JPH04361671A - 工程離型紙 - Google Patents

工程離型紙

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JPH04361671A
JPH04361671A JP13675391A JP13675391A JPH04361671A JP H04361671 A JPH04361671 A JP H04361671A JP 13675391 A JP13675391 A JP 13675391A JP 13675391 A JP13675391 A JP 13675391A JP H04361671 A JPH04361671 A JP H04361671A
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Hitoshi Okada
仁 岡田
Junichi Hashikawa
橋川 淳一
Keisuke Arita
圭介 有田
Yoshinori Imoto
井元 義典
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は工程剥離紙、特に玉虫光
沢を有する合成皮革製造に用いられる工程剥離紙に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来から製造されている合成皮革には、
工程剥離紙上にペースト状のポリウレタン(PU)樹脂
を塗布し、乾燥・固化した後に基材と貼合したPUレザ
ー、工程剥離紙上にペースト状のPU樹脂を塗布して乾
燥・固化した後、PVC発泡層を形成して基材と貼合し
たセミ合皮、および工程剥離紙上に塩化ビニル(PVC
)樹脂ゾルを塗布し、加熱・ゲル化した後にPVC発泡
層を形成して基材と貼合したPVCレザー等がある。
【0003】従来、このような合成皮革の合成樹脂層表
面に玉虫光沢を付与する場合、基材に形成された合成樹
脂層上に蒸着プライマー層を形成し、この蒸着プライマ
ー層上に金属蒸着層を設け、さらに金属蒸着層上に透明
樹脂薄膜層を形成することが一般に行われていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように合成樹脂層表面に蒸着プライマー層、金属蒸着層
および透明樹脂薄膜層を形成することにより、製造工程
が煩雑になるとともに、原材料ロスが増加して製造コス
トの増大を来していた。また、上記の各層は塗布および
蒸着により形成されていることから、塗布ムラ、蒸着ム
ラ、各層の脱落等により合成皮革の外観が著しく損なわ
れるとともに、各層の均一化、安定化は技術的に困難で
あるという製造上の問題もあった。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、工程離型紙による合成皮革製造と同時に
合成皮革に玉虫光沢を付与することのできる工程離型紙
を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の工程離型紙は基材と、該基材の少な
くとも一方の面に設けられた剥離層とを有し、前記剥離
層の表面には微細凹凸が形成されているような構成とし
た。
【0007】
【作用】工程剥離紙は基材の上に離型層を備えており、
この離型層表面には微細凹凸が形成されているため、こ
の工程剥離紙上に合成樹脂を塗布して合成皮革を製造す
る際に、同時に合成皮革表面に微細凹凸が形成され、こ
の微細凹凸によって合成皮革に玉虫光沢が付与される。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は本発明の工程離型紙の一例を示す概
略断面図である。図1において工程離型紙1は基材2の
片面に離型層3を備え、この離型層3の表面には微細凹
凸4が形成されている。
【0009】基材2としては、クラフト紙、上質紙等の
紙、プラスチックフィルム、金属箔、織布、不織布等、
あるいはこれらの積層体を使用することができる。また
、基材2の離型層3形成側の面は、基材2と離型層3と
の接着性を高めるために予め加熱あるいはコロナ放電処
理を施してもよい。離型層3の形成には、紫外線硬化ま
たは電子線硬化可能なアクリル系樹脂、ポリエチレン系
樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリメチルペンテン系樹
脂等の公知の熱可塑性樹脂を使用することができ、合成
皮革用表面樹脂との剥離性を考慮して選定することがで
きる。
【0010】ここで、表面に微細凹凸4を備えた離型層
3の形成について説明する。図2は離型層3の形成方法
の一例を示す図である。図2において、基材2上には離
型層用の樹脂が塗布され、この離型層用の樹脂が未硬化
の状態でホログラム複製シート5が樹脂面に圧着される
とともに、紫外線または電子線が照射される。これによ
り、基材2上の離型層用樹脂が硬化されて離型層3が形
成されると同時に、この離型層3の表面にはホログラム
複製シート5の微細凹凸に対応した微細凹凸が転写形成
される。使用するホログラム複製シート5は、例えばホ
ログラムのプレスマスタ版のレリーフ面に剥離処理を行
った後に金属メッキを施し、この金属膜を剥離して形成
したレリーフ版を用いて熱可塑性樹脂シートを熱プレス
して形成することができる。
【0011】図3は離型層3の形成方法の他の一例を示
