリモル/5mlTHF溶液)を
加え、−78℃まで冷却した。
0.25mmHg (3)重合 装置内を洗浄用K−ナフタレン(0.250ミリモル/
5mlTHF溶液)で洗浄した。次に開始剤用クミルカ
リウム(0.0590ミリモル/5mlTHF溶液)を
加え、−78℃まで冷却した。
【0048】次にp−(α−t−ブチル・ジメチルシリ
ロキシビニル)−α−メチルスチレン(1.94ミリモ
ル/10mlTHF溶液)を−78℃で加え、十分に攪
拌しながら15分間重合した後、大過剰のメタノール中
へ重合溶液を加え、生成した重合体を沈澱させた。
ロキシビニル)−α−メチルスチレン(1.94ミリモ
ル/10mlTHF溶液)を−78℃で加え、十分に攪
拌しながら15分間重合した後、大過剰のメタノール中
へ重合溶液を加え、生成した重合体を沈澱させた。
【0049】重合体を濾過、乾燥した後、THF−メタ
ノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより凍結乾燥さ
せた。得られた重合体はGPCで分子量分布を測定し、
VPOで数平均分子量(Mn)を測定した結果、分子量
分布(Mw/Mn)は1.03であり、Mnは1000
0であった。
ノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより凍結乾燥さ
せた。得られた重合体はGPCで分子量分布を測定し、
VPOで数平均分子量(Mn)を測定した結果、分子量
分布(Mw/Mn)は1.03であり、Mnは1000
0であった。
【0050】このMnの値は計算値の9100に近似す
る。収率は99.3%であった。
る。収率は99.3%であった。
【0051】(4)有機シランの脱離
得られた重合体0.180gをTHF5mlに溶解させ
、室温で濃塩酸0.2mlを加えた。室温で90分攪拌
した後、反応溶液を大過剰のメタノール中へ注いでポリ
マーを沈澱し、濾過乾燥した後、THF−メタノールで
2回再沈澱し、最後にベンゼンより凍結乾燥させた。得
られた重合体の 1H−NMR及びIRスペクトルより
有機シランが完全に除去され、ケトンが生成しているこ
とが確認された。また、この反応に伴う主鎖の架橋や切
断が起っていないことも確認された。
、室温で濃塩酸0.2mlを加えた。室温で90分攪拌
した後、反応溶液を大過剰のメタノール中へ注いでポリ
マーを沈澱し、濾過乾燥した後、THF−メタノールで
2回再沈澱し、最後にベンゼンより凍結乾燥させた。得
られた重合体の 1H−NMR及びIRスペクトルより
有機シランが完全に除去され、ケトンが生成しているこ
とが確認された。また、この反応に伴う主鎖の架橋や切
断が起っていないことも確認された。
【0052】実施例6
実施例5において、K−ナフタレンの代りにベンジルカ
リウムを0.059ミリモル用いる他は、同様にして有
機シラン保護、重合、有機シランの脱離を行って、収率
99.1%でポリマーを得た。
リウムを0.059ミリモル用いる他は、同様にして有
機シラン保護、重合、有機シランの脱離を行って、収率
99.1%でポリマーを得た。
【0053】実施例7
(1)p−イソプロペニルプロピオフェノンの合成窒素
置換した200mlの2口ナスフラスコ内に、Mg2.
44g(100.4ミリモル)、THF10mlを入れ
、エチレンジブロマイドを数滴加えてMgを活性化した
。エチレンの気泡が発生し始めたらp−イソプロペニル
クロロベンゼン10.8g(70.8ミリモル)/TH
F50ml溶液を60℃で45分間かけて滴下した。滴
下終了後、途中でエチレンジブロマイドを数回加えなが
ら6時間還流したのち、室温で一晩攪拌して反応を完結
させた。GCでp−イソプロペニルクロロベンゼンが残
っていないことを確認した後に、無水プロピオン酸10
.2g(78ミリモル)/エーテル60mlの混合溶液
に−78℃で45分間かけてグリニヤール試薬を滴下し
、メカニカルスターラーを用いて−78℃で4時間攪拌
する。反応溶液を2N−HClと氷の入ったビーカーに
注ぎ、エーテル抽出した後に5%NaOH水溶液、水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。溶媒を
減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明の目的物8.7
8g(50.4ミリモル)を得た。
置換した200mlの2口ナスフラスコ内に、Mg2.
