JPH04356701A - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はＶＴＲ等の高周波信号の
記録再生に適した磁気ヘッドに係り、特に高保磁力記録
媒体に対して好適な複合型磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】高密度磁気記録再生装置においては、磁
気記録媒体の保磁力Ｈｃを大きくすれば有利であること
はよく知られているが、高保磁力の磁気記録媒体に情報
を記録するためには、強い磁場が必要となる。ところが
、現在磁気ヘッドに用いられているフェライト材は、そ
の飽和磁束密度Ｂｓが４０００〜５０００ガウス程度で
あるため、得られる記録磁界の強さに限度があり、磁気
記録媒体の保磁力Ｈｃが１０００エルステッドを越える
場合には、記録が不十分になるという欠点がある。

【０００３】一方、金属磁性材料で総称されるＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金（センダストと称されている）、Ｎｉ−Ｆ
ｅ合金（パーマロイ）等の結晶質磁性合金、あるいは、
非晶質磁性合金を用いた磁気ヘッドは、一般にフェライ
ト材より飽和磁束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイ
ズが低いという優れた特性を有する。しかし、一般に使
用されるトラック幅（１０μｍ以上）の厚みでは渦電流
損失によりビデオ周波数領域での実効透磁率がフェライ
トより低下し、再生能率が低くなる欠点を有する。また
、耐摩耗性に関してはフェライトより数段劣る。

【０００４】そこで、上記のような問題を解決するため
に、フェライトと金属磁性材を組み合せて両者の良い点
を利用した複合型磁気ヘッドが提案されている。

【０００５】たとえば、図１にその磁気ヘッドコアの斜
視図を示すごとく、コア部１０が高透磁率フェライトか
らなり、記録作用の主要部となる作動ギャップ近傍部１
１が物理蒸着によって形成された金属磁性材からなる複
合型磁気ヘッドが提案されている。さらに、高密度記録
用磁気ヘッドに対しては狭トラック化のために、作動ギ
ャップ近傍にトラック幅絞り用の切り欠き溝１２を設け
、ここに補強用の非磁性材が充填されている。１３はコ
イル巻線用の窓である。

【０００６】図２は上記従来の磁気ヘッドの記録媒体対
向面の平面図を示したものである。ここでフェライトコ
ア部１０、１０′と金属磁性材部１１、１１′との結合
境界部１４、１４′が疑似の作動ギャップとして作用し
て記録再生特性を損なう欠点がある。特に、結合境界部
１４、１４′と作動ギャップ１５が平行になるとその境
界部で相当量の信号を拾うことになり、コンタ効果が激
しいという欠点を有する。

【０００７】また、コンタ効果を除くためにフェライト
コア部１０、１０′と金属磁性材部１１、１１′の結合
境界部１４、１４′に適当な凹凸を設ける方法が知られ
ている。しかし、コンター効果を完全除去することは難
かしい。

【０００８】他の従来例としては図３に示すような構造
のヘッドが知られている。該ヘッドは非磁性基板２０の
上に高飽和磁束密度を有する金属磁性材２１をスパッタ
リングや真空蒸着等の物理蒸着によってトラック幅に等
しい膜厚に形成し、その上に非磁性材２０′をガラス薄
膜で接着した後、２等分してギャップ突き合せ面をラッ
プし、コイル巻線窓２２を形成し、ギャップ突き合せ面
２３に規定の非磁性膜を介して接合することによって得
られる。この構造はギャップ形成法に問題があり、非能
率的で、ギャップ長精度も得難く、歩留が悪く生産性に
欠点を持つ。

【０００９】特開昭５６−１６９２１４号には、図１１
（ニ）、（ホ）に示すようなヘッドが開示されている。 該ヘッドは図１１（イ）に示すように、図１１（ハ）に
示す巻線窓１３より上の部分に三角形が連続した屋根形
のフェライトブロック１００を用意し、その屋根形の部
分にセンダスト合金のような磁性合金１１をスパッタリ
ング法等で被着形成し、図１１（ロ）に示すような複合
磁性ブロックとする、ついで磁性合金１１のみからなる
屋根形の頂上の部分を研磨してヘッドギャップ突き合わ
せ面を形成し、ここに酸化珪素膜を被着形成してヘッド
チップの一方をなす複合磁性ブロック１００ａを製作す
る。

