JPH0436117Y2 - - Google Patents
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- JPH0436117Y2 JPH0436117Y2 JP3011686U JP3011686U JPH0436117Y2 JP H0436117 Y2 JPH0436117 Y2 JP H0436117Y2 JP 3011686 U JP3011686 U JP 3011686U JP 3011686 U JP3011686 U JP 3011686U JP H0436117 Y2 JPH0436117 Y2 JP H0436117Y2
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Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は連続ガラス封止炉に関するものであ
る。
る。
集積IC製品類の製造においては、個別ICチツ
プを使用目的に応じて回路基板にボンデイングし
たのちパツケージのためガラス封じを行うのを通
例とする。このガラス封じはICチツプを含む回
路基板に低融点ガラスを介してガラス板を接合さ
せるものであり、このガラス封じ工程を実施する
ための手段として、従来ではトンネル炉本体中に
メツシユコンベアベルトを貫装させ、非還元性雰
囲気中で400〜500℃の加熱を行う構造のものが用
いられていた。
プを使用目的に応じて回路基板にボンデイングし
たのちパツケージのためガラス封じを行うのを通
例とする。このガラス封じはICチツプを含む回
路基板に低融点ガラスを介してガラス板を接合さ
せるものであり、このガラス封じ工程を実施する
ための手段として、従来ではトンネル炉本体中に
メツシユコンベアベルトを貫装させ、非還元性雰
囲気中で400〜500℃の加熱を行う構造のものが用
いられていた。
しかしこの構造では、エンドレス金属ベルトが
炉本体の内外に循環するため、たるみ側移行中に
異物が付着してこれが炉内に持ち込まれる危険が
あるほか、張り側では炉芯管底との摺動摩擦があ
り、この摩擦で微小な金属粉が生じ、これが炉気
に混入して回路基板に付着し、そのままガラス板
で封止されるため、折角前段まで高精度に組立て
られた電子回路の特性が悪化し、良品歩留りが低
下するという問題があつた。
炉本体の内外に循環するため、たるみ側移行中に
異物が付着してこれが炉内に持ち込まれる危険が
あるほか、張り側では炉芯管底との摺動摩擦があ
り、この摩擦で微小な金属粉が生じ、これが炉気
に混入して回路基板に付着し、そのままガラス板
で封止されるため、折角前段まで高精度に組立て
られた電子回路の特性が悪化し、良品歩留りが低
下するという問題があつた。
この対策として、コンベアベルトをブラシ類で
清掃したり、超音波洗浄機で洗浄を行つている
が、金属ベルトの表面酸化による汚れ防止には効
果はあつても、炉床との接触による発塵を防止す
ることができない。また、ベルトコンベアに代え
てプツシヤー送りを採用しても、やはりトレーと
炉床との摺動摩擦が避けられないため効果がなか
つた。
清掃したり、超音波洗浄機で洗浄を行つている
が、金属ベルトの表面酸化による汚れ防止には効
果はあつても、炉床との接触による発塵を防止す
ることができない。また、ベルトコンベアに代え
てプツシヤー送りを採用しても、やはりトレーと
炉床との摺動摩擦が避けられないため効果がなか
つた。
本考案は前記のような問題点を除去するため研
究して考案されたもので、その目的とするところ
は、比較的簡単な構造により炉中で摺動摩擦によ
る金属性塵埃が生じず、クリーンな条件でガラス
封じを行える連続式ガラス封止炉を提供すること
にある。
究して考案されたもので、その目的とするところ
は、比較的簡単な構造により炉中で摺動摩擦によ
る金属性塵埃が生じず、クリーンな条件でガラス
封じを行える連続式ガラス封止炉を提供すること
にある。
この目的を達成するため本考案は炉芯管とその
前後の入口筒及び冷却筒中に平行ビームを貫装さ
せ、駆動機構により平行ビームに周期的に上昇−