す図である。図3において、Tダイ6から薄膜状に押し
出された離型層用の溶融樹脂は、基材2とラミネートさ
れクーリングロール7およびニップロール8とによって
押圧・冷却されて工程剥離紙に形成されるが、この際、
クーリングロール7はホログラム複製シートが周面に配
設されたもの、あるいは周面にホログラム複製彫刻が施
されたものであるため、基材2に離型層3が形成される
と同時に微細凹凸4が離型層3の表面に形成される。
【0012】また、図4は離型層3の形成方法の他の一
例を示す図である。図4において、離型層3が設けられ
た基材2は、周面にホログラム複製シートが配設されて
いるか、あるいは周面にホログラム複製彫刻が施された
エンボスロール10とバックアップロール11との間に
送られて離型層3にエンボス加工が施される。これによ
り、離型層3の表面にはエンボスロール10の微細凹凸
に対応した微細凹凸が形成される。
【0013】このようにして形成される離型層3の厚さ
は20〜50μm程度が好ましく、また離型層3の表面
に形成される微細凹凸4の大きさ(図1における凸部4
aから凹部4bまでの深さ)Aは0.1〜5μm程度が
好ましい。図5は本発明の工程離型紙の他の一例を示す
概略断面図である。図5において工程離型紙21は基材
22の片面に離型層23を備え他の面に離型層25を備
えている。そして、離型層23の表面には微細凹凸24
が形成され、離型層25の表面には微細凹凸26が形成
されている。この場合、基材22の両面に形成された離
型層23と離型層25の厚みは略同等であることが好ま
しい。
【0014】尚、離型層23,25の厚さ、および微細
凹部24,26の大きさは上記の実施例と同様の範囲に
あればよい。次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。(実験例) 基材としてコート紙(坪量=127.9g/m2 )に
紫外線硬化型アクリル系樹脂(三菱油化製ユピマー)を
乾燥重量で15g/m2 となるように塗布し、図2に
示されるようにしてアクリル系樹脂塗布面にホログラム
複製シートを密着し、この状態で紫外線を照射してアク
リル系樹脂を硬化させた。その後、ホログラム複製シー
トを剥離して基材上に離型層が設けられた工程離型紙を
形成した。この離型層の表面にはホログラム複製シート
の微細凹凸に対応した光学的干渉模様が形成されていた
【0015】また、図3に示されるようにして基材とし
てのクラフト紙(坪量=125g/m2 )にポリプロ
ピレン系樹脂を押出しコート(コート量=27g/m2
 )し、ホログラム複製シートが周面に配設されたクー
リングロールを用いて基材とポリプロピレン系樹脂とを
ラミネートして工程離型紙を形成した。この離型層の表
面にはクーリングロールに設けられたホログラム複製シ
ートの微細凹凸に対応した微細凹凸(光学的干渉模様)
が形成されていた。
【0016】さらに、基材としてのクラフト紙(坪量=
125g/m2 )上にポリプロピレン系樹脂を押出し
コート(コート量=27g/m2 )して積層シートを
形成した。この積層シートに対して、図4に示されるよ
うにしてホログラム複製シートが周面に配設されたエン
ボスロールを用いてエンボス加工を行った。これにより
、エンボスロールに設けられたホログラム複製シートの
微細凹凸に対応した光学的干渉模様が形成された離型層
を有する工程離型紙が得られた。
【0017】次に、上記のようにして形成した各工程離
型紙を用いて合成皮革を作成した。すなわち、各工程離
型紙の離型層上にペースト状のポリウレタン樹脂(大日
精化製NE−308)を塗布(塗布量=30g/m2 
)し、120℃で乾燥・固化した後に基材(特殊基布)
と貼合してポリウレタンレザーを作成した。このポリウ
レタンレザーには玉虫光沢がみとめられた。
【0018】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば工
程剥離紙は基材の上に離型層を備えており、この離型層
表面には微細凹凸が形成されているため、この工程剥離
紙上に合成樹脂を塗布して合成皮革を製造する際に、同
時に合成皮革表面に微細凹凸が形成され、この微細凹凸
によって合成皮革に玉虫光沢が付与される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の工程離型紙の一例を示す概略断面図で
ある。
【図2】図2は離型層の形成方法の一例を示す図である
【図3】図3は離型層の形成方法の他の一例を示す図で
ある。
【図4】図4は離型層の形成方法の他の一例を示す図で
ある。
【図5】本発明の工程離型紙の他の一例を示す概略断面
図である。
【符号の説明】
1,21…工程離型紙 2,22…基材 3,23,25…離型層 4,24,26…微細凹凸

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  基材と、該基材の少なくとも一方の面
    に設けられた剥離層とを有し、前記剥離層の表面には微
    細凹凸が形成されていることを特徴とする工程離型紙。
  2. 【請求項2】  前記微細凹凸の大きさが0.1〜5μ
    mの範囲にあることを特徴とする請求項1記載の工程剥
    離紙。
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