【００１０】次に図１１（ハ）に示すように巻線窓１３
が設けられたチップの他方をなす複合磁性ブロック１０
０ｂと上述の１００ａを突き合わせ接着する。その後図
１１（ハ）の点線で示す部分を切断し、第図１１（ニ）
（ホ）で示すごとき複合磁気ヘッドとする。

【００１１】この様に製作された複合磁気ヘッドは、フ
ェライトコア部１０、１０′と磁性合金１１との接合面
の方向と、作動ギャップ１５の方向が斜交するため、不
所望の等価ヘッドギャップに起因する特性の劣化を低減
できる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高保
磁力記録媒体にも優れた記録再生特性を示し、製造容易
な複合型磁気ヘッドを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明の複合型磁気ヘッドは、２個の基体ブロッ
クと、該基体ブロックに媒体対向面側からその反対側の
面に渡って形成されてトラック幅より狭い幅のブロック
を残す切り溝と、該切り溝上に被着された磁性膜と、上
記狭い幅のブロックの部分に被着された磁性体が相対峙
して形成する磁気ギャップと、上記磁性膜の一部を切断
して存在するコイル巻線窓を有することを特徴とする。

【００１４】本発明は好ましくは、２個の基体ブロック
の突起部の相対向する側面の磁性体により形成される空
間に、非磁性の補強部材を充填しているため、媒体摺動
面が平らになり、媒体を傷つけることがない。さらに突
起部先端の磁性体を補強し、かつヘッド全体の強度を保
証する。また、磁性体をほぼ左右対称に形成することに
より、偏摩耗も防ぐことができる。また磁性膜が剥がれ
ることを防ぐ効果もある。

【００１５】前記突起部の幅は、作動ギャップより離れ
るに従って広くなるようにするのがよい。このようにす
ることで、溝側面に磁性体を効率的に堆積することがで
き、基体ブロックとの接触面積を広くすることができる
。また、突起部の頂角が大き過ぎるとトラック幅に誤差
を生じ易くなり、小さ過ぎると突起部が機械的に弱くな
るので、突起部の頂角（または両側面により形成される
角）は４５°〜９０°好ましい。

【００１６】前記基体ブロックは通常、Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライト又はＮｉ−Ｚｎフェライトとする。また、前記磁
性体は前記基体ブロックよりも飽和磁束密度が高く且つ
磁歪が０付近の高透磁率材料であれば何でもよいが、代
表的なものとしては周知のＦｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉ合金（いわゆるセンダスト系合金）、Ｎｉ−Ｆｅ
合金（いわゆるパーマロイ系合金）および各種の高透磁
率非晶質合金等を挙げることができる。また、例えばＳ
ｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３のような非磁性体からなる厚さ１０
０Å〜１μｍの非磁性体層と前記高飽和磁束密度磁性体
層とを交互に積層した磁性体でもよい。このように、磁
性体層と非磁性体層を交互に積層することにより磁気特
性を向上せしめることができる。

【００１７】作動ギャップ形成面は、ギャップ近傍の飽
和磁束密度を高めるため、前記磁性体のみで形成するの
が望ましいが、前記磁性体と前記基体ブロックの両者で
形成しても単一部材より成るコアで形成する従来のもの
に比較して本願発明の効果は認められる。

【００１８】基体ブロック突起部の両側面上の前記磁性
体膜上には、望ましくはコア側面に達するまで非磁性材
料が充填される。

【００１９】作動ギャップ形成面が前記高飽和磁束密度
の磁性体のみからなる場合、前記突起部における先端部
の基体ブロックのトラック幅方向の幅はトラック幅の１
／２以下とするのが好ましく、先端部の基体ブロック幅
を０にする、則ち先端部を角形にしてもよい。このよう
にすることによって、コンタ効果がほとんど問題になら
ない程度まで低下する。また前記先端部の基体ブロック
面が平坦にならないように加工すればコンタ効果の面で
さらに好ましい結果が得られる。

【００２０】作動ギャップ形成面が前記高飽和磁束密度
の磁性体と前記基体ブロックの両者からなる場合、作動
ギャップ近傍の飽和磁束密度を高めるため、ギャップ形
成面における前記磁性体のトラック幅方向の幅の合計を
基体ブロックの幅の２倍以上とすることが望ましい。

【００２１】前記基体ブロックの突起部の両側面上に被
着された前記高飽和磁束密度の磁性体の厚さは、通常、
トラック幅の１／２以下とする。これは、作動ギャップ
部において記録媒体対向面に露出している前記磁性体の
トラック幅方向の幅が、基体ブロック突起部の両側面に
被着された磁性体厚さの和もしくはそれ以上の値となる
からである。前記基体ブロックは突起部の先端部が角形
の場合には、作動ギャップ部の幅はほぼ前記磁性体の厚
さの和になるので、磁性体の厚さはトラック幅のほぼ１
／２にするのがよい。