前進−下降−後退の矩形運動を与えることで被ガ
ラス封止物を順次移動させつつガラス封じを行う
ようにしたものである。
前後の入口筒及び冷却筒中に平行ビームを貫装さ
せ、駆動機構により平行ビームに周期的に上昇−
前進−下降−後退の矩形運動を与えることで被ガ
ラス封止物を順次移動させつつガラス封じを行う
ようにしたものである。
すなわち、本考案の特徴とするところは、発熱
帯を内設した炉体と、この炉体を貫く炉芯管と、
炉芯管の前後に連設された入口筒及び冷却筒と、
入口筒から冷却筒を貫く平行ビームと、この平行
ビームの両端部を支えかつ平行ビームを周期的に
上昇−前進−下降−後退させる駆動機構を備え、
入口筒と炉芯管及び冷却筒の底部には下降時の平
行ビームを容入する溝を長手方向に設けたことに
ある。
帯を内設した炉体と、この炉体を貫く炉芯管と、
炉芯管の前後に連設された入口筒及び冷却筒と、
入口筒から冷却筒を貫く平行ビームと、この平行
ビームの両端部を支えかつ平行ビームを周期的に
上昇−前進−下降−後退させる駆動機構を備え、
入口筒と炉芯管及び冷却筒の底部には下降時の平
行ビームを容入する溝を長手方向に設けたことに
ある。
以下本考案の実施例を添付図面に基づいて説明
する。
する。
第1図ないし第4図は本考案に係る連続ガラス
封止炉の一実施例を示している。
封止炉の一実施例を示している。
1は耐火物からなる炉体であり、トンネル状に
構成され、内部には、被処理物であるICチツプ
ボンデイング基板Aとガラス板Bとを低融点ガラ
スの融点以上すなわち一般に400〜500℃に加熱す
る発熱帯2が設けられている。
構成され、内部には、被処理物であるICチツプ
ボンデイング基板Aとガラス板Bとを低融点ガラ
スの融点以上すなわち一般に400〜500℃に加熱す
る発熱帯2が設けられている。
3はスレンレス製などからなる炉芯管であり、
前記炉体1に貫装され、前端には入口筒4が、後
端には水冷ジヤケツトを備えた冷却筒5がそれぞ
れ直列状に連結されている。そして、炉芯管3に
は雰囲気用の窒素ガス導入部31,31が、入口
筒4と冷却筒5には外気侵入防止のためのバリヤ
用ガス導入部41,51がそれぞれ設けられてい
る。また、前記入口筒4の上流域と冷却筒5の下
流域にはそれぞれ平行状の載置テーブル17,1
7,18,18が設けられている。
前記炉体1に貫装され、前端には入口筒4が、後
端には水冷ジヤケツトを備えた冷却筒5がそれぞ
れ直列状に連結されている。そして、炉芯管3に
は雰囲気用の窒素ガス導入部31,31が、入口
筒4と冷却筒5には外気侵入防止のためのバリヤ
用ガス導入部41,51がそれぞれ設けられてい
る。また、前記入口筒4の上流域と冷却筒5の下
流域にはそれぞれ平行状の載置テーブル17,1
7,18,18が設けられている。
6,6はステンレスなどの耐熱材からなる数本
の平行ビームであり、入口筒4の上流の載置テー
ブル17,17から炉芯管3および冷却筒5を貫
通し、冷脚筒5の下流の載置テーブル18,18
に到るように配されている。
の平行ビームであり、入口筒4の上流の載置テー
ブル17,17から炉芯管3および冷却筒5を貫
通し、冷脚筒5の下流の載置テーブル18,18
に到るように配されている。
7は前記平行ビーム6,6の長手方向両端部6
1,61を支持し、かつ、平行ビーム6,6に周
期的に上昇−前進−下降−後退の矩形運動を与え
る駆動機構である。
1,61を支持し、かつ、平行ビーム6,6に周
期的に上昇−前進−下降−後退の矩形運動を与え
る駆動機構である。
この駆動機構7は、偏心輪方式、傾斜レール方
式、ローラバー方式など任意であるが、図示する
ものでは次のような構成としている。すなわち、
入口側の載置テーブル17,17から出口側の載
置テーブル18,18に到る架台9中に、盤状な
いし枠状の上部フレーム10を配し、この上部フ
レーム10に脚柱8,8を立設して前記平行ビー
ム6,6の両端部61,61を支承させると共
に、上部フレーム10の下には車輪13,13を
備えた下部フレーム11を配している。
式、ローラバー方式など任意であるが、図示する
ものでは次のような構成としている。すなわち、
入口側の載置テーブル17,17から出口側の載