44g(100.4ミリモル)、THF10mlを入れ
、エチレンジブロマイドを数滴加えてMgを活性化した
。エチレンの気泡が発生し始めたらp−イソプロペニル
クロロベンゼン10.8g(70.8ミリモル)/TH
F50ml溶液を60℃で45分間かけて滴下した。滴
下終了後、途中でエチレンジブロマイドを数回加えなが
ら6時間還流したのち、室温で一晩攪拌して反応を完結
させた。GCでp−イソプロペニルクロロベンゼンが残
っていないことを確認した後に、無水プロピオン酸10
.2g(78ミリモル)/エーテル60mlの混合溶液
に−78℃で45分間かけてグリニヤール試薬を滴下し
、メカニカルスターラーを用いて−78℃で4時間攪拌
する。反応溶液を2N−HClと氷の入ったビーカーに
注ぎ、エーテル抽出した後に5%NaOH水溶液、水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。溶媒を
減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明の目的物8.7
8g(50.4ミリモル)を得た。
【0054】収率 71%、沸点 75〜80℃/
1mmHg (2)p−イソプロペニルプロピオフェノンのシリル化
窒素置換した200mlの2口ナスフラスコ内に、水素
化カリウムを入れ、脱水ペンタン10mlで洗浄して傾
斜法でペンタンを除去した。洗浄を3回繰り返した後、
水素化カリウムを秤量した。この水素化カリウム4.1
3g(103ミリモル)にTHF60mlを加え、p−
イソプロペニルプロピオフェノン6.43g(40.6
ミリモル)/THF30ml溶液を−78℃で40分間
かけて滴下した。−78℃で1時間攪拌した後、ter
t−ブチルジメチルクロロシラン7.58g(50.3
ミリモル)/THF60ml溶液を−78℃で40分間
かけて滴下し、室温で一晩攪拌する。氷水とエーテルの
混合溶媒中に反応溶液を注ぎ、エーテルで抽出した後に
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明のp−
(α−t−ブチルジメチルシリロキシ−β−メチルビニ
ル)−α−メチルスチレン8.42g(29.2ミリモ
ル)を得た。
1mmHg (2)p−イソプロペニルプロピオフェノンのシリル化
窒素置換した200mlの2口ナスフラスコ内に、水素
化カリウムを入れ、脱水ペンタン10mlで洗浄して傾
斜法でペンタンを除去した。洗浄を3回繰り返した後、
水素化カリウムを秤量した。この水素化カリウム4.1
3g(103ミリモル)にTHF60mlを加え、p−
イソプロペニルプロピオフェノン6.43g(40.6
ミリモル)/THF30ml溶液を−78℃で40分間
かけて滴下した。−78℃で1時間攪拌した後、ter
t−ブチルジメチルクロロシラン7.58g(50.3
ミリモル)/THF60ml溶液を−78℃で40分間
かけて滴下し、室温で一晩攪拌する。氷水とエーテルの
混合溶媒中に反応溶液を注ぎ、エーテルで抽出した後に
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留して無色透明のp−
(α−t−ブチルジメチルシリロキシ−β−メチルビニ
ル)−α−メチルスチレン8.42g(29.2ミリモ
ル)を得た。
【0055】収率 59%、沸点 86〜89℃/
1mmHg (3)重合 重合は高真空下ブレークシール法を用いて行った。装置
内を洗浄用K−ナフタレン(0.25ミリモル/5ml
THF溶液)で洗浄した。次に開始剤用K−ナフタレン
(2.96ミリモル/5mlTHF溶液)とα−メチル
スチレン(0.349ミリモル/5mlTHF溶液)を
加え混合し、25℃で1分間、次いで−78℃で48時
間、攪拌下、反応させた。次にp−(α−t−ブチル・
ジメチルシリロキシ−β−メチルビニル)−α−メチル
スチレン(2.32ミリモル/10mlTHF溶液)を
−78℃で加え、十分に攪拌しながら10分間重合を行
った後、大過剰のメタノール中へ重合溶液を加え、生成
した重合体を沈澱させた。
1mmHg (3)重合 重合は高真空下ブレークシール法を用いて行った。装置
内を洗浄用K−ナフタレン(0.25ミリモル/5ml
THF溶液)で洗浄した。次に開始剤用K−ナフタレン
(2.96ミリモル/5mlTHF溶液)とα−メチル
スチレン(0.349ミリモル/5mlTHF溶液)を
加え混合し、25℃で1分間、次いで−78℃で48時
間、攪拌下、反応させた。次にp−(α−t−ブチル・
ジメチルシリロキシ−β−メチルビニル)−α−メチル
スチレン(2.32ミリモル/10mlTHF溶液)を
−78℃で加え、十分に攪拌しながら10分間重合を行
った後、大過剰のメタノール中へ重合溶液を加え、生成
した重合体を沈澱させた。
【0056】重合体を濾過、乾燥した後、THF−メタ
ノールで2回再沈澱をし、最後にベンゼンより凍結乾燥
させた。得られた重合体は分子量分布(Mw/Mn)=
1.06、Mn=10000の結果を得た。収率は98
.7%であった。
ノールで2回再沈澱をし、最後にベンゼンより凍結乾燥
させた。得られた重合体は分子量分布(Mw/Mn)=