【００２２】本発明においては、前記磁性体は基体ブロ
ック突起部の両側面に被着せしめるものであり、一方の
側面のみに被着したのでは該磁性体と該基体ブロックと
の接合面積が小さくなり磁気回路の磁気抵抗が増大し、
また被着する該磁性体の厚さをトラック幅程度まで厚く
しなければならず、さらには一方の側面のみに被着する
ために工程が複雑になり、好ましくない。

【００２３】なお、以上述べた磁気ヘッドは、コイル巻
線窓以外は実質的に同じ上記構造の２個のコア半体から
なるものであるが、これを一方のコア半体のみとして他
方については、作動ギャップ形成面に基体ブロックより
高飽和磁束密度の第２の磁性体が存在することを除いて
は異なる構造としてもよい。例えば、非磁性材料からな
る作動ギャップを介して相対峙している高飽和磁束密度
磁性体のうち、一方は上記構造の複合材において基体ブ
ロックに複合してなる第１の高飽和磁束密度磁性体で、
他方はこの複合材の上に堆積された第２の高飽和磁束密
度磁性体であってもよい。この場合、巻線コイルは薄膜
作成技術によって設けることが可能である。両磁性体の
材料は同一であっても、異なっていてもよい。

【００２４】本発明の複合型磁気ヘッドの構造において
、本明細書記載以外のことはすべて従来技術を踏襲する
ものとする。

【００２５】本発明の複合型磁気ヘッドはコアの占める
大部分は高透磁率のＭｎ−ＺｎフェライトあるいはＮｉ
−Ｚｎフェライトのバルク材からなり、作動ギャップ部
を構成する部分およびその近傍の大部分は高飽和磁束密
度を有する磁性材、たとえば、Ｆｅ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ系、Ｎｉ−Ｆｅ系などの結晶質合金あるいは非
晶質合金からなり、スパッタリング、真空蒸着等の物理
蒸着によって得られる。場合によってはケミカル蒸着、
メッキ等によっても形成可能である。また、磁性体は堆
積可能なものであれば金属磁性体以外のものでもよい。

【００２６】

【作用】本願発明による複合型磁気ヘッドは、異種の材
料の複合によりヘッドが構成されているため、飽和磁束
密度、実効透磁率、耐摩耗性に優れた特性が得られ、ま
た、異種材料の結合境界部が非平行でありコンタ効果に
よる悪影響も低減できる。

【００２７】さらに切欠き溝で狭められた部分を有する
２個の基体ブロックを用い、溝の面に磁性体を被着し、
２個の基体ブロックの狭められた部分の磁性体が作動ギ
ャップを介して相対峙し、かつ磁性膜を切断してコイル
巻線窓が存在する。本願発明では切欠き溝が媒体対向面
からその反対側の面まで通して形成されているために一
度に大ブロックに溝が複数形成し、後で小ブロックに分
割してヘッドを形成すれば良く量産に適している。さら
に磁性膜を溝の上に形成してからコイル巻線窓を形成し
ているために、磁性膜をコイル窓の上から形成する必要
が無く、平坦な溝部分に形成できるので特性の良い磁性
膜の形成が容易である。また磁気特性の良好な磁性膜を
媒体対向面からその反対側の面まで通して形成すること
で、優れた磁気回路を構成することが出来る。

【００２８】また、切欠き溝で狭められたブロックの表
面に磁性体を被着しているためにブロック部分が磁性体
の芯の働きをし、強度が充分得られる。また、ブロック
と磁性膜の接触面積が大きいために磁気特性が良い。

【００２９】また上記２つの基体ブロックの突起部側面
の磁性体にはさまれた空間に非磁性の補強部材を充填し
ているため、突起部先端の強度も保証され、また媒体摺
動面を平らに構成でき媒体を磁性膜の縁部で傷つける心
配がない。さらに磁性膜形状が左右対称であり偏摩耗や
段差摩耗の心配もない。