置テーブル18,18に到る架台9中に、盤状な
いし枠状の上部フレーム10を配し、この上部フ
レーム10に脚柱8,8を立設して前記平行ビー
ム6,6の両端部61,61を支承させると共
に、上部フレーム10の下には車輪13,13を
備えた下部フレーム11を配している。
そして、この下部フレーム11と上部フレーム
10間を油圧式、電動式などのジヤツキ12,1
2と平衡移動用のリンク機構15で結んで上部フ
レーム10を昇降自在にするとともに、架台9と
下部フレーム11間を油圧又は電動式のシリンダ
14で結び、それによつて上部フレーム10を前
後進自在としている。
10間を油圧式、電動式などのジヤツキ12,1
2と平衡移動用のリンク機構15で結んで上部フ
レーム10を昇降自在にするとともに、架台9と
下部フレーム11間を油圧又は電動式のシリンダ
14で結び、それによつて上部フレーム10を前
後進自在としている。
なお、入口筒4から冷却筒5に到る通路内底長
手方向には、平行ビーム6,6の下降・後退時に
平行ビーム6,6を容入する溝16,16が形成
されている。この溝16,16は平行ビーム6,
6の下降時と後退時に被処理物を通路面に静置さ
せておくために必要である。
手方向には、平行ビーム6,6の下降・後退時に
平行ビーム6,6を容入する溝16,16が形成
されている。この溝16,16は平行ビーム6,
6の下降時と後退時に被処理物を通路面に静置さ
せておくために必要である。
第4図は炉芯管部分の溝を代表的に示してお
り、炉芯管3の通路面(底面)30から下方に脚
状に溝16,16を突出形成している。これに代
え、炉芯管内に通路面として中底を張設し、中底
から炉芯管底に溝を形成する方式(内設方式)と
してもよいのは勿論である。また、入口側と出口
側の載置テーブル17,17,18,18も平行
ビーム6,6を容入する溝170,180を長手
方向に有している。
り、炉芯管3の通路面(底面)30から下方に脚
状に溝16,16を突出形成している。これに代
え、炉芯管内に通路面として中底を張設し、中底
から炉芯管底に溝を形成する方式(内設方式)と
してもよいのは勿論である。また、入口側と出口
側の載置テーブル17,17,18,18も平行
ビーム6,6を容入する溝170,180を長手
方向に有している。
19a〜19iは被処理物すなわちIC搭載基
板Aと低融点ガラスとガラス板Bを所要数収容す
るトレイであり、平行ビーム6,6が下降状態に
あるときに、両端部が載置テーブル17,17,
18,18や通路面30に支持され得るように平
行ビーム6,6の間隔よりも大きい幅寸法を有し
ている。
板Aと低融点ガラスとガラス板Bを所要数収容す
るトレイであり、平行ビーム6,6が下降状態に
あるときに、両端部が載置テーブル17,17,
18,18や通路面30に支持され得るように平
行ビーム6,6の間隔よりも大きい幅寸法を有し
ている。
本考案の炉によりガラス封じを行うにあたつて
は、発熱帯2により炉内を加熱すると共に、ガス
導入部31、41,51から窒素ガスを供給す
る。
は、発熱帯2により炉内を加熱すると共に、ガス
導入部31、41,51から窒素ガスを供給す
る。
一方、ボンデイング工程を経たIC搭載基板A
と低融点ガラスとガラス板Bの組合せ物をそれぞ
れ各トレイ19a〜19iに収容し、それらトレ
イ19a〜19iを、一定周期で順次入口側の載
置テーブル17,17に置く。そして、駆動機構
7を作動する。すなわち、この実施例では、ジヤ
ツキ12,12とシリンダ14を連携作動させる
ものである。
と低融点ガラスとガラス板Bの組合せ物をそれぞ
れ各トレイ19a〜19iに収容し、それらトレ
イ19a〜19iを、一定周期で順次入口側の載
置テーブル17,17に置く。そして、駆動機構
7を作動する。すなわち、この実施例では、ジヤ
ツキ12,12とシリンダ14を連携作動させる
ものである。
ジヤツキ12,12を伸長動作させれば、上部
フレーム10が上昇し、それによつて上部フレー
ム10に両端が脚柱8,8で支持されている平行
ビーム6,6が上昇する。対いでシリンダ14を
伸長動作させれば、車輪13,13により上・下
