JPH04356744A - 光ディスク原盤露光方法及びその装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光方法及びその装置Info
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- JPH04356744A JPH04356744A JP4586191A JP4586191A JPH04356744A JP H04356744 A JPH04356744 A JP H04356744A JP 4586191 A JP4586191 A JP 4586191A JP 4586191 A JP4586191 A JP 4586191A JP H04356744 A JPH04356744 A JP H04356744A
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- light
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスク原盤露光方法
及びその装置に関し、特にレジスト剤の感度変動に対応
して露光光量を適宜設定するようにした光ディスク原盤
露光方法及びその装置に関するものである。
及びその装置に関し、特にレジスト剤の感度変動に対応
して露光光量を適宜設定するようにした光ディスク原盤
露光方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年においては、光ディスクを利用した
画像情報等の提供が行われ、これら光ディスクを製造す
る際の原盤を作成するための光ディスク原盤露光装置も
種々開発されている。
画像情報等の提供が行われ、これら光ディスクを製造す
る際の原盤を作成するための光ディスク原盤露光装置も
種々開発されている。
【０００３】このような従来の光ディスク原盤露光装置
においては、露光の際にガラス原盤に塗布されたレジス
ト剤の膜厚と露光光量のみを管理するようにしており、
そのため溝形状を管理するための試し露光を行わなけれ
ばならない。
においては、露光の際にガラス原盤に塗布されたレジス
ト剤の膜厚と露光光量のみを管理するようにしており、
そのため溝形状を管理するための試し露光を行わなけれ
ばならない。
【０００４】すなわち、光ディスクの原盤露光時に形成
された溝形状により、光ディスクの再生信号の特性は大
きく左右される。したがって、露光時の溝形状を管理し
、安定化させることが大きな課題となっている。その管
理方法として、従来はレジスト剤の膜厚の管理や露光用
レーザの光軸、光量の制御等を行なうようにしていた。
された溝形状により、光ディスクの再生信号の特性は大
きく左右される。したがって、露光時の溝形状を管理し
、安定化させることが大きな課題となっている。その管
理方法として、従来はレジスト剤の膜厚の管理や露光用
レーザの光軸、光量の制御等を行なうようにしていた。
【０００５】しかしながら、このレジスト剤は、膜厚の
みを管理するのではなく、感度についても考慮する必要
がある。すなわち、レジスト剤は、ロットにより、また
その保存期間や光ディスク原盤への塗布後の放置時間等
により感度に差異が生じる。さらには、光ディスク原盤
への塗布の際の塗りムラによって同一原盤内でも感度に
ばらつきが生じることがあった。
みを管理するのではなく、感度についても考慮する必要
がある。すなわち、レジスト剤は、ロットにより、また
その保存期間や光ディスク原盤への塗布後の放置時間等
により感度に差異が生じる。さらには、光ディスク原盤
への塗布の際の塗りムラによって同一原盤内でも感度に
ばらつきが生じることがあった。
【０００６】このように、従来の装置ではロット、保存
期間或いは塗布後の放置時間等により生じるレジスト剤
の感度の差異を全く考慮することなく、露光光量の制御
を行っていたことから、溝形状の管理には自ずと限界が
あった。本発明は上記事情に鑑みなされたもので、レジ
スト剤の感度をも考慮した露光光量の制御を行ない常に
安定した溝形状で形成し得る光ディスク原盤露光方法及
びその装置を提供することを目的とする。
期間或いは塗布後の放置時間等により生じるレジスト剤
の感度の差異を全く考慮することなく、露光光量の制御
を行っていたことから、溝形状の管理には自ずと限界が
あった。本発明は上記事情に鑑みなされたもので、レジ
スト剤の感度をも考慮した露光光量の制御を行ない常に
安定した溝形状で形成し得る光ディスク原盤露光方法及
びその装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【発明の構成】上記目的を達成するために、第１の発明