【００３０】

【実施例】以下、本発明の磁気ヘッドの構造について実
施例によって詳しく説明する。

【００３１】〔実施例１〕図４（ａ）、（ｂ）は本発明
の第１の実施例における複合型磁気ヘッドの構造を示す
斜視図と平面図である。３０、３０′はトラック部およ
び作動ギャップ部を形成し、高飽和磁束密度の金属磁性
体からなり、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｎｉ−Ｆ
ｅの結晶質合金もしくは非晶質合金で構成されており、
それぞれ、ほぼ磁歪零近傍の組成を有するものである。 一方、３１、３１′はＭｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚ
ｎフェライト等の高透磁率のバルク材からなり、前記金
属磁性体と磁気的に連結されている。また、一対の金属
磁性体の突き合せ部には所定の非磁性膜が形成され、作
動ギャップ３２を構成している。

【００３２】なお、トラック幅はコア幅より狭くなって
おり、トラック幅を決めるための切り溝が設けてある。 この切り溝はあらかじめフェライトブロックのギャップ
形成側の面にトラック幅より狭い幅のフェライト部を残
してその両側部にコア前部（媒体対向面側）から後部ま
で形成される。この残されたフェライト突起部の側部に
向けてスパッタリングあるいは真空蒸着等の薄膜形成技
術によって前記金属磁性材料３０、３０′が付着される
。なお、溝部にはガラス、セラミック、樹脂等の非磁性
材３３、３３′が補強材として充填されてなる。３４は
コイル巻線用窓である。

【００３３】また、図４（ｂ）は磁気テープ摺動面の拡
大図を示す。本発明においては、フェライト突起部３５
、３５′の両側部に金属磁性体膜３０、３０′を付着す
る。そのため金属磁性体の厚みはトラック幅ｔの半分程
度ですみ、膜形成時間が短縮される。図４（ｂ）の磁気
テープ摺動面において、フェライト突起部３５、３５′
が作動ギャップ３２から離れるにしたがって広くなる形
状にすればコア半体の時に作動ギャップ面側から金属磁
性体膜をスパッタリングすれば効率良く膜形成ができる
。また、前記金属磁性体膜が２本に分割されているので
単層膜でも渦電流損失の影響を低減できる。さらに、フ
ェライト部と金属磁性体膜の接合部の形状が作動ギャッ
プ３２と平行部を持たない構造になっているためコンタ
効果による特性劣化の心配がない。さらに、フェライト
突起部３５、３５′が金属磁性体膜の芯となっており、
しかも、作動ギャップの近傍まであるので耐摩耗性が保
証され、機械的強度も高いものである。さらに、本発明
が十数ミクロン以下のトラック幅を有する磁気ヘッドに
適しているのは、金属磁性体膜を付着した後にトラック
幅規制用の切り欠き溝加工を不用とするものであり、加
工中におこる膜のはく離の問題が解決される。

【００３４】上述した本発明の複合型磁気ヘッドは、ｉ
）高透磁率フェライトからなるブロックのギャップ形成
側の面に、トラック幅より狭い幅の先端部を有する突起
部を挾持するように隣接する２本の溝を１組とする少な
くとも１組の溝を平行に設ける工程、ｉｉ）工程ｉ）を
終了した前記フェライトブロックのギャップ形成側の面
の少なくとも前記溝面上に前記フェライトより飽和磁束
密度の高い磁性体を被着せしめる工程、ｉｉｉ）前記磁
性体が表面に被着されている前記溝に非磁性材を充填す
る工程、ｉｖ）前記非磁性材ならびに磁性体の不要部を
除去し、所定のトラック幅を有するギャップ形成面を露
呈せしめる工程、ｖ）工程ｉｖ）を終了したブロックを
一対用意し、少なくともその一方のブロックのギャップ
形成側の面に、前記溝とほぼ直交するようにコイル巻線
窓用溝を形成する工程、ｖｉ）工程ｖ）を終了した前記
１対のブロックの少なくとも一方のギャップ形成側の面
に所要の厚さの非磁性層を形成する工程、ｖｉｉ）工程
ｖｉ）を終了した前記１対のブロックのギャップ形成面
を相対峙せしめ、互に接合して一体化する工程、および
ｖｉｉｉ）接合された前記ブロックを所定の位置にて切
断し、少なくとも１個の磁気コアを得る工程を有する製
造方法により容易に製造することができる。

