JPH04365048A - 感光性組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版、多色印刷
の校正刷、オーバーヘッドプロジェクター用図面、さら
には半導体素子の集積回路を製造する際に微細なレジス
トパターンを形成することが可能なポジ型感光性組成物
に関する。
の校正刷、オーバーヘッドプロジェクター用図面、さら
には半導体素子の集積回路を製造する際に微細なレジス
トパターンを形成することが可能なポジ型感光性組成物
に関する。
【0002】
【従来の技術】平版印刷版等の用途において、活性光線
により可溶化する、いわゆるポジチブに作用する感光性
物質としては、従来オルトキノンジアジド化合物が知ら
れており、実際平版印刷版等に広く利用されてきた。こ
のようなオルトキノンジアジド化合物としては、例えば
米国特許第 2,766,118号、同第 2,767
,092号、同第 2,772,972号、同第 2,
859,112号、同第 2,907,665号、同第
3,046,110号、同第 3,046,111号
、同第 3,046,115号、同第 3,046,1
18号、同第 3,046,119号、同第 3,04
6,120号、同第 3,046,121号、同第 3
,046,122号、同第 3,046,123号、同
第 3,061,430号、同第 3,102,809
号、同第 3,106,465号、同第 3,635,
709号、同第 3,647,443号の各明細書をは
じめ、多数の刊行物に記されている。
により可溶化する、いわゆるポジチブに作用する感光性
物質としては、従来オルトキノンジアジド化合物が知ら
れており、実際平版印刷版等に広く利用されてきた。こ
のようなオルトキノンジアジド化合物としては、例えば
米国特許第 2,766,118号、同第 2,767
,092号、同第 2,772,972号、同第 2,
859,112号、同第 2,907,665号、同第
3,046,110号、同第 3,046,111号
、同第 3,046,115号、同第 3,046,1
18号、同第 3,046,119号、同第 3,04
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,046,122号、同第 3,046,123号、同
第 3,061,430号、同第 3,102,809
号、同第 3,106,465号、同第 3,635,
709号、同第 3,647,443号の各明細書をは
じめ、多数の刊行物に記されている。
【0003】これらのオルトキノンジアジド化合物は、
活性光線の照射により分解を起こして5員環のカルボン
酸を生じ、アルカリ可溶性となることを利用したもので
あるが、いずれも十分な感度を示すものではなかった。 これは、オルトキノンジアジド化合物によっては、光化
学的な増感を達成するのが困難であり、本質的にその量
子収率が1を越えないことに起因するものである。また
感光波長が固定化される為、光源適性に乏しく、白燈安
全性付与が困難であり、更にDeep UV領域での
吸収が大きいため、低波長光使用によるフォトレジスト
の解像力向上を目的とした用途には適さない。
活性光線の照射により分解を起こして5員環のカルボン
酸を生じ、アルカリ可溶性となることを利用したもので
あるが、いずれも十分な感度を示すものではなかった。 これは、オルトキノンジアジド化合物によっては、光化
学的な増感を達成するのが困難であり、本質的にその量
子収率が1を越えないことに起因するものである。また
感光波長が固定化される為、光源適性に乏しく、白燈安
全性付与が困難であり、更にDeep UV領域での
吸収が大きいため、低波長光使用によるフォトレジスト
の解像力向上を目的とした用途には適さない。
【0004】これらの欠点を克服するために、例えば特
公昭48−12242号、特開昭52−40125号、
米国特許第 4,307,173号などの各公報および
明細書に記載の方法が試みられているが、いずれも不十
分な改良に留まっている。また最近、オルトキノンジア
ジド化合物に替わる新規ポジ型感光材料の開発を目的と
して、いくつかの提案がなされている。その1つとして
、例えば特公昭56−2696号の公報に記載されてい
るオルトニトロカルビノールエステル基を有するポリマ
ー化合物が挙げられる。しかし、この場合においても十
分な感度が得られなかった。
公昭48−12242号、特開昭52−40125号、
米国特許第 4,307,173号などの各公報および
明細書に記載の方法が試みられているが、いずれも不十
分な改良に留まっている。また最近、オルトキノンジア
ジド化合物に替わる新規ポジ型感光材料の開発を目的と