は第１図に示すように、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤２１にレーザ光を照射して露光を行う際に、当
該光ディスク原盤２１に向けて出射されたレーザ光の反
射光量及び透過光量に基づいて、光ディスク原盤を照射
するレーザ光の露光光量を制御することを要旨とする。
は第１図に示すように、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤２１にレーザ光を照射して露光を行う際に、当
該光ディスク原盤２１に向けて出射されたレーザ光の反
射光量及び透過光量に基づいて、光ディスク原盤を照射
するレーザ光の露光光量を制御することを要旨とする。
【０００８】また、第２の発明は、光ディスク原盤を作
成する光ディスク原盤露光装置において、レジスト剤の
塗布された光ディスク原盤にレーザ光を照射するレーザ
光照射手段と、このレーザ光照射手段から出射されるレ
ーザ光の光軸上にあって入力される制御信号によって当
該レーザ光の光量を制御する音響光学変調器と、前記レ
ーザ光照射手段から照射され、当該光ディスク原盤で反
射された反射光を入射する第１の検出手段と、前記レー
ザ光照射手段から照射され、当該光ディスク原盤を透過
した透過光を入射する第２の検出手段と、この第１の検
出手段と第２の検出手段で検出される反射光量および透
過光量から当該光ディスクに塗布されるレジスト剤の感
度に係る値を演算し、この値に応じて前記音響光学変調
器に制御信号を出力して露光光量を設定する制御手段と
を具備することを要旨とする。
成する光ディスク原盤露光装置において、レジスト剤の
塗布された光ディスク原盤にレーザ光を照射するレーザ
光照射手段と、このレーザ光照射手段から出射されるレ
ーザ光の光軸上にあって入力される制御信号によって当
該レーザ光の光量を制御する音響光学変調器と、前記レ
ーザ光照射手段から照射され、当該光ディスク原盤で反
射された反射光を入射する第１の検出手段と、前記レー
ザ光照射手段から照射され、当該光ディスク原盤を透過
した透過光を入射する第２の検出手段と、この第１の検
出手段と第２の検出手段で検出される反射光量および透
過光量から当該光ディスクに塗布されるレジスト剤の感
度に係る値を演算し、この値に応じて前記音響光学変調
器に制御信号を出力して露光光量を設定する制御手段と
を具備することを要旨とする。
【０００９】第３の発明は、光ディスク原盤を作成する
光ディスク原盤露光装置において、レジスト剤の塗布さ
れた光ディスク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射
手段と、このレーザ光照射手段から照射され、当該光デ
ィスク原盤を介して入射されるレーザ光の光路間に挿脱
自在に設けられ、当該レーザ光の光量を検出する検出手
段と、この検出手段で検出される光量から当該光ディス
クに塗布されるレジスト剤の感度に係る値を求め、この
値に応じて前記レーザ光照射手段を制御する制御手段と
を具備することを要旨とする。
光ディスク原盤露光装置において、レジスト剤の塗布さ
れた光ディスク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射
手段と、このレーザ光照射手段から照射され、当該光デ
ィスク原盤を介して入射されるレーザ光の光路間に挿脱
自在に設けられ、当該レーザ光の光量を検出する検出手
段と、この検出手段で検出される光量から当該光ディス
クに塗布されるレジスト剤の感度に係る値を求め、この
値に応じて前記レーザ光照射手段を制御する制御手段と
を具備することを要旨とする。
【００１０】第４の発明は請求項１、２記載の光ディス
ク原盤露光装置において、前記第１の検出手段及び第２
の検出手段による反射光量および透過光量を検出すると
共に、この反射光量および透過光量から当該光ディスク
に塗布されるレジスト剤の感度に係る値を演算し、この
値に応じて前記音響光学変調器に制御信号を出力して露
光光量を順次調整することで、当該レジスト剤感度の変
動に追従して露光光量の設定を変えていくことを要旨と
する。
ク原盤露光装置において、前記第１の検出手段及び第２
の検出手段による反射光量および透過光量を検出すると
共に、この反射光量および透過光量から当該光ディスク
に塗布されるレジスト剤の感度に係る値を演算し、この
値に応じて前記音響光学変調器に制御信号を出力して露
光光量を順次調整することで、当該レジスト剤感度の変
動に追従して露光光量の設定を変えていくことを要旨と
する。