部フレーム10,11が一体に前進し、それによ
つて平行ビーム6,6も前進する。次にジヤツキ
12,12を短縮作動させれば、上・下部フレー
ム10,11が下降し、それによつて平行ビーム
6,6は下降する。その後シリンダ14を短縮動
作させれば、上・下部フレーム10,11は元位
置まで後退され、平行ビーム6,6も後退する。
これによつて平行ビーム6,6には上昇−前進−
下降−後退の矩形運動が与えられるので、この矩
形運動を周期に繰り返させるものである。
フレーム10が上昇し、それによつて上部フレー
ム10に両端が脚柱8,8で支持されている平行
ビーム6,6が上昇する。対いでシリンダ14を
伸長動作させれば、車輪13,13により上・下
部フレーム10,11が一体に前進し、それによ
つて平行ビーム6,6も前進する。次にジヤツキ
12,12を短縮作動させれば、上・下部フレー
ム10,11が下降し、それによつて平行ビーム
6,6は下降する。その後シリンダ14を短縮動
作させれば、上・下部フレーム10,11は元位
置まで後退され、平行ビーム6,6も後退する。
これによつて平行ビーム6,6には上昇−前進−
下降−後退の矩形運動が与えられるので、この矩
形運動を周期に繰り返させるものである。
第1図と第2図は、第1番目のトレイ19aが
次の工程へと移動させられるべく出口側の載置テ
ーブル18,18の終端域に移置され、第2番目
のトレイ19bが冷却を終えて出口側の載置テー
ブル18,18に移置され、第3番目と第4番目
のトレイ19c,19dが冷却筒5内にあり、第
5番目と第6番目のトレイ19e,19fが炉芯
管3内にあり、また、第7番目のトレイ19gが
入口筒4内にあり、第8番目のトレイ19hが入
口側の載置テーブル17、17に置かれ、第9番
目のトレイ19iが載置テーブル17,17に置
かれようとする状態を示している。
次の工程へと移動させられるべく出口側の載置テ
ーブル18,18の終端域に移置され、第2番目
のトレイ19bが冷却を終えて出口側の載置テー
ブル18,18に移置され、第3番目と第4番目
のトレイ19c,19dが冷却筒5内にあり、第
5番目と第6番目のトレイ19e,19fが炉芯
管3内にあり、また、第7番目のトレイ19gが
入口筒4内にあり、第8番目のトレイ19hが入
口側の載置テーブル17、17に置かれ、第9番
目のトレイ19iが載置テーブル17,17に置
かれようとする状態を示している。
第9番目のトレイ19iは、平行ビーム6,6
が溝170内に下降し後退しているときに載置テ
ーブル17,17に渡るように配置される。これ
によつて第9番目のトレイ19iは載置テーブル
17,17によつて支持される。
が溝170内に下降し後退しているときに載置テ
ーブル17,17に渡るように配置される。これ
によつて第9番目のトレイ19iは載置テーブル
17,17によつて支持される。
平行ビーム6,6の下降・後退時には、平行ビ
ーム6,6は、入口側と出口側の載置テーブル1
7,17,18,18の溝170,18と、入口
筒4から冷却筒5に到る通路面に設けた溝16,
16に容入される。
ーム6,6は、入口側と出口側の載置テーブル1
7,17,18,18の溝170,18と、入口
筒4から冷却筒5に到る通路面に設けた溝16,
16に容入される。
したがつて、第8番目のトレイ19hは載置テ
ーブル17,17に支持され、第1番目と第2番
目のトレイ19a,19bは出口側の載置テーブ
ル18,18で支持され、第5番目と第6番目の
トレイ19e,19fは通路面30で支持され、
また、第7番目のトレイ19gと第3番目と第4
番目のトレイ19c,19dは入口筒4と冷却筒
5の設けた通路面30(図示しないが第4図と同
様な構造となつている)で支持されている。
ーブル17,17に支持され、第1番目と第2番
目のトレイ19a,19bは出口側の載置テーブ
ル18,18で支持され、第5番目と第6番目の
トレイ19e,19fは通路面30で支持され、
また、第7番目のトレイ19gと第3番目と第4
番目のトレイ19c,19dは入口筒4と冷却筒
5の設けた通路面30(図示しないが第4図と同
様な構造となつている)で支持されている。
