JPH0435840Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0435840Y2 JPH0435840Y2 JP1983163103U JP16310383U JPH0435840Y2 JP H0435840 Y2 JPH0435840 Y2 JP H0435840Y2 JP 1983163103 U JP1983163103 U JP 1983163103U JP 16310383 U JP16310383 U JP 16310383U JP H0435840 Y2 JPH0435840 Y2 JP H0435840Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- processing liquid
- filter
- main body
- waste liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の技術分野〕
本考案は主として放射性物質を含む廃液を処理
する廃液処理装置に関し、より詳しくは該装置使
用の後に、該装置内の水抜きを行うときその水抜
きにより流出する液体中に廃液が含まれないよう
に構成した装置に関する。
する廃液処理装置に関し、より詳しくは該装置使
用の後に、該装置内の水抜きを行うときその水抜
きにより流出する液体中に廃液が含まれないよう
に構成した装置に関する。
例えば、原子力発電所における洗浄液の如く、
その廃液中に放射性物質を含む場合がある。従
来、このような廃液を処理する装置は、第１図の
如く構成されていた。即ち、装置本体１を密閉タ
ンク構造とし、該タンク内にその上部と下部とを
区切る隔壁５を設け、上部室２と下部室１４とに
分離する。そして、該下部室１４内に筒状のフイ
ルタ７を設け、そのフイルタ７の内側と上部室２
とを誘導路８により連通する。そして、下部室１
４内に廃液導入管１１により外部から廃液を導入
する。すると、この廃液はフイルタの外周から内
側に浸入し、その間に濾過されて処理液となつ
て、上部室２に達し、そこから処理液排出管１２
により排出される。そして、下部室１４の下方に
は順次放射性物質を含む沈澱物が堆積する。而し
て、フイルタ７の処理能力に達するまで使用され
た装置は、そこで、廃液処理が停止される。そし
て、廃液導入管１１より圧縮空気を供給し、装置
内にたまつた液体を水抜管１３より抜き取つた後
に、フイルタ７を含んだまま装置本体１ごと放射
性廃棄物として保管される。ところが、装置の使
用の後に水抜きを第２図の矢印の如く行うと、そ
の抜き取られた液体は未処理液であり、放射性物
質を含む。そのため、該未処理液自体を別途処理
する必要があり、面倒であつた。
その廃液中に放射性物質を含む場合がある。従
来、このような廃液を処理する装置は、第１図の
如く構成されていた。即ち、装置本体１を密閉タ
ンク構造とし、該タンク内にその上部と下部とを
区切る隔壁５を設け、上部室２と下部室１４とに
分離する。そして、該下部室１４内に筒状のフイ
ルタ７を設け、そのフイルタ７の内側と上部室２
とを誘導路８により連通する。そして、下部室１
４内に廃液導入管１１により外部から廃液を導入
する。すると、この廃液はフイルタの外周から内
側に浸入し、その間に濾過されて処理液となつ
て、上部室２に達し、そこから処理液排出管１２
により排出される。そして、下部室１４の下方に
は順次放射性物質を含む沈澱物が堆積する。而し
て、フイルタ７の処理能力に達するまで使用され
た装置は、そこで、廃液処理が停止される。そし
て、廃液導入管１１より圧縮空気を供給し、装置
内にたまつた液体を水抜管１３より抜き取つた後
に、フイルタ７を含んだまま装置本体１ごと放射
性廃棄物として保管される。ところが、装置の使
用の後に水抜きを第２図の矢印の如く行うと、そ
の抜き取られた液体は未処理液であり、放射性物
質を含む。そのため、該未処理液自体を別途処理
する必要があり、面倒であつた。
なお、従来技術として特公昭55−48280号公報
記載の高線両物質の処理装置は、処理装置の下部
に仕切りを設け、内部を上部室と下部室とに区切
ると共に、上部室に複数のフイルタを設け、その
下端を下部室に連通する。そして、フイルタによ
つて濾過された処理水を下部室に全て導き、その
下部室から処理液を外部に排出するように構成し
たものである。
記載の高線両物質の処理装置は、処理装置の下部
に仕切りを設け、内部を上部室と下部室とに区切
ると共に、上部室に複数のフイルタを設け、その