【００１１】第５の発明は請求項１、２、３記載の光デ
ィスク原盤露光装置において、前記第１の検出手段及び
第２の検出手段による反射光量および透過光量の検出は
、本露光前に当該光ディスク原盤の露光記録領域外で行
われることを要旨とする。
ィスク原盤露光装置において、前記第１の検出手段及び
第２の検出手段による反射光量および透過光量の検出は
、本露光前に当該光ディスク原盤の露光記録領域外で行
われることを要旨とする。
【００１２】
【作用】本発明の上記各実施例の作用は、次の通りであ
る。
る。
【００１３】第１の発明における光ディスク原盤の露光
方法は、まず、レーザ光をレジスト剤の塗布された光デ
ィスク原盤に照射して露光を行う際に、当該光ディスク
原盤に向けて出射されたレーザ光の反射光量及び透過光
量を検出するようにしている。次に、この検出された反
射光量及び透過光量に基づいて光ディスク原盤に塗布さ
れたレジスト剤の感度に係る値を演算し、さらにこの演
算された値をもとに、光ディスク原盤を照射するレーザ
光の露光光量を制御するようにしたものである。
方法は、まず、レーザ光をレジスト剤の塗布された光デ
ィスク原盤に照射して露光を行う際に、当該光ディスク
原盤に向けて出射されたレーザ光の反射光量及び透過光
量を検出するようにしている。次に、この検出された反
射光量及び透過光量に基づいて光ディスク原盤に塗布さ
れたレジスト剤の感度に係る値を演算し、さらにこの演
算された値をもとに、光ディスク原盤を照射するレーザ
光の露光光量を制御するようにしたものである。
【００１４】また、第２の発明における光ディスク原盤
の露光装置は、レーザ光照射手段からレジスト剤の塗布
された光ディスク原盤に出射されるレーザ光の光軸上に
音響光学変調器が設けられる。また、レーザ光照射手段
から照射され、当該光ディスク原盤で反射された反射光
及び光ディスク原盤を透過した透過光がそれぞれ第１の
検出手段と第２の検出手段で検出され、それぞれの検出
手段から得られた反射光量および透過光量から当該光デ
ィスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る値が演算さ
れる。さらに、この値に応じて制御手段から出力される
制御信号によって音響光学変調器がレーザ光照射手段か
ら出射されるレーザ光の光量を制御して、露光光量が設
定される。
の露光装置は、レーザ光照射手段からレジスト剤の塗布
された光ディスク原盤に出射されるレーザ光の光軸上に
音響光学変調器が設けられる。また、レーザ光照射手段
から照射され、当該光ディスク原盤で反射された反射光
及び光ディスク原盤を透過した透過光がそれぞれ第１の
検出手段と第２の検出手段で検出され、それぞれの検出
手段から得られた反射光量および透過光量から当該光デ
ィスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る値が演算さ
れる。さらに、この値に応じて制御手段から出力される
制御信号によって音響光学変調器がレーザ光照射手段か
ら出射されるレーザ光の光量を制御して、露光光量が設
定される。
【００１５】第３の発明における光ディスク原盤の露光
装置は、レーザ光照射手段によってレジスト剤の塗布さ
れた光ディスク原盤にレーザ光が照射されると、このレ
ーザ光の光路間に設けられるレーザ光検出手段によって
当該光ディスク原盤を介して、例えば反射し透過して入
射されるレーザ光の光量がそれぞれ検出される。この光
量の検出の後に、当該検出手段は光路から露光に影響を
与えない位置にまで移動される。さらに、検出手段で検
出されるレーザ光の反射光量及び透過光量から求められ
た当該光ディスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る
値に応じて前記レーザ光照射手段が制御される。
装置は、レーザ光照射手段によってレジスト剤の塗布さ
れた光ディスク原盤にレーザ光が照射されると、このレ
ーザ光の光路間に設けられるレーザ光検出手段によって
当該光ディスク原盤を介して、例えば反射し透過して入
射されるレーザ光の光量がそれぞれ検出される。この光
量の検出の後に、当該検出手段は光路から露光に影響を
与えない位置にまで移動される。さらに、検出手段で検
出されるレーザ光の反射光量及び透過光量から求められ
た当該光ディスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る
値に応じて前記レーザ光照射手段が制御される。
【００１６】第４の発明は第１の検出手段及び第２の検
出手段による検出と露光光量の調整を例えばプレグルー
ブ用のレーザ光により同時に、もしくはＩＤビームによ