【００３５】工程ｉ）において、前記溝を、前記ブロッ
クのギャップ形成側の面の一つの稜から他の稜にかけて
縦断するように設けてもよいが、一稜部側にのみ設けて
もよい。また、工程ｉ）において、前記隣接する溝間の
突起部の先端部には平坦面が存在するように加工しても
よいし、平坦面が存在しないように加工してもよい。さ
らにまた、工程ｉ）において、前記突起部の先端が前記
各組の溝に隣接する平坦部と同一レベルになるようにし
てもよく、あるいは該隣接する平坦部より低くなるよう
にしてもよい。隣接平坦部より低くする場合には突起部
の先端と隣接平坦部とのレベル差は前記高飽和磁束密度
の磁性体の厚さ以下、すなわちトラック幅の半分以下と
する。そのようにしないと、前記磁性体を突起部に被着
後も前記レベル差が存在することになり、前記工程ｖｉ
ｉ）が困難となる。

【００３６】以下本発明の前記複合型磁気ヘッドの構造
の理解のためその製造方法を図を用いてさらに詳細に説
明する。

【００３７】製造方法の各工程の説明図を図８（イ）〜
（リ）に示す。

【００３８】ｉ）図８（イ）は高透磁率フェライトより
なるブロック４０のギャップ突き合せ面となる面４１に
トラック幅より狭い突起を残して隣接する２本の溝４２
、４２′を組とする複数組の溝を平行に設ける工程であ
る。ここで高透磁率フェライトはＭｎ−Ｚｎフェライト
、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの単結晶あるいは多結晶からな
り、磁気コアの主要部を形成する。溝は先端がＶ字もし
くはＵ字状に形成されたメタルボンド砥石もしくはレジ
ンボンド砥石が用いられ、高速ダイサ等によって加工さ
れる。また、溝４２、４２′は２枚の砥石を重ね同時に
加工することも可能である。図８（ロ）は図８（イ）で
示す工程で加工された溝４２、４２′の拡大側面を示す
（以下、図８（イ）、図８（ロ）等に対応する工程を工
程（イ）、工程（ロ）とする）。ここで、各組の溝の間
に残された平坦部４３は後工程、たとえば工程（ホ）の
研磨や工程（チ）のブロックの接合時における金属磁性
体膜の補強部であり、基準面となる。

【００３９】ｉｉ）工程（ハ）は前述（イ）の工程で得
られた溝部を含めギャップ突き合せ面全面にフェライト
より飽和磁束密度の高い金属磁性体膜４４をスパッタリ
ングによって堆積させる工程である。金属磁性体はＦｅ
−Ｓｉ（Ｓｉ６．５重量％）、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金（
センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）等で代表
される結晶質合金であり、非結晶合金はＣｏ−Ｆｅ−Ｓ
ｉ−Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイド系合金
やＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｚｒ等の周知のメタルーメ
タル系合金等が用いられる。堆積法は他に真空蒸着、イ
オンプレーティング、化学蒸着あるいはメッキ法等でも
可能であるが、限られた金属しかできないことや組成変
動が大きい等の難点があり、スパッタリング法が適して
いる。また、スパッタリング法は付着強度が高く、溝部
にも廻り込みがよいという利点があり本発明法に対して
適している。堆積する金属磁性体の膜厚は所要のトラッ
ク幅の約１／２でよい。したがって、従来法に比較して
単一の磁性体膜でも渦電流損失が低減できる。また、必
要ならば非磁性物質を交互に積層した多層膜としてもよ
い。

【００４０】ｉｉｉ）工程（ニ）は（ハ）で得られた金
属磁性体膜の上に少なくとも残りの溝部が埋まる程度に
非磁性材４５を充填する工程である。非磁性材４５はガ
ラス、セラミック系の無機接着材あるいは硬質の樹脂が
用いられる。安定性面からガラスが適している。ガラス
材は金属磁性体膜４４が結晶質合金であれば作業温度が
８００℃以下の広い範囲で選ぶことが可能である。一方
非結晶合金の場合は少なくとも結晶化温度以下のものが
選ばれ、作業温度が５００℃以下の低融点にガラスにす
る必要がある。

【００４１】ｉｖ）工程（ホ）は工程（ニ）で得られた
ブロックの不要の非磁性材４５および金属磁性体膜４４
を除去し、所要のトラック幅ｔの金属磁性体膜からなる
作動ギャップ形成面を露呈させる工程である。除去法は
研削および研磨によって行われ、ギャップ突き合せ面を
得るため、最終仕上げは鏡面研磨面とする。鏡面研磨は
前記トラック幅ｔが得られるまで行う。