下端を下部室に連通する。そして、フイルタによ
つて濾過された処理水を下部室に全て導き、その
下部室から処理液を外部に排出するように構成し
たものである。
ところがこのように処理装置を上部室と管とに
分け、全ての処理液を下部室に導く場合には、次
の問題点を生じる。即ち、上部室内に次第に放射
物質を含む沈殿物が堆積すると、この堆積した部
分からもフイルタに多くの廃液が浸入し、フイル
タの下方程目詰まりが大きくなり全体として処理
能力が大きく低下する欠点がある。
分け、全ての処理液を下部室に導く場合には、次
の問題点を生じる。即ち、上部室内に次第に放射
物質を含む沈殿物が堆積すると、この堆積した部
分からもフイルタに多くの廃液が浸入し、フイル
タの下方程目詰まりが大きくなり全体として処理
能力が大きく低下する欠点がある。
又、このような従来型処理装置は、下部室に近
いフイルタの下部程より多く廃液が流通する傾向
にあるため、仕切り上に堆積する放射性物質を攪
拌し、それらが下方に静かに堆積することを妨げ
る虞があり、より早くフイルタの寿命を招来させ
る欠点がある。
いフイルタの下部程より多く廃液が流通する傾向
にあるため、仕切り上に堆積する放射性物質を攪
拌し、それらが下方に静かに堆積することを妨げ
る虞があり、より早くフイルタの寿命を招来させ
る欠点がある。
そこで本考案は、装置の下部に放射性物質を含
む沈殿物が堆積してもフイルタに目詰まりが生じ
難く、単位時間当たりの処理能力が永続的に大き
な廃液処理装置を提供することを目的とし、その
目的達成のために次の構成をとる。
む沈殿物が堆積してもフイルタに目詰まりが生じ
難く、単位時間当たりの処理能力が永続的に大き
な廃液処理装置を提供することを目的とし、その
目的達成のために次の構成をとる。
本考案の廃液処理装置は、液密タンクを形成す
る装置本体１と、該本体１内に上下に夫々離間し
て設けられ、該本体を上部室２と中間部室３と下
部室４とに水密に区切る上部隔壁５及び下部隔壁
６と、前記中間部室３に内装され、上端の内面側
が第１処理液誘導路８を介して前記上部室２に連
通すると共に、下端が前記下部室４に第２処理液
誘導路９を介して連通された一つのみのフイルタ
７と、下端が前記下部隔壁６から離間した上方に
位置して前記中間部室２に内装され、上端の内面
側が第１処理液誘導路８を介して前記上部室２に
連通する複数のフイルタ７ａと、前記下部室４に
下端が開口し且つ上端が前記上部室２に連通する
処理液連通管１０と、前記下部室４と外部とを連
通する水抜管１３と、前記中間部室３と前記本体
１の外部とを連通する廃液誘導管１１と、前記上
部室２と外部とを連通する処理液排出管１２と、
を具備し、前記一つのみのフイルタの前記第２処
理液誘導路９の流体抵抗が前記第１処理液誘導路
８の流体抵抗より大きく形成され、それによりそ
のフイルタにより処理液の大部分が前記第一処理
液誘導路８を通過するように構成されたことを特
徴とする。
る装置本体１と、該本体１内に上下に夫々離間し
て設けられ、該本体を上部室２と中間部室３と下
部室４とに水密に区切る上部隔壁５及び下部隔壁
６と、前記中間部室３に内装され、上端の内面側
が第１処理液誘導路８を介して前記上部室２に連
通すると共に、下端が前記下部室４に第２処理液
誘導路９を介して連通された一つのみのフイルタ
７と、下端が前記下部隔壁６から離間した上方に
位置して前記中間部室２に内装され、上端の内面
側が第１処理液誘導路８を介して前記上部室２に
連通する複数のフイルタ７ａと、前記下部室４に
下端が開口し且つ上端が前記上部室２に連通する
処理液連通管１０と、前記下部室４と外部とを連
通する水抜管１３と、前記中間部室３と前記本体
１の外部とを連通する廃液誘導管１１と、前記上
部室２と外部とを連通する処理液排出管１２と、
を具備し、前記一つのみのフイルタの前記第２処
理液誘導路９の流体抵抗が前記第１処理液誘導路
８の流体抵抗より大きく形成され、それによりそ
のフイルタにより処理液の大部分が前記第一処理
液誘導路８を通過するように構成されたことを特
徴とする。
次に、図面に基づいて本考案の一実施例につき
説明する。
説明する。
第３図は本装置の原理図を示す縦断面説明図で
あつて、廃液処理中の状態示す。又、第４図は本
装置使用の後に水抜きを行う状態を示す。第３図
から明らかなように、本装置では上下に離間した
上部隔壁５と下部隔壁６とにより装置本体１内を
３つの部屋に分ける。即ち、上部室２と中間部室
３と下部室４とに区画し、外部と上部室２は処理
液排出管１２を設け、中間部室には廃液導入管１