り時分割で行うことで、レジスト剤感度の変動にリアル
タイムで露光光量を変えていくものである。
出手段による検出と露光光量の調整を例えばプレグルー
ブ用のレーザ光により同時に、もしくはＩＤビームによ
り時分割で行うことで、レジスト剤感度の変動にリアル
タイムで露光光量を変えていくものである。
【００１７】第５の発明は、第１の検出手段及び第２の
検出手段による反射光量および透過光量の検出を、本露
光前にディスク原盤の露光記録領域外で行なうことによ
りリアルタイムに且つ正確な露光光量の設定を行うよう
にしたものである。
検出手段による反射光量および透過光量の検出を、本露
光前にディスク原盤の露光記録領域外で行なうことによ
りリアルタイムに且つ正確な露光光量の設定を行うよう
にしたものである。
【００１８】
【実施例】以下、本発明に係る一実施例を添付図面を参
照して詳細に説明する。
照して詳細に説明する。
【００１９】まず、図１のブロック図を参照して第１の
実施例の全体的な構成を説明する。レーザ光照射手段と
してのアルゴンレーザ装置１は、レジスト剤の塗布され
た光ディスク原盤２１を露光する露光用光源であって、
アルゴンレーザ装置１から出射されたレーザ光は音響光
学変調器（以下、単にＡ／Ｏ変調器という）３で光量設
定、制御される。このＡ／Ｏ変調器３は、後述するコン
トロールユニット２５から入力される制御信号によって
制御される超音波によって、入射されるレーザ光の光量
等を音響光学効果により制御するもので、このＡ／Ｏ変
調器３で光量が所定値に制御されたレーザ光は図示しな
い露光光学系を介して、ダイクロックミラー５に入射さ
れる。
実施例の全体的な構成を説明する。レーザ光照射手段と
してのアルゴンレーザ装置１は、レジスト剤の塗布され
た光ディスク原盤２１を露光する露光用光源であって、
アルゴンレーザ装置１から出射されたレーザ光は音響光
学変調器（以下、単にＡ／Ｏ変調器という）３で光量設
定、制御される。このＡ／Ｏ変調器３は、後述するコン
トロールユニット２５から入力される制御信号によって
制御される超音波によって、入射されるレーザ光の光量
等を音響光学効果により制御するもので、このＡ／Ｏ変
調器３で光量が所定値に制御されたレーザ光は図示しな
い露光光学系を介して、ダイクロックミラー５に入射さ
れる。
【００２０】このダイクロックミラー５は、入射される
レーザ光（以下、主ビームともいう）の一部を透過して
光量センサ７に入射すると共に、他のレーザ光を偏向ビ
ームスプリッタ（以下、単にＰＢＳともいう）１３に向
けて、反射する。光量センサ７に入射されたレーザ光は
その光量が測定され、この測定された光量を基にダイク
ロックミラー５の透過率を考慮して主ビームの全光量が
求められる。
レーザ光（以下、主ビームともいう）の一部を透過して
光量センサ７に入射すると共に、他のレーザ光を偏向ビ
ームスプリッタ（以下、単にＰＢＳともいう）１３に向
けて、反射する。光量センサ７に入射されたレーザ光は
その光量が測定され、この測定された光量を基にダイク
ロックミラー５の透過率を考慮して主ビームの全光量が
求められる。
【００２１】また、ダイクロックミラー５で分岐された
レーザ光は、偏向ビームスプリッタ１３及びλ／４波長
板１５を通過して、ターンテーブル１９上に載置され、
レジスト剤を塗布した光ディスク原盤（レジスト剤塗布
盤）２１に至る。ここで入射されたレーザ光の一部は光
ディスク原盤２１を透過して光量センサ２３により透過
光量として測定され、また光ディスク原盤２１で反射さ
れたレーザ光はλ／４波長板１５、ＰＢＳ１３を介して
９０度、偏向された後、光量センサ１７に入射して光デ
ィスク原盤２１の反射光量として測定される。
レーザ光は、偏向ビームスプリッタ１３及びλ／４波長
板１５を通過して、ターンテーブル１９上に載置され、
レジスト剤を塗布した光ディスク原盤（レジスト剤塗布
盤）２１に至る。ここで入射されたレーザ光の一部は光
ディスク原盤２１を透過して光量センサ２３により透過
光量として測定され、また光ディスク原盤２１で反射さ
れたレーザ光はλ／４波長板１５、ＰＢＳ１３を介して
９０度、偏向された後、光量センサ１７に入射して光デ
ィスク原盤２１の反射光量として測定される。
【００２２】また、センサ７の測定光量は第１の電流／
電圧変換回路（以下、単に第１のＩ／Ｖコンバータとい
う）９ａ及び第１のアナログ／デジタル変換回路（以下
、単に第１のＡ／Ｄコンバータという）１１ａを介して
、センサ１７の測定光量は第２の電流／電圧変換回路（
以下、単に第２のＩ／Ｖコンバータという）９ｂ及び第
２のアナログ／デジタル変換回路（以下、単に第２のＡ