この状態で前記のように平行ビーム6,6を上
昇させれば、平行ビーム6,6は、前記のように
全長にわたつて溝170,180,16,16内
に沈んでいる状態から上昇する。
昇させれば、平行ビーム6,6は、前記のように
全長にわたつて溝170,180,16,16内
に沈んでいる状態から上昇する。
これによつて載置テーブル17,17上に支持
されていた第8番目と第9番目のトレイ19h,
19iは平行ビーム6,6によつて持ち上げられ
る。同時に、入口筒4と炉芯管3および冷却筒5
内の各トレイ19g,19f,19e,19d,
19cも通路面から持ち上げられ、また、第2番
目のトレイ19bも載置テーブル18,18より
も上に持ち上げられる。第1番目のトレイ19a
は平行ビーム6,6の前進ストロークエンドより
も下流にあるため、平行ビーム6,6で持ち上げ
られず、作業員の手作業等によつて次のラインに
移置される。
されていた第8番目と第9番目のトレイ19h,
19iは平行ビーム6,6によつて持ち上げられ
る。同時に、入口筒4と炉芯管3および冷却筒5
内の各トレイ19g,19f,19e,19d,
19cも通路面から持ち上げられ、また、第2番
目のトレイ19bも載置テーブル18,18より
も上に持ち上げられる。第1番目のトレイ19a
は平行ビーム6,6の前進ストロークエンドより
も下流にあるため、平行ビーム6,6で持ち上げ
られず、作業員の手作業等によつて次のラインに
移置される。
対いで、平行ビーム6,6が軸線方向移動(前
進)する。それによつて、第2番目から第9番目
のトレイ19b〜19iは、平行ビーム6,6と
相対位置を変えぬまま前進させられる。
進)する。それによつて、第2番目から第9番目
のトレイ19b〜19iは、平行ビーム6,6と
相対位置を変えぬまま前進させられる。
次に平行ビーム6,6が下降して再び溝17
0,16,16,180内に沈み込むと、第2番
目から第9番目のトレイ19b〜19iは平行ビ
ーム6,6に支えられたまま下降し、1ステツプ
ずつ下流の通路面に移置される。すなわち、第9
番目のトレイ19iは、前段階まで第8番目のト
レイ19hが位置していた入口筒4の入口に近い
載置テーブル17,17上に置かれる。入口筒4
の入口に近い載置テーブル17,17上にあつた
第8番目のトレイ19hは、入口筒4内の通路面
に移置される。
0,16,16,180内に沈み込むと、第2番
目から第9番目のトレイ19b〜19iは平行ビ
ーム6,6に支えられたまま下降し、1ステツプ
ずつ下流の通路面に移置される。すなわち、第9
番目のトレイ19iは、前段階まで第8番目のト
レイ19hが位置していた入口筒4の入口に近い
載置テーブル17,17上に置かれる。入口筒4
の入口に近い載置テーブル17,17上にあつた
第8番目のトレイ19hは、入口筒4内の通路面
に移置される。
以下同様であり、それまで入口筒4内にあつた
第7番目のトレイ19gは炉芯管3内の通路面3
0に移置され、炉芯管3内の出口に近く位置して
いた第5番目のトレイ19eは冷却筒5の通路面
に移置され、冷却筒5の出口に近く位置していた
第3番目のトレイ19cはそれまで第2番目のト
レイ19bが位置していた冷却筒に近い載置テー
ブル18,18に移置され、第2番目のトレイ1
9bは第1番目のトレイ19aのあつた載置テー
ブル18,18の端部位置に移置される。
第7番目のトレイ19gは炉芯管3内の通路面3
0に移置され、炉芯管3内の出口に近く位置して
いた第5番目のトレイ19eは冷却筒5の通路面
に移置され、冷却筒5の出口に近く位置していた
第3番目のトレイ19cはそれまで第2番目のト
レイ19bが位置していた冷却筒に近い載置テー
ブル18,18に移置され、第2番目のトレイ1
9bは第1番目のトレイ19aのあつた載置テー
ブル18,18の端部位置に移置される。
そして次に、平行ビーム16,16は溝17
0,16,16,180内に容入された状態のま
まで後退させられる。したがつて、前記のように
1ステツプ前進した第2番目から第9番目のトレ
イ19b〜19iは逆戻りしない。以下、平行ビ
ーム6,6の矩形運動によつて第2番目から第9