１を設け下部室には水抜管１３を設ける。そし
て、上部室２と下部室４との間を処理液連通管１
０で連通する。さらに、中間部室の中心には筒状
の中心フイルタ７を設けると共に、その周縁に筒
状の周縁フイルタ７ａを設ける。そして、夫々の
フイルタ７，７ａの内側と上部室２とを第１処理
液誘導路８で連通する。それと共に、中心フイル
タ７の下端内側と下部室４とを第２処理液誘導路
９で連通する。なお、この第２処理液連通路９の
流路抵抗は前記第１処理液誘導路８の誘導路抵抗
に比し、より大きく形成されている。それ故、処
理液の大部分は第１処理液誘導路８を通過する。
あつて、廃液処理中の状態示す。又、第４図は本
装置使用の後に水抜きを行う状態を示す。第３図
から明らかなように、本装置では上下に離間した
上部隔壁５と下部隔壁６とにより装置本体１内を
３つの部屋に分ける。即ち、上部室２と中間部室
３と下部室４とに区画し、外部と上部室２は処理
液排出管１２を設け、中間部室には廃液導入管１
１を設け下部室には水抜管１３を設ける。そし
て、上部室２と下部室４との間を処理液連通管１
０で連通する。さらに、中間部室の中心には筒状
の中心フイルタ７を設けると共に、その周縁に筒
状の周縁フイルタ７ａを設ける。そして、夫々の
フイルタ７，７ａの内側と上部室２とを第１処理
液誘導路８で連通する。それと共に、中心フイル
タ７の下端内側と下部室４とを第２処理液誘導路
９で連通する。なお、この第２処理液連通路９の
流路抵抗は前記第１処理液誘導路８の誘導路抵抗
に比し、より大きく形成されている。それ故、処
理液の大部分は第１処理液誘導路８を通過する。
次に、この第３図の原理を具体化した実施例が
第５図〜第７図である。即ち、第５図はこの実施
例の縦断面図、第６図は水抜管１３の下端部分を
示す縦断面図、第７図は同実施例の平面図であ
る。この実施例では第７図の如く中心部フイルタ
７の回りに六個の周縁フイルタ７ａが配設されて
いる。そして、装置本体１は二重容器に形成さ
れ、その中に放射線遮蔽材として鉛１８が充填さ
れると共に、同じく鉛入りの上蓋１９が着脱自在
に被嵌される。そして、この装置本体１は各種の
支持体２５によりドラム罐１７の中央に保持され
るものである。
第５図〜第７図である。即ち、第５図はこの実施
例の縦断面図、第６図は水抜管１３の下端部分を
示す縦断面図、第７図は同実施例の平面図であ
る。この実施例では第７図の如く中心部フイルタ
７の回りに六個の周縁フイルタ７ａが配設されて
いる。そして、装置本体１は二重容器に形成さ
れ、その中に放射線遮蔽材として鉛１８が充填さ
れると共に、同じく鉛入りの上蓋１９が着脱自在
に被嵌される。そして、この装置本体１は各種の
支持体２５によりドラム罐１７の中央に保持され
るものである。
次に、第３図及び第４図の原理図に基づいて本
考案の作用につき説明する。
考案の作用につき説明する。
まず、廃液を処理するには水抜管１３の上端の
栓１６等により、該水抜管１３を閉塞する。そし
て、廃液導入管１１より矢印の如く放射性物質を
含む廃液を中間部室３内に導入する。すると、そ
の廃液は中心フイルタ７及び周縁フイルタ７ａの
外周から該フイルタ内に浸入し濾過されて、処理
液となり、第１処理液誘導路８を介し、直接上部
室２に達する。そして、該上部室２から処理液排
出管１２を通り外部へ排出される。又、中心フイ
ルタ７の下端からは処理液が第２処理液誘導路９
を通り、下部室４に達する。なお、この第２処理
液誘導路９は比較的流路抵抗が大であるから、こ
こからの流量は比較的わずかである。そして、下
部室４に達した処理液は処理液連通管１０を通り
上部室２に達し、処理液排出管１２より外部へ排
出される。
栓１６等により、該水抜管１３を閉塞する。そし
て、廃液導入管１１より矢印の如く放射性物質を
含む廃液を中間部室３内に導入する。すると、そ
の廃液は中心フイルタ７及び周縁フイルタ７ａの
外周から該フイルタ内に浸入し濾過されて、処理
液となり、第１処理液誘導路８を介し、直接上部
室２に達する。そして、該上部室２から処理液排
出管１２を通り外部へ排出される。又、中心フイ
ルタ７の下端からは処理液が第２処理液誘導路９
を通り、下部室４に達する。なお、この第２処理
液誘導路９は比較的流路抵抗が大であるから、こ
こからの流量は比較的わずかである。そして、下
部室４に達した処理液は処理液連通管１０を通り
上部室２に達し、処理液排出管１２より外部へ排
出される。
次に、本装置使用の後には、処理液排出管１２
の開口に栓１６が被嵌される。なお、実際には、
第５図の如く処理液を排出するため、上端にカプ