／Ｄコンバータという）１１ｂを介して、センサ２３の
測定光量は第３の電流／電圧変換回路（以下、単に第３
のＩ／Ｖコンバータという）９ｃ及び第３のアナログ／
デジタル変換回路（以下、単に第３のＡ／Ｄコンバータ
という）１１ｃを介して、それぞれコントロールユニッ
ト２５に入力される。コントロールユニット２５はマイ
クロコンピュータを内蔵してシステム全体をいわゆるマ
イコン制御する。この時コントロールユニット２５から
のＡ／Ｄ．Ｃコントロール信号により同時刻若しくは極
く短い時間差を経て取り込まれる。
電圧変換回路（以下、単に第１のＩ／Ｖコンバータとい
う）９ａ及び第１のアナログ／デジタル変換回路（以下
、単に第１のＡ／Ｄコンバータという）１１ａを介して
、センサ１７の測定光量は第２の電流／電圧変換回路（
以下、単に第２のＩ／Ｖコンバータという）９ｂ及び第
２のアナログ／デジタル変換回路（以下、単に第２のＡ
／Ｄコンバータという）１１ｂを介して、センサ２３の
測定光量は第３の電流／電圧変換回路（以下、単に第３
のＩ／Ｖコンバータという）９ｃ及び第３のアナログ／
デジタル変換回路（以下、単に第３のＡ／Ｄコンバータ
という）１１ｃを介して、それぞれコントロールユニッ
ト２５に入力される。コントロールユニット２５はマイ
クロコンピュータを内蔵してシステム全体をいわゆるマ
イコン制御する。この時コントロールユニット２５から
のＡ／Ｄ．Ｃコントロール信号により同時刻若しくは極
く短い時間差を経て取り込まれる。
【００２３】コントロールユニット２５に取り込まれた
各光量センサの測定光量はコントロールユニット２５内
の演算部において、ダイクロックミラー５の透過率によ
り補正された後、 吸光率（％）＝｛全光量−（反射光量＋透過光量）｝／
全光量×１００ として、レジスト剤感度が計算される。
各光量センサの測定光量はコントロールユニット２５内
の演算部において、ダイクロックミラー５の透過率によ
り補正された後、 吸光率（％）＝｛全光量−（反射光量＋透過光量）｝／
全光量×１００ として、レジスト剤感度が計算される。
【００２４】さらに、このレジスト剤感度を基にした露
光光量の増減調整は、コントロールユニット２５がデジ
タル／アナログ変換回路（以下、単にＤ／Ａコンバータ
という）２７を介して、Ａ／Ｏ変調器３のコントロール
電圧を変化させることによって行う。
光光量の増減調整は、コントロールユニット２５がデジ
タル／アナログ変換回路（以下、単にＤ／Ａコンバータ
という）２７を介して、Ａ／Ｏ変調器３のコントロール
電圧を変化させることによって行う。
【００２５】したがって、初期値として設定された露光
光量とレジスト剤感度の既定値に対して、測定されたレ
ジスト剤の感度に変動があった場合には、露光光量を該
変動に対応して増減することにより、あたかもレジスト
剤の感度が常に一定であるが如くなるように感度調整を
行なうことができ、所望の溝形状を得ることができる。
光量とレジスト剤感度の既定値に対して、測定されたレ
ジスト剤の感度に変動があった場合には、露光光量を該
変動に対応して増減することにより、あたかもレジスト
剤の感度が常に一定であるが如くなるように感度調整を
行なうことができ、所望の溝形状を得ることができる。
【００２６】尚、膜厚をパラメータとしたレジスト剤感
度の変動に対する露光光量の増減量は予め実験等により
測定して得られたデータとして、コントロールユニット
２５のメモリ（ＲＯＭ若しくはＲＡＭ）に入力しておき
、レジスト剤感度の変動量に応じて、その増減量を算出
する。
度の変動に対する露光光量の増減量は予め実験等により
測定して得られたデータとして、コントロールユニット
２５のメモリ（ＲＯＭ若しくはＲＡＭ）に入力しておき
、レジスト剤感度の変動量に応じて、その増減量を算出
する。
【００２７】以上の補正が終了した後、主ビームの光軸
上に配設されたダイクロックミラー５及び光量センサ７
を光軸外の、露光に影響を与えない位置に移動させた後
に、本露光を上記新たに設定された露光光量で行う。
上に配設されたダイクロックミラー５及び光量センサ７
を光軸外の、露光に影響を与えない位置に移動させた後
に、本露光を上記新たに設定された露光光量で行う。
【００２８】上述したように、本実施例によれば、本露
光の直前にレジスト剤感度を測定し、その既定値に対す
る変動分を露光光量の増減により補正し、見掛上のレジ
スト感度が一定になるようにして、溝形状の安定化を計
るようにしたので、レジスト剤のロットにより、またそ
の保存期間や光ディスク原盤への塗布後の放置時間等に
より差異の生じた感度を是正した露光光量の制御を行な