して、いくつかの提案がなされている。その1つとして
、例えば特公昭56−2696号の公報に記載されてい
るオルトニトロカルビノールエステル基を有するポリマ
ー化合物が挙げられる。しかし、この場合においても十
分な感度が得られなかった。
【0005】一方、半導体素子、磁気バルブメモリ、集
積回路等の電子部品を製造するためのパターン形成法と
して、フォトレジストを利用して作成する方法が一般に
行われている。フォトレジストには、光照射により被照
射部が現像液に不溶化するネガ型と、反対に可溶化する
ポジ型とがある。ネガ型はポジ型に比べて感度が良く、
湿式エッチングに必要な基板との接着性及び耐薬品性に
も優れていることから、近年までフォトレジストの主流
を占めていた。しかし、半導体素子等の高密度化、高集
積化に伴い、パターンの線幅や間隔が極めて小さくなり
、また、基板のエッチングにはドライエッチングが採用
されるようになったことから、フォトレジストには高解
像度および高ドライエッチング耐性が望まれるようにな
り、現在ではポジ型フォトレジストが主流となっている
。特に、ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像力
、ドライエッチング耐性に優れることから、例えばジェ
ー・シー・ストリエータ著、コダック・マイクロエレク
トロニクス・セミナー・プロシーディングス、第116
頁(1976年)(J. C. Strieter、K
odak Microelectoronics Se
minor Proceedings,116(197
6))等に記載されているアルカリ可溶性のノボラック
樹脂をベースにしたアルカリ現像型のポジ型フォトレジ
ストが現在広く使用されている。
積回路等の電子部品を製造するためのパターン形成法と
して、フォトレジストを利用して作成する方法が一般に
行われている。フォトレジストには、光照射により被照
射部が現像液に不溶化するネガ型と、反対に可溶化する
ポジ型とがある。ネガ型はポジ型に比べて感度が良く、
湿式エッチングに必要な基板との接着性及び耐薬品性に
も優れていることから、近年までフォトレジストの主流
を占めていた。しかし、半導体素子等の高密度化、高集
積化に伴い、パターンの線幅や間隔が極めて小さくなり
、また、基板のエッチングにはドライエッチングが採用
されるようになったことから、フォトレジストには高解
像度および高ドライエッチング耐性が望まれるようにな
り、現在ではポジ型フォトレジストが主流となっている
。特に、ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像力
、ドライエッチング耐性に優れることから、例えばジェ
ー・シー・ストリエータ著、コダック・マイクロエレク
トロニクス・セミナー・プロシーディングス、第116
頁(1976年)(J. C. Strieter、K
odak Microelectoronics Se
minor Proceedings,116(197
6))等に記載されているアルカリ可溶性のノボラック
樹脂をベースにしたアルカリ現像型のポジ型フォトレジ
ストが現在広く使用されている。
【0006】しかしながら、近年電子機器の多機能化、
高感化に伴い、さらに高密度ならびに高集積化を図るべ
くパターンの微細化が強く要請されている。これらの要
求に対し、従来のオルトキノンジアジド感光性に、アル
カリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシルメ
チレン等のシリコンポリマーを組み合わせた感光性組成
物、例えば特開昭61−256347号、同61−14
4639号、同62−159141号、同62−191
849号、同62−220949号、同62−2291
36号、同63−90534号、同63−91654号
等の各公報に記載の感光性組成物、特開昭62−136
638号の公報記載のポリシロキサン/カーボネートの
ブラック共重合体に有効量のオニウム塩を組み合わせた
感光性組成物が提示されている。しかしながら、これら
のシリコンポリマーは、アルカリ可溶性の機能付与等の
為にその製造が著しく困難となり、また経時安定性も十
分ではなかった。
高感化に伴い、さらに高密度ならびに高集積化を図るべ
くパターンの微細化が強く要請されている。これらの要
求に対し、従来のオルトキノンジアジド感光性に、アル
カリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシルメ
チレン等のシリコンポリマーを組み合わせた感光性組成
物、例えば特開昭61−256347号、同61−14