【００４２】ｖ）工程（ヘ）は工程（ホ）で得られたブ
ロックを一対用意し、少なくとも一方のブロック４０′
にコイル巻線用溝４６を形成し、次にギャップ形成面に
ＳｉＯ２、ガラス等非磁性材を所要の厚さにスパッタリ
ングしてギャップ形成膜とする工程である。

【００４３】ｖｉ）工程（ト）は前記一対のブロック４
０、４０′のギャップ突き合面を互いにトラック部が合
うように突き合せて加熱、加圧しながら接合一体化する
工程である。この場合、接合は溝に充填されている非磁
性材４５がガラスならばお互いのガラスによって行われ
、樹脂を用いた場合には別途コイル巻線窓の一部、およ
び後部接合部に切り欠き溝を設けて樹脂によって行われ
る。

【００４４】ｖｉｉ）図８（チ）は工程（ト）で得られ
た接合ブロック４７の磁気テープ摺動面を示す。工程（
チ）はトラック幅を中心にして点線で示す所要のコア幅
Ｔになるように切断して複合型磁気ヘッドを複数個得る
工程である。場合によってはアジマス角だけ傾けて切断
される。このようにして、図８（リ）にその磁気テープ
摺動面を示すような構造の狭トラック複合型磁気ヘッド
コアが得られる。これにコイルを巻装することにより本
発明の複合型磁気ヘッドが得られる。

【００４５】〔実施例２〕図５（ａ）、（ｂ）は本発明
の他の実施例における複合型磁気ヘッドの構成を示す斜
視図と平面図である。概略は切り込み溝を磁気ヘッドコ
アの前部すなわち記録媒体対向面側のみに形成し、後部
はフェライトのコア幅全面で接触する構造になっている
ものである。このようにすれば、さらに狭トラックを有
する磁気ヘッドに対しても、後部の磁気抵抗が増大しな
いため効率のよい狭トラックヘッドを得ることができる
。それぞれに付記した符号は図４と同一である。なお、
補強材３３、３３′の充填溝形状は砥石の形状によって
種々選ぶことができ、いずれもフェライトの突起部３５
、３５′は作動ギャップより離れるに従って広がる構造
となっており、所定のアジマス損失を生じさせてクロス
トークの減少が図られている。また、フェライト突起部
が作動ギャップ部に近づければ作動ギャップ面近傍での
渦電流損失を低減することができ望ましい。なお、図５
の構造の磁気ヘッドの場合にはコア後部の接合部に切り
欠き溝を設けこれに補強材３６を充填するとよい。

【００４６】実施例１の複合型磁気ヘッドでは、これを
製造する際、図８（イ）に示すように溝がギャップ形成
面にコア後部（磁気記録媒体対向面と反対の側）まで通
し形成されており、一度に大ブロックに溝が形成でき、
後で小ブロックに分割すればよく、この点で量産に適し
ているが、トラック幅が狭くなった場合に後部コア部の
接触面積が狭くコア後部の磁気抵抗が高くなってしまい
好ましくない。また、前部（磁気記録媒体対向面側）で
トラック幅の突き合せを行っても後部に合せずれが起り
１０ミクロン以下のトラック幅ではほとんど磁性体部で
の接触部がなくなってしまう場合がある。この問題に対
して実施例２の複合型磁気ヘッドでは、第９図に示すよ
うに高透磁率フェライトブロック４０の稜部に切り欠き
溝４２、４２′を形成することによって解決している。 以後は図８（ハ）以後の工程により磁気ヘッドを得るも
のである。完成ヘッドは図５に示すような複合型磁気ヘ
ッドが得られる。

【００４７】図１０（ａ）〜（ｄ）に種々の溝形状なら
びに加工法について他の例を示す。図１０（ａ）は先端
がＶ字状の成形砥石を用いて加工した溝４２、４２′で
示す。この場合、溝の角度θがあまり大きいと突起部４
８の角度θ′が大きくなり、金属磁性体膜を形成した後
研磨して図８（ホ）に示すようにトラック幅ｔを得る寸
法精度のばらつきが大きくなる。逆に角度θを小さくす
ると狭トラックの場合突起部が機械的に弱くなり、加工
中に欠けてしまうことがある。したがって、突起部角度
θ′は４５〜９０°程度が好ましい。しかし、この範囲
外でも製造可能であり、これに限定されない。一方、図
１０（ｂ）に示すように突起部４８の先端部だけを矩形
にすることができるが、この場合、突起部の先端に平坦
部がない方が好ましい。この加工法は機械加工によって
もよいが、金属磁性体膜を堆積する前に逆スパッタリン
グ法によって点線４９で示すように角部を加工すること
によってもよい。