うことができ、常に安定した溝形状を形成することがで
きる。なお、本実施例は請求項５に対応するものである
。
光の直前にレジスト剤感度を測定し、その既定値に対す
る変動分を露光光量の増減により補正し、見掛上のレジ
スト感度が一定になるようにして、溝形状の安定化を計
るようにしたので、レジスト剤のロットにより、またそ
の保存期間や光ディスク原盤への塗布後の放置時間等に
より差異の生じた感度を是正した露光光量の制御を行な
うことができ、常に安定した溝形状を形成することがで
きる。なお、本実施例は請求項５に対応するものである
。
【００２９】次に、第２の実施例について図２を参照し
て、詳細に説明する。
て、詳細に説明する。
【００３０】尚、図１と同一または同等部分には同一符
号を付して詳細な説明を省略する。本実施例は図１に示
した第１の実施例に、ヘリウム−ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）
レーザ装置３１、ダイクロックミラー３３、偏向ビーム
スプリッタ３５、フォーカス制御部３７、λ／４波長板
３９、対物レンズ部４１及び集光レンズ４３からなるフ
ォーカス制御系を付加したことを主な構成上の特徴とす
るものである。
号を付して詳細な説明を省略する。本実施例は図１に示
した第１の実施例に、ヘリウム−ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）
レーザ装置３１、ダイクロックミラー３３、偏向ビーム
スプリッタ３５、フォーカス制御部３７、λ／４波長板
３９、対物レンズ部４１及び集光レンズ４３からなるフ
ォーカス制御系を付加したことを主な構成上の特徴とす
るものである。
【００３１】まず、アルゴンレーザ装置１から出射され
たレーザ光はＡ／Ｏ変調器３で光軸が初期設定され主ビ
ームとして露光光学系３０へ至り、ダイクロックミラー
５、光量センサ７を介して、出射光量が測定される。
たレーザ光はＡ／Ｏ変調器３で光軸が初期設定され主ビ
ームとして露光光学系３０へ至り、ダイクロックミラー
５、光量センサ７を介して、出射光量が測定される。
【００３２】一方、他方Ｈｅ−Ｎｅレーザ装置３１から
出射されたヘリウム−ネオンレーザビームは、ダイクロ
ックミラー３３、偏向ビームスプリッタ３５、λ／４波
長板３９、偏向ビームスプリッタ１３、λ／４波長板１
５及び対物レンズ部４１を通過して光ディスク原盤２１
に入射される。光ディスク原盤２１に入射されたレーザ
光の一部は反射され、再び対物レンズ部４１、λ／４波
長板１５、偏向ビームスプリッタ１３、λ／４波長板３
９及び偏向ビームスプリッタ３５を介して、フォーカス
制御部３７へ入射される。フォーカス制御部３７はこの
入射光量に基づいて対物レンズ部４１のアクチュエータ
４１ａを駆動して対物レンズ４１ｂを光軸方向に移動し
て、フォーカス制御を行う。
出射されたヘリウム−ネオンレーザビームは、ダイクロ
ックミラー３３、偏向ビームスプリッタ３５、λ／４波
長板３９、偏向ビームスプリッタ１３、λ／４波長板１
５及び対物レンズ部４１を通過して光ディスク原盤２１
に入射される。光ディスク原盤２１に入射されたレーザ
光の一部は反射され、再び対物レンズ部４１、λ／４波
長板１５、偏向ビームスプリッタ１３、λ／４波長板３
９及び偏向ビームスプリッタ３５を介して、フォーカス
制御部３７へ入射される。フォーカス制御部３７はこの
入射光量に基づいて対物レンズ部４１のアクチュエータ
４１ａを駆動して対物レンズ４１ｂを光軸方向に移動し
て、フォーカス制御を行う。
【００３３】また、透過したレーザ光は、集光レンズ４
３によってセンサ２３上に集光され、透過光量としてそ
の光量が測定される。上記測定及び露光光量設定の動作
を露光時に同時に或いは時分割で行えば、感度変動をリ
アルタイムに補正することができる。
３によってセンサ２３上に集光され、透過光量としてそ
の光量が測定される。上記測定及び露光光量設定の動作
を露光時に同時に或いは時分割で行えば、感度変動をリ
アルタイムに補正することができる。
【００３４】また、本実施例においては、主ビームは２
ビームが用いられることがしばしばある。すなわち、プ
レグルーブ用の常時入射しているレーザビームと、ＩＤ
ビーム用のピット形成用ビームで間欠的に入射されるレ
ーザビームとがある。この２ビームでの露光時、前述の
感度測定をランダムに行うと、ＩＤ用ビームは間欠パタ
ーンが変化しているため、その影響を受け、測定の精度
が低下する虞がある。
ビームが用いられることがしばしばある。すなわち、プ
レグルーブ用の常時入射しているレーザビームと、ＩＤ
ビーム用のピット形成用ビームで間欠的に入射されるレ