番目のトレイ19b〜19iは1ステツプずつ下
流に搬送されつつガラス封止処理される。
0,16,16,180内に容入された状態のま
まで後退させられる。したがつて、前記のように
1ステツプ前進した第2番目から第9番目のトレ
イ19b〜19iは逆戻りしない。以下、平行ビ
ーム6,6の矩形運動によつて第2番目から第9
番目のトレイ19b〜19iは1ステツプずつ下
流に搬送されつつガラス封止処理される。
いま、第7番目のトレイ19gを例にとつてガ
ラス封止工程を説明すると、第7番目のトレイ1
9gは、第1図と第2図のように入口筒4の通路
面に置かれることによつて所要時間予熱されてい
る。次いで、溝に沈んでいる平行ビーム6,6の
後退−上昇−前進−下降によつて第7番目のトレ
イ19gは炉体1の炉芯管3(第1図の第6番目
のトレイfの位置)に搬入され、第3図に示すよ
うに炉芯管3の通路面30に置かれる。そして次
に平行ビーム6,6が後退−上昇−前進−下降す
ることによつて第1図の第5番目のトレイ19e
の位置に位置される。このように間欠的に移動さ
れる間に、第7番目のトレイ19gは窒素ガス雰
囲気で400〜500℃に加熱される。それによつて低
融点ガラスは溶融し、ガラス板BはIC搭載基板
Aと接合される。
ラス封止工程を説明すると、第7番目のトレイ1
9gは、第1図と第2図のように入口筒4の通路
面に置かれることによつて所要時間予熱されてい
る。次いで、溝に沈んでいる平行ビーム6,6の
後退−上昇−前進−下降によつて第7番目のトレ
イ19gは炉体1の炉芯管3(第1図の第6番目
のトレイfの位置)に搬入され、第3図に示すよ
うに炉芯管3の通路面30に置かれる。そして次
に平行ビーム6,6が後退−上昇−前進−下降す
ることによつて第1図の第5番目のトレイ19e
の位置に位置される。このように間欠的に移動さ
れる間に、第7番目のトレイ19gは窒素ガス雰
囲気で400〜500℃に加熱される。それによつて低
融点ガラスは溶融し、ガラス板BはIC搭載基板
Aと接合される。
そして、間欠的な平行ビーム6,6の矩形運動
によつて、第7番目のトレイ19gは冷却筒5に
装入移置されることで冷却され、次いで平行ビー
ム6,6の矩形運動によつて冷却筒5から抽出さ
れ、第1図の第2番目のトレイ19bの位置に移
置され、次の平行ビーム6,6の矩形運動によつ
て第1番目のトレイ19aの位置まで移置され
る。そこで載置テーブル18,18からトレイを
別のライン等に移せばよい。
によつて、第7番目のトレイ19gは冷却筒5に
装入移置されることで冷却され、次いで平行ビー
ム6,6の矩形運動によつて冷却筒5から抽出さ
れ、第1図の第2番目のトレイ19bの位置に移
置され、次の平行ビーム6,6の矩形運動によつ
て第1番目のトレイ19aの位置まで移置され
る。そこで載置テーブル18,18からトレイを
別のライン等に移せばよい。
本考案は、上記のようにガラス封じ物を収容し
たトレイを平行ビーム6,6の矩形運動の繰返し
で間欠的にしかも無摺動で搬送するもので、平行
ビーム6,6はコンベアベルトのように炉内外を
循環しない。そのため、炉内外への循環に伴うゴ
ミ等の不純物の持ち込みが回避されるうえに、コ
ンベアベルトの場合のような入口筒4、炉芯管3
及び冷却筒5の各底との摺動摩擦が起こらない。
このことから摺動摩擦による金属微粉の発生と、
この金属微粉のIC搭載基板への付着が的確に回
避され、きわめてクリーンな条件でガラス封じを
行うことができる。
たトレイを平行ビーム6,6の矩形運動の繰返し
で間欠的にしかも無摺動で搬送するもので、平行
ビーム6,6はコンベアベルトのように炉内外を
循環しない。そのため、炉内外への循環に伴うゴ
ミ等の不純物の持ち込みが回避されるうえに、コ
ンベアベルトの場合のような入口筒4、炉芯管3
及び冷却筒5の各底との摺動摩擦が起こらない。
このことから摺動摩擦による金属微粉の発生と、
この金属微粉のIC搭載基板への付着が的確に回
避され、きわめてクリーンな条件でガラス封じを
行うことができる。
以上説明した本考案によるときには、発熱帯2
を内設した炉体1と、この炉体を貫く炉芯管3