ラー２４が設けられている。そして、該排出管１
２と図示しないホースとの接続を断ち切るのみで
該排出管１２が自動的に閉塞される。次に、廃液
導入管１１より圧縮空気を供給する。すると、該
圧縮空気により中間部室３内の未処理水は中心フ
イルタ７を通過し、濾過されて下部室４に達す
る。そして、その処理液は水抜管１３から順次排
出される、又、上部室２の処理水は処理液連通管
１０を通り、下部室４に流下する。而して、水抜
管１３から流出する液体は、すべて、処理水とな
つて、排出される。
の開口に栓１６が被嵌される。なお、実際には、
第５図の如く処理液を排出するため、上端にカプ
ラー２４が設けられている。そして、該排出管１
２と図示しないホースとの接続を断ち切るのみで
該排出管１２が自動的に閉塞される。次に、廃液
導入管１１より圧縮空気を供給する。すると、該
圧縮空気により中間部室３内の未処理水は中心フ
イルタ７を通過し、濾過されて下部室４に達す
る。そして、その処理液は水抜管１３から順次排
出される、又、上部室２の処理水は処理液連通管
１０を通り、下部室４に流下する。而して、水抜
管１３から流出する液体は、すべて、処理水とな
つて、排出される。
〔考案の効果〕
本考案の廃液処理装置は、下部隔壁６から離間
した上方に位置して中間部室３内に複数のフイル
タ７が配置されているため、下部隔壁６上に放射
性物質を含む沈澱物が次第に堆積しても、それよ
り上方から廃液をフイルタ７内に導くため目詰ま
りが生じ難い。又、一つのみのフイルタ７におい
ては第２処理液誘導路９の流体抵抗が第１処理液
誘導路８よりも大きく形成されているため、第１
処理液誘導路８に近い上部程より多く廃液処理が
行われ、一つのみのフイルタ７においても目詰ま
りが生じ難い。それ故、永続的に単位時間当たり
の処理能力を大きくすることができる。そして比
較的少ない量のみの処理液が下部室に導かれる。
そのため、中間部室３内の下方の沈澱した塵埃が
下部室に浸入することを極力抑えることができ
る。それにより、処理水中の未処理物質を極めて
少なくできる効果がある。そして、廃液内の比較
的比重の大きな塵埃を比較的広い中間部室の下方
に静かに沈澱させ得るから、濾過効果の高い装置
を提供し得る。
した上方に位置して中間部室３内に複数のフイル
タ７が配置されているため、下部隔壁６上に放射
性物質を含む沈澱物が次第に堆積しても、それよ
り上方から廃液をフイルタ７内に導くため目詰ま
りが生じ難い。又、一つのみのフイルタ７におい
ては第２処理液誘導路９の流体抵抗が第１処理液
誘導路８よりも大きく形成されているため、第１
処理液誘導路８に近い上部程より多く廃液処理が
行われ、一つのみのフイルタ７においても目詰ま
りが生じ難い。それ故、永続的に単位時間当たり
の処理能力を大きくすることができる。そして比
較的少ない量のみの処理液が下部室に導かれる。
そのため、中間部室３内の下方の沈澱した塵埃が
下部室に浸入することを極力抑えることができ
る。それにより、処理水中の未処理物質を極めて
少なくできる効果がある。そして、廃液内の比較
的比重の大きな塵埃を比較的広い中間部室の下方
に静かに沈澱させ得るから、濾過効果の高い装置
を提供し得る。
しかも本処理装置を使用済の後には、水抜管１
３より排出される液体は処理済のものであるた
め、適宜な場所に排出することができる効果を有
する。
３より排出される液体は処理済のものであるた
め、適宜な場所に排出することができる効果を有
する。
第１図は従来型廃液処理装置の縦断面図であつ
て、廃液処理状態を示し、第２図はその水抜き時
の状態を示す、第３図は本考案の廃液処理装置の
原理図を示す縦断面説明図であつて、廃液処理状
態を示し、第４図は同装置の水抜き時の状態を示
す。第５図は本考案の実施例を示す縦断面図、第
６図は同装置の水抜管１３の下部を示す縦断面
図、第７図は同実施例の平面図。 １……装置本体、２……上部室、３……中間部
室、４，１４……下部室、５……上部隔壁、６…
…下部隔壁、７……フイルタ、８……第１処理液
誘導路、９……第２処理液誘導路、１０……処理
液連通管、１１……廃液導入管、１２……処理液
排出管、１３……水抜管、１５……液面、１６…
…栓、１７……ドラム罐、１８……鉛、１９……
上蓋、２０……係止具、２２，２３，２４……カ
プラー、２５……支持体。
て、廃液処理状態を示し、第２図はその水抜き時
の状態を示す、第３図は本考案の廃液処理装置の
原理図を示す縦断面説明図であつて、廃液処理状
態を示し、第４図は同装置の水抜き時の状態を示
す。第５図は本考案の実施例を示す縦断面図、第