ーザビームとがある。この２ビームでの露光時、前述の
感度測定をランダムに行うと、ＩＤ用ビームは間欠パタ
ーンが変化しているため、その影響を受け、測定の精度
が低下する虞がある。
【００３５】これに対し、プレグルーブ用のレーザ光の
み入射されている（ディスクではデータ部に当たる）タ
イミングでは常に光量は安定しており感度測定精度は良
い。従って、コントロールユニット２５からＡ／Ｄ．Ｃ
へのコントロール信号をデータ部の露光時となる様にサ
ンプリングすれば良い。
み入射されている（ディスクではデータ部に当たる）タ
イミングでは常に光量は安定しており感度測定精度は良
い。従って、コントロールユニット２５からＡ／Ｄ．Ｃ
へのコントロール信号をデータ部の露光時となる様にサ
ンプリングすれば良い。
【００３６】上述したように、本実施例によれば、光デ
ィスク原盤露光時にリアルタイムでレジスト剤感度を測
定し、その既定値に対する変動部分を露光光量の増減で
補正し、あたかもレジスト感度が一定になるようにして
、溝形状の安定化を図る。さらにリアルタイムでレジス
ト剤感度に対する補正を行うことにより、レジスト剤の
ロット差、またその保存期間や光ディスク原盤への塗布
後の放置時間等により差異の生じた感度を是正すると共
に、レジスト剤の塗りムラ（基盤内変動）による感度差
も補正する事ができより安定な溝形状を得ることができ
る。
ィスク原盤露光時にリアルタイムでレジスト剤感度を測
定し、その既定値に対する変動部分を露光光量の増減で
補正し、あたかもレジスト感度が一定になるようにして
、溝形状の安定化を図る。さらにリアルタイムでレジス
ト剤感度に対する補正を行うことにより、レジスト剤の
ロット差、またその保存期間や光ディスク原盤への塗布
後の放置時間等により差異の生じた感度を是正すると共
に、レジスト剤の塗りムラ（基盤内変動）による感度差
も補正する事ができより安定な溝形状を得ることができ
る。
【００３７】
【発明の効果】以上説明してきたように本発明によれば
、本露光の直前若しくは同時にレジスト剤感度を測定し
、その既定値に対する変動分を露光光量の増減により補
正し、あたかもレジスト感度が一定になるようにして、
溝形状の安定化を図るようにしたので、レジスト剤のロ
ットにより、またその保存期間や光ディスク原盤への塗
布後の放置時間等により差異の生じた感度を是正した露
光光量の制御を行なうことができ、常に安定した溝形状
を形成することができる。
、本露光の直前若しくは同時にレジスト剤感度を測定し
、その既定値に対する変動分を露光光量の増減により補
正し、あたかもレジスト感度が一定になるようにして、
溝形状の安定化を図るようにしたので、レジスト剤のロ
ットにより、またその保存期間や光ディスク原盤への塗
布後の放置時間等により差異の生じた感度を是正した露
光光量の制御を行なうことができ、常に安定した溝形状
を形成することができる。
【図１】本発明の第１の実施例を示すブロック図である
。
。
【図２】本発明の第２の実施例のブロック図である。
Claims (5)
- 【請求項１】 レジスト剤の塗布された光ディスク原
盤にレーザ光を照射して露光を行う際に、該光ディスク
原盤に向けて出射されたレーザ光の反射光量及び透過光
量に基づいて、光ディスク原盤を照射するレーザ光の露
光光量を制御することを特徴とする光ディスク原盤の露
光方法。 - 【請求項２】 光ディスク原盤を作成する光ディスク
原盤露光装置において、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、こ
のレーザ光照射手段から出射されるレーザ光の光軸上に
あって入力される制御信号によって当該レーザ光の光量
を制御する音響光学変調器と、前記レーザ光照射手段か
ら照射され、当該光ディスク原盤で反射された反射光を
入射する第１の検出手段と、前記レーザ光照射手段から
照射され、当該光ディスク原盤を透過した透過光を入射
する第２の検出手段と、この第１の検出手段と第２の検
出手段で検出される反射光量および透過光量から当該光
ディスクに塗布されるレジスト剤の感度に係る値を演算
し、この値に応じて前記音響光学変調器に制御信号を出
力して露光光量を設定する制御手段とを具備することを
特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項３】 光ディスク原盤を作成する光ディスク
原盤露光装置において、レジスト剤の塗布された光ディ
スク原盤にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、こ
のレーザ光照射手段から照射され当該光ディスク原盤を