と、炉芯管の前後に連設された入口筒4及び冷却
筒5と、入口筒4から冷却筒5を貫く平行ビーム
6,6と、この平行ビーム6,6の両端部を支え
かつ平行ビーム6,6を周期的に上昇−前進−下
降−後退させる駆動機構7を備え、入口筒4と炉
芯管3及び冷却筒5の底部には下降時の平行ビー
ム6,6を容入する溝16を長手方向に設けたの
で、金属微粉等の不純物を生じさせず炉内を常に
クリーンな状態に保つてガラス封じ工程を行うこ
とができ、したがつて、不純物の付着による特性
のバラツキが生じず、良品歩留りを高くすること
ができ、構造も簡単でベルトクリーナー等の機器
を必要としないため安価に実施できるなどのすぐ
れた効果が得られる。
を内設した炉体1と、この炉体を貫く炉芯管3
と、炉芯管の前後に連設された入口筒4及び冷却
筒5と、入口筒4から冷却筒5を貫く平行ビーム
6,6と、この平行ビーム6,6の両端部を支え
かつ平行ビーム6,6を周期的に上昇−前進−下
降−後退させる駆動機構7を備え、入口筒4と炉
芯管3及び冷却筒5の底部には下降時の平行ビー
ム6,6を容入する溝16を長手方向に設けたの
で、金属微粉等の不純物を生じさせず炉内を常に
クリーンな状態に保つてガラス封じ工程を行うこ
とができ、したがつて、不純物の付着による特性
のバラツキが生じず、良品歩留りを高くすること
ができ、構造も簡単でベルトクリーナー等の機器
を必要としないため安価に実施できるなどのすぐ
れた効果が得られる。
第1図は本考案に係る連続ガラス封止炉の一実
施例を示す縦断側面図、第2図は同じくその平面
図、第3図は第1図−線に沿う断面図、第4
図は第3図の一部拡大図である。 1……炉体、2……発熱帯、3……炉芯管、4
……入口筒、5……冷却筒、6,6……平行ビー
ム、7……駆動機構、16,16……溝。
施例を示す縦断側面図、第2図は同じくその平面
図、第3図は第1図−線に沿う断面図、第4
図は第3図の一部拡大図である。 1……炉体、2……発熱帯、3……炉芯管、4
……入口筒、5……冷却筒、6,6……平行ビー
ム、7……駆動機構、16,16……溝。
Claims (1)
- 発熱帯2を内設した炉体1と、この炉体を貫く
炉芯管3と、炉芯管の前後に連設された入口筒4
及び冷却筒5と、入口筒4から冷却筒5を貫く平
行ビーム6,6と、この平行ビーム6,6の両端
部を支えかつ平行ビーム6,6を周期的に上昇−
前進−下降−後退させる駆動機構7を備え、入口
筒4と炉芯管3及び冷却筒5の底部には下降時の
平行ビーム6,6を容入する溝16,16を長手
方向に設けたことを特徴とする連続ガラス封止
炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3011686U JPH0436117Y2 (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3011686U JPH0436117Y2 (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62142855U JPS62142855U (ja) | 1987-09-09 |
| JPH0436117Y2 true JPH0436117Y2 (ja) | 1992-08-26 |
Family
ID=30834635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3011686U Expired JPH0436117Y2 (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0436117Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-03-04 JP JP3011686U patent/JPH0436117Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62142855U (ja) | 1987-09-09 |
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