６図は同装置の水抜管１３の下部を示す縦断面
図、第７図は同実施例の平面図。 １……装置本体、２……上部室、３……中間部
室、４，１４……下部室、５……上部隔壁、６…
…下部隔壁、７……フイルタ、８……第１処理液
誘導路、９……第２処理液誘導路、１０……処理
液連通管、１１……廃液導入管、１２……処理液
排出管、１３……水抜管、１５……液面、１６…
…栓、１７……ドラム罐、１８……鉛、１９……
上蓋、２０……係止具、２２，２３，２４……カ
プラー、２５……支持体。
Claims (1)
- 液密タンクを形成する装置本体１と、該本体１
内に上下に夫々離間して設けられ、該本体を上部
室２と中間部室３と下部室４とに水密に区切る上
部隔壁５及び下部隔壁６と、前記中間部室３に内
装され、上端の内面側が第１処理液誘導路８を介
して前記上部室２に連通すると共に、下端が前記
下部室４に第２処理液誘導路９を介して連通され
た一つのみのフイルタ７と、下端が前記下部隔壁
６から離間した上方に位置して前記中間部室２に
内装され、上端の内面側が第１処理液誘導路８を
介して前記上部室２に連通する複数のフイルタ７
ａと、前記下部室４に下端が開口し且つ上端が前
記上部室２に連通する処理液連通管１０と、前記
下部室４と外部とを連通する水抜管１３と、前記
中間部室３と前記本体１の外部とを連通する廃液
導入管１１と、前記上部室２と外部とを連通する
処理液排出管１２と、を具備し、前記一つのみの
フイルタの前記第２処理液誘導路９の流体抵抗が
前記第１処理液誘導路８の流体抵抗より大きく形
成され、それによりそのフイルタによる処理液の
大部分が前記第１処理液誘導路８を通過するよう
に構成されたことを特徴とする廃液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16310383U JPS6070100U (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 廃液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16310383U JPS6070100U (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 廃液処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6070100U JPS6070100U (ja) | 1985-05-17 |
| JPH0435840Y2 true JPH0435840Y2 (ja) | 1992-08-25 |
Family
ID=30357975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16310383U Granted JPS6070100U (ja) | 1983-10-20 | 1983-10-20 | 廃液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6070100U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5885958B2 (ja) * | 2011-08-03 | 2016-03-16 | 三菱重工業株式会社 | 放射線汚染物除去ユニットおよび除染方法 |
| JP2013061251A (ja) * | 2011-09-13 | 2013-04-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 汚染水処理容器、汚染水処理システムおよび汚染水処理方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5573306A (en) * | 1978-11-28 | 1980-06-03 | Babcock Hitachi Kk | Waste liquid filterring apparatus |
| JPS55177818U (ja) * | 1979-06-11 | 1980-12-20 |
-
1983
- 1983-10-20 JP JP16310383U patent/JPS6070100U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6070100U (ja) | 1985-05-17 |
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