【００４８】以上のような溝加工は、図１０（ｃ）に示
すように２枚重ねの砥石５０を用いれば、一度に突起を
形成することができる。また、図１０（ｄ）に示すよう
にマルチワイヤーソを用いれば同時に多数のブロック加
工が可能である。この場合溝４２の形状はＵ字状に形成
される。また、レザー加工やホトエッチング技術が適用
でき、これらの技術を併用してもよい。

【００４９】〔実施例３〕図６は本発明のさらに他の実
施例における複合型磁気ヘッドの平面図を示す。この図
は磁気テープ摺動面の拡大図を示している。金属磁性体
膜３０、３０′の芯となるフェライト突起部３５、３５
′の先端部の接合面は、作動ギャップ面と平行部を形成
してもトラック幅ｔに対してフェライト突起部の幅ａが
１／２以下なら再生におけるコンタ効果が０．５ｄＢ以
下となりほとんど問題とならない。この時、フェライト
突起部の先端部が平坦にならないように加工しておけば
より好ましい。

【００５０】〔実施例４〕図７は本発明の別の実施例に
おける複合型磁気ヘッドの概略平面図であり、磁気テー
プ摺動面を拡大して示している。本実施例の磁気ヘッド
は作動ギャップ部３２が金属磁性体膜３０、３０′とフ
ェライト３５、３５′からなり、トラック幅ｔを構成す
る前記金属磁性体膜の幅が前記フェライトの幅ｂの２倍
以上にしてなる。このようにすれば記録の場合は高飽和
磁束密度を有する金属磁性体部で支配的に行われ、特に
再生の場合に高透磁率のフェライト部が支配的となり全
体に再生効率が高められる。なお、フェライトの幅が広
いとトラック中央部の記録が不十分となり、再生出力が
劣化してしまう。

【００５１】

【発明の効果】以上に説明したごとく、本発明による複
合型磁気ヘッドは高保磁力を有する記録媒体にも十分記
録可能な高飽和磁束密度の金属性体と高透磁率で高耐摩
耗性を有するフェライト等とを組み合せ、互いに欠点を
補なって、記録および再生特性の優れた狭トラック磁気
ヘッドとなっている。

【００５２】なお、磁気ヘッドを示す各図面において、
コイルの図示を省略してあるが、コイルは装着するもの
とする。

【００５３】以上に説明したごとく本発明の複合型磁気
ヘッドは、従来の複合型磁気ヘッドに比べ、（１）渦電
流損失が小さくできる構造となっている。

【００５４】（２）コンター効果が無視できる。

【００５５】（３）金属磁性体膜とフェライトとの接触
面積が広く取れる、等の構造的利点があり優れたヘッド
性能が得られる。

【００５６】（４）一枚の金属磁性体膜を作動ギャップ
部で２倍に利用しているので金属磁性体膜の堆積時間が
半分で済み量産性がある。

【００５７】（５）トラック幅決め加工の時に金属磁性
体膜の側面を砥石で加工する必要がなく、加工部のチッ
ピングやバリおよび膜のはく離等の問題がない。

【００５８】（６）非磁性の補強部材を充填しているた
め、媒体摺動面が平らになり、媒体を傷つけず、ヘッド
全体の強度も保証される。また、偏摩耗もない。

【００５９】（７）量産が容易であり、大量生産に適し
た構造である。

【００６０】等の大きな利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の複合型磁気ヘッドの斜視図および上面図

【図２】従来の複合型磁気ヘッドの斜視図および上面図

【図３】他の従来の複合型磁気ヘッドの斜視図

【図４】
（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例における複合型磁気
ヘッドの斜視図および磁気テープ摺動面の拡大図

【図５】（ａ）、（ｂ）は本発明の他の実施例における
複合型磁気ヘッドの斜視図および磁気テープ摺動面拡大
図

【図６】本発明のさらに他の実施例における複合型磁気
ヘッドの磁気テープ摺動面拡大図

【図７】本発明のさらに他の実施例における複合型磁気
ヘッドの磁気テープ摺動面拡大図

【図８】（イ）〜（リ）は本発明の複合型磁気ヘッドの
製造工程の説明図

【図９】本発明の複合型磁気ヘッドの製造における加工
されたフェライトブロックの斜視図

【図１０】（ａ）、（ｂ）、（ｄ）は本発明の各種実施
例に用いられる加工されたフェライトブロックの平面図
、（ｃ）は本発明の製造において用いるフェライトブロ
ック加工用砥石の断面図