4639号、同62−159141号、同62−191
849号、同62−220949号、同62−2291
36号、同63−90534号、同63−91654号
等の各公報に記載の感光性組成物、特開昭62−136
638号の公報記載のポリシロキサン/カーボネートの
ブラック共重合体に有効量のオニウム塩を組み合わせた
感光性組成物が提示されている。しかしながら、これら
のシリコンポリマーは、アルカリ可溶性の機能付与等の
為にその製造が著しく困難となり、また経時安定性も十
分ではなかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点が解決された新規なポジ型感光性組成物を提供す
ることにある。即ち、高い感光性を有し、かつ、広範囲
の波長光の使用が可能である新規なポジ型感光性組成物
を提供することにある。
問題点が解決された新規なポジ型感光性組成物を提供す
ることにある。即ち、高い感光性を有し、かつ、広範囲
の波長光の使用が可能である新規なポジ型感光性組成物
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく、オルトキノンジアジドに代わる新規なポジ
型感光性組成物の探索を行った結果、クレゾール樹脂の
ようなアルカリ可溶性ポリマー中に一般式(I)で示さ
れる化合物を含有させることにより、鮮明なポジ画像が
得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
達成すべく、オルトキノンジアジドに代わる新規なポジ
型感光性組成物の探索を行った結果、クレゾール樹脂の
ようなアルカリ可溶性ポリマー中に一般式(I)で示さ
れる化合物を含有させることにより、鮮明なポジ画像が
得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0009】即ち、本発明は、下記一般式(I)で示さ
れる化合物とアルカリ可溶性ポリマーを含有することを
特徴とするポジ型感光性組成物である。
れる化合物とアルカリ可溶性ポリマーを含有することを
特徴とするポジ型感光性組成物である。
【0010】
【化2】
【0011】式中、R1 はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を示し、R2 はア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、スチリル基、置換スチリル基、ビニル基又は置換ビ
ニル基を示し、R3 、R4 、R5 およびR6 は
各々独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリール基、ハロゲン原子又はアルコキ
シ基を示す。
基、アリール基又は置換アリール基を示し、R2 はア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、スチリル基、置換スチリル基、ビニル基又は置換ビ
ニル基を示し、R3 、R4 、R5 およびR6 は
各々独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリール基、ハロゲン原子又はアルコキ
シ基を示す。
【0012】又、R3 とR4 、R4 とR5 、R
5 とR6 は互いに結合して、それらが結合している
炭素原子とともにベンゼン環又は複素環を形成してもよ
い。現在のところ、鮮明なポジ画像が得られる理由は明
らかでないが、未露光部では、一般式(I)で示される
化合物とアルカリ可溶性ポリマーが相互作用をなし、感
光層のアルカリ現像液に対する溶解性を低下させ、一方
露光部では、光照射されることにより、一般式(I)の
化合物が分解され酸を発生することにより、アルカリ現
像液に対する溶解性が増加するため、ポジ画像になるも
のと推定される。
5 とR6 は互いに結合して、それらが結合している
炭素原子とともにベンゼン環又は複素環を形成してもよ
い。現在のところ、鮮明なポジ画像が得られる理由は明
らかでないが、未露光部では、一般式(I)で示される
化合物とアルカリ可溶性ポリマーが相互作用をなし、感
光層のアルカリ現像液に対する溶解性を低下させ、一方
露光部では、光照射されることにより、一般式(I)の
化合物が分解され酸を発生することにより、アルカリ現
像液に対する溶解性が増加するため、ポジ画像になるも
のと推定される。
【0013】以下、本発明のポジ型感光性組成物につい
て詳細に説明する。本発明で使用される一般式(I)の
化合物はディー・ハリソンらの文献(D.Harris
onら著、Journal of the Chemi
calSociety 、第2