介して入射されるレーザ光の光路間に挿脱自在に設けら
れ当該レーザ光の光量を検出し得る検出手段と、この検
出手段で検出される光量から当該光ディスクに塗布され
るレジスト剤の感度に係る値を求め、この値に応じて前
記レーザ光照射手段を制御する制御手段とを具備するこ
とを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項４】 前記第１の検出手段及び第２の検出手
段による反射光量および透過光量を検出すると共に、こ
の反射光量および透過光量から当該光ディスクに塗布さ
れるレジスト剤の感度に係る値を演算し、この値に応じ
て前記音響光学変調器に制御信号を出力して露光光量を
順次調整することで、当該レジスト剤感度の変動に追従
して露光光量の設定を変えていくことを特徴とする請求
項１又は２記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項５】 前記第１の検出手段及び第２の検出手
段による反射光量および透過光量の検出は、本露光前に
当該光ディスク原盤の露光記録領域外で行われることを
特徴とする請求項１、２、又は３記載の光ディスク原盤
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4586191A JPH04356744A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 光ディスク原盤露光方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4586191A JPH04356744A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 光ディスク原盤露光方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04356744A true JPH04356744A (ja) | 1992-12-10 |
Family
ID=12730997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4586191A Pending JPH04356744A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 光ディスク原盤露光方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04356744A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007280564A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Sony Corp | 光ディスク原盤製造方法、光ディスク製造方法、光ディスク原盤製造装置 |
| US7648671B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US8119043B2 (en) | 2003-01-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP4586191A patent/JPH04356744A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7648671B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US8119043B2 (en) | 2003-01-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| JP2007280564A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Sony Corp | 光ディスク原盤製造方法、光ディスク製造方法、光ディスク原盤製造装置 |
| US7933186B2 (en) | 2006-04-11 | 2011-04-26 | Sony Corporation | Method for manufacturing optical disk master, method for manufacturing optical disk, and apparatus for manufacturing optical disk master |
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