1.06、Mn=10000の結果を得た。収率は98
.7%であった。
【0057】(4)有機シランの脱離
この重合体0.214gをTHF1.5mlに溶解させ
、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオライドのTH
F溶液1.7ml(1.7ミリモル,1M)を加え、室
温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰のメタノール
中へ注いでポリマーを沈澱させ、濾過、乾燥した後、T
HF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより
凍結乾燥させた。得られた重合体の 1H−NMR及び
IRスペクトルにより有機シラン基が完全に除去され、
ケトンが生成していることが確認された。また、この反
応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確認さ
れた。
、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオライドのTH
F溶液1.7ml(1.7ミリモル,1M)を加え、室
温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰のメタノール
中へ注いでポリマーを沈澱させ、濾過、乾燥した後、T
HF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベンゼンより
凍結乾燥させた。得られた重合体の 1H−NMR及び
IRスペクトルにより有機シラン基が完全に除去され、
ケトンが生成していることが確認された。また、この反
応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確認さ
れた。
【0058】実施例8
実施例5において、クミルカリウムに代えてK−ナフタ
レン0.119ミリモル、p−(α−t−ブチルジメチ
ルシリロキシビニル)−α−メチルスチレンの代りに、
p−(α−t−ブチルジメチルシリロキシ−β−メチル
ビニル)−α−メチルスチレン2.96ミリモルに変更
する他は重合、有機シリルの脱離を同様に行って、ポリ
マーを得た。収率98.9% 実施例9 装置内を洗浄用K−ナフタレン(0.250ミリモル/
5mlTHF溶液)で洗浄した。次に開始剤用K−ナフ
タレン(0.0353ミリモル/5mlTHF溶液)と
α−メチルスチレン(0.0709ミリモル/5mlT
HF溶液)を加え混合し、25℃で1分間、次いで−7
8℃で10分間、攪拌下反応させた。次にp−(α−t
−ブチル・ジメチルシリロキシビニル)スチレン(2ミ
リモル/10mlTHF溶液)を、−78℃で加え、十
分に攪拌しながら10分間重合した。ついでスチレン(
1.98ミリモル/10mlTHF溶液)を更に加え、
−78℃で10分間攪拌下、重合した。
レン0.119ミリモル、p−(α−t−ブチルジメチ
ルシリロキシビニル)−α−メチルスチレンの代りに、
p−(α−t−ブチルジメチルシリロキシ−β−メチル
ビニル)−α−メチルスチレン2.96ミリモルに変更
する他は重合、有機シリルの脱離を同様に行って、ポリ
マーを得た。収率98.9% 実施例9 装置内を洗浄用K−ナフタレン(0.250ミリモル/
5mlTHF溶液)で洗浄した。次に開始剤用K−ナフ
タレン(0.0353ミリモル/5mlTHF溶液)と
α−メチルスチレン(0.0709ミリモル/5mlT
HF溶液)を加え混合し、25℃で1分間、次いで−7
8℃で10分間、攪拌下反応させた。次にp−(α−t
−ブチル・ジメチルシリロキシビニル)スチレン(2ミ
リモル/10mlTHF溶液)を、−78℃で加え、十
分に攪拌しながら10分間重合した。ついでスチレン(
1.98ミリモル/10mlTHF溶液)を更に加え、
−78℃で10分間攪拌下、重合した。
【0059】その後、大過剰のメタノール中へ重合溶液
を加え、生成した重合体を沈澱させた。重合体を濾過、
乾燥した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後
にベンゼンより凍結乾燥させた。得られた重合体の分子
量分布は1.03であった。収率は98.7%であった
。開始剤のK−ナフタレンは2官能性であるのでABA
型ブロック共重合体が生成した。
を加え、生成した重合体を沈澱させた。重合体を濾過、
乾燥した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後
にベンゼンより凍結乾燥させた。得られた重合体の分子
量分布は1.03であった。収率は98.7%であった
。開始剤のK−ナフタレンは2官能性であるのでABA
型ブロック共重合体が生成した。
【0060】この重合体0.214gをTHF1.5m
lに溶解させ、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオ
ライドのTHF溶液1.7ml(1.7ミリモル,1M
)を加え、室温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰
のメタノール中へ注いでポリマーを沈澱し、濾過、乾燥
した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベ
ンゼンより凍結乾燥させた。
lに溶解させ、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオ
ライドのTHF溶液1.7ml(1.7ミリモル,1M
)を加え、室温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰
のメタノール中へ注いでポリマーを沈澱し、濾過、乾燥
した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベ
ンゼンより凍結乾燥させた。
【0061】得られた重合体の 1H−NMR及びIR
スペクトルより、有機シランが完全に除去され、ケトン
が生成していることが確認された。また、この反応に伴
う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確認された。
スペクトルより、有機シランが完全に除去され、ケトン
が生成していることが確認された。また、この反応に伴
う主鎖の架橋や切断が起っていないことも確認された。
【0062】実施例10
装置内を、洗浄用K−ナフタレン(0.250ミリモル
/5mlTHF溶液)で洗浄した。次に開始剤用K−ナ
フタレン(0.0410ミリモル/5mlTHF溶液)
を加え、−78℃に冷却した後、スチレン(2.55ミ
リモル/10mlTHF溶液)を加え攪拌下、−78℃
で10分間重合した後、p−(α−t−ブチル・ジメチ
ルシリロキシビニル)スチレン(2.4ミリモル/10
mlTHF溶液)を更に加え、−78℃で10分間攪拌
下、重合した。
/5mlTHF溶液)で洗浄した。次に開始剤用K−ナ
フタレン(0.0410ミリモル/5mlTHF溶液)
を加え、−78℃に冷却した後、スチレン(2.55ミ
リモル/10mlTHF溶液)を加え攪拌下、−78℃
で10分間重合した後、p−(α−t−ブチル・ジメチ
ルシリロキシビニル)スチレン(2.4ミリモル/10
mlTHF溶液)を更に加え、−78℃で10分間攪拌
下、重合した。
【0063】その後、大過剰のメタノール中へ重合溶液
を加え、生成した重合体を沈澱させた。重合体を濾過、
乾燥した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後
にベンゼンより凍結乾燥させた。得られた重合体の分子
量分布は1.05で、数平均分子量は44000であっ
た。収率は99.2%開始剤のK−ナフタレンは2官能
性であるのでABA型ブロック共重合体が生成した。
を加え、生成した重合体を沈澱させた。重合体を濾過、
乾燥した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後
にベンゼンより凍結乾燥させた。得られた重合体の分子
量分布は1.05で、数平均分子量は44000であっ
た。収率は99.2%開始剤のK−ナフタレンは2官能
性であるのでABA型ブロック共重合体が生成した。
【0064】この重合体0.214gをTHF1.5m
lに溶解させ、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオ
ライドのTHF溶液1.7ml(1.7ミリモル,1M
)を加え、室温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰
のメタノール中へ注いでポリマーを沈澱し、濾過、乾燥
した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベ
ンゼンより凍結乾燥させた。得られた重合体の 1H−
NMR及びIRスペクトルより、有機シランが完全に除
去され、ケトンが生成していることが確認された。また
、この反応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないこと
も確認された。
lに溶解させ、0℃でテトラブチルアンモニウムフルオ
ライドのTHF溶液1.7ml(1.7ミリモル,1M
)を加え、室温で1時間攪拌した後、反応溶液を大過剰
のメタノール中へ注いでポリマーを沈澱し、濾過、乾燥
した後、THF−メタノールで2回再沈澱し、最後にベ
ンゼンより凍結乾燥させた。得られた重合体の 1H−
NMR及びIRスペクトルより、有機シランが完全に除
去され、ケトンが生成していることが確認された。また
、この反応に伴う主鎖の架橋や切断が起っていないこと
も確認された。
【0065】比較例1
(1)p−ビニルアセトフェノンのシリル化窒素置換し
た200mlの2口ナスフラスコ内に、水素化カリウム
を入れ、脱水ペンタン10mlで洗浄して傾斜法でペン
タンを除去した。洗浄を3回繰り返した後、水素化カリ
ウムを秤量した。この水素化カリウム4.13g(10
3ミリモル)にTHF60mlを加え、p−ビニルアセ
トフェノン5.94g(40.6ミリモル)/THF3
0ml溶液を−78℃で40分間かけて滴下した。−7
8℃で1時間攪拌した後、トリメチルクロロシラン7.