【図１１】（イ）〜（ホ）は従来の複合型磁気ヘッドの
製造方法の各工程の説明図、斜視図及び平面図である

【符号の説明】

３０、３０′…金属磁性体膜、３１、３１′…高透磁率
フェライトブロック、３２…作動ギャップ、３３、３３
′…非磁性充填材、３４…コイル巻線窓、３５、３５′
…フェライト突起部、４０…高透磁率フェライトブロッ
ク、４１…ギャップ形成側の面、４２、４２′…溝、４
４…金属磁性体膜、４５…非磁性材、４７…接合ブロッ
ク、５０……砥石。

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】２個の基体ブロックと、該基体ブロックに
   媒体対向面側からその反対側の面に渡って形成されてト
   ラック幅より狭い幅のブロックを残す切り溝と、該切り
   溝上に被着された磁性膜と、上記狭い幅のブロックの部
   分に被着された磁性体が相対峙して形成する磁気ギャッ
   プと、上記磁性膜の一部を切断して存在するコイル巻線
   窓を有する複合型磁気ヘッド。
2. 【請求項２】前記磁性体は非晶質合金であることを特徴
   とする請求項１記載の複合型磁気ヘッド。
3. 【請求項３】前記磁性体は結晶質であることを特徴とす
   る請求項１記載の複合型磁気ヘッド。
4. 【請求項４】前記非磁性体はガラス、セラミック、樹脂
   のうちの少なくとも１つであることを特徴とする請求項
   １乃至３のうちいずれかに記載の複合型磁気ヘッド。
5. 【請求項５】前記非磁性体の融点は、前記非晶質の磁性
   体の結晶化温度以下であることを特徴とする請求項３記
   載の複合型磁気ヘッド。
6. 【請求項６】作動ギャップ形成面が前記磁性体のみから
   なることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれかに
   記載の複合型磁気ヘッド。
7. 【請求項７】前記狭い幅のブロックの幅がトラック幅の
   １／２以下であることを特徴とする請求項６記載の複合
   型磁気ヘッド。
8. 【請求項８】前記狭い幅のブロックの幅がほぼ０である
   ことを特徴とする請求項６記載の複合型磁気ヘッド。
9. 【請求項９】前記磁性体の厚さがトラック幅の１／２以
   下であることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれ
   かに記載の複合型磁気ヘッド。
10. 【請求項１０】前記磁性体の厚さがトラック幅のほぼ１
    ／２であることを特徴とする請求項８記載の複合型磁気
    ヘッド。
11. 【請求項１１】作動ギャップ形成面が前記磁性体ならび
    に前記基体ブロックからなることを特徴とする請求項１
    乃至５のうちいずれかに記載の複合型磁気ヘッド。
12. 【請求項１２】前記作動ギャップ形成面における前記磁
    性体のトラック幅方向の幅が前記狭い幅のブロックの幅
    の少なくとも２倍であることを特徴とする請求項１１記
    載の複合型磁気ヘッド。
13. 【請求項１３】前記基体ブロックがＭｎ−Ｚｎフェライ
    トもしくはＮｉ−Ｚｎフェライトであることを特徴とす
    る請求項１乃至１２のいずれかの項に記載の複合型磁気
    ヘッド。
14. 【請求項１４】前記磁性体が一部除去され、コイル巻線
    用溝の一部又は全部が形成されていることを特徴とする
    請求項１３記載の複合型磁気ヘッド。
15. 【請求項１５】前記磁性体がＦｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ａ
    ｌ−Ｓｉ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金もしくは高透磁率非晶質
    合金であることを特徴とする請求項１記載の複合型磁気
    ヘッド。
16. 【請求項１６】前記磁性体は多層構造となっていること
    を特徴とする請求項１記載の複合型磁気ヘッド。
17. 【請求項１７】前記磁性体は非磁性体と交互に積層され
    た多層構造となっていることを特徴とする請求項１６記
    載の複合型磁気ヘッド。
18. 【請求項１８】前記非磁性体はＳｉＯ２又はＡｌ２Ｏ３
    であることを特徴とする請求項１７記載の複合型磁気ヘ
    ッド。
19. 【請求項１９】前記多層構造はスパッタリング法により
    形成されていることを特徴とする請求項１６乃至１８の
    うちいずれかに記載の複合型磁気ヘッド。