58g(50.3ミリモル)/THF60ml溶液を−
78℃で40分間かけて滴下し、室温で一晩攪拌する。 氷水とエーテルの混合溶媒中に反応溶液を注ぎ、エーテ
ルで抽出した後に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留し
て無色透明のp−(α−トリメチルシリロキシビニル)
スチレン5.32g(24.4ミリモル)を得た。
た200mlの2口ナスフラスコ内に、水素化カリウム
を入れ、脱水ペンタン10mlで洗浄して傾斜法でペン
タンを除去した。洗浄を3回繰り返した後、水素化カリ
ウムを秤量した。この水素化カリウム4.13g(10
3ミリモル)にTHF60mlを加え、p−ビニルアセ
トフェノン5.94g(40.6ミリモル)/THF3
0ml溶液を−78℃で40分間かけて滴下した。−7
8℃で1時間攪拌した後、トリメチルクロロシラン7.
58g(50.3ミリモル)/THF60ml溶液を−
78℃で40分間かけて滴下し、室温で一晩攪拌する。 氷水とエーテルの混合溶媒中に反応溶液を注ぎ、エーテ
ルで抽出した後に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留し
て無色透明のp−(α−トリメチルシリロキシビニル)
スチレン5.32g(24.4ミリモル)を得た。
【0066】収率 60%、沸点 59〜60℃/
0.5mmHg (2)重合 p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキシビニル)ス
チレンの代りに、p−(α−トリメチルシリロキシビニ
ル)スチレン(2.32ミリモル/10mlTHF溶液
)を用いた他は、実施例1と同様に重合を行ったが、ポ
リマーは得られなかった。
0.5mmHg (2)重合 p−(α−t−ブチル・ジメチルシリロキシビニル)ス
チレンの代りに、p−(α−トリメチルシリロキシビニ
ル)スチレン(2.32ミリモル/10mlTHF溶液
)を用いた他は、実施例1と同様に重合を行ったが、ポ
リマーは得られなかった。
【0067】各実施例で得られた重合体の分子量分布、
数平均分子量(Mn)を表1に示す。
数平均分子量(Mn)を表1に示す。
【0068】
【表1】
【0069】
【発明の効果】ケトン基を特定の有機シランでマスクす
ることにより芳香族ビニル単量体のアニオン重合が可能
となり、得られたポリマーを酸で処理することにより、
ケトン基を有する芳香族ビニル重合体が得られる。
ることにより芳香族ビニル単量体のアニオン重合が可能
となり、得られたポリマーを酸で処理することにより、
ケトン基を有する芳香族ビニル重合体が得られる。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、R1 は水素原子、アルキル基またはアリール
基であり;R2 は炭素数1〜6のアルキル基であり;
R3 とR4 は各々独立して水素原子またはアルキル
基であり;R5 ,R6 およびR7 は各々独立して
アルキル基またはアリール基であって、R5 とR6
とR7 の炭素数の和は少くとも4以上であり;nは0
または1の整数である。また、一般式(II) 【化2】 で示される基は、一般式(III) 【化3】 で示される基に対し、メタ位またはパラ位に位置する。 〕で示される芳香族ビニル単量体をアニオン重合させた
のち、酸又は塩基の存在下でアルキルシラン基を離脱さ
せて一般式(IV) 【化4】 〔式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4およびnの定義
は式(I)と同じである〕で示されるユニットを有する
重合体を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12736691A JPH04351609A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12736691A JPH04351609A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04351609A true JPH04351609A (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=14958190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12736691A Pending JPH04351609A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04351609A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023502999A (ja) * | 2019-11-22 | 2023-01-26 | シュティヒティング フォーア デ テヒニッシェ ヴェテンシャッペン | 低分子を捕捉するための高分子組成物 |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP12736691A patent/JPH04351609A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023502999A (ja) * | 2019-11-22 | 2023-01-26 | シュティヒティング フォーア デ テヒニッシェ ヴェテンシャッペン | 低分子を捕捉するための高分子組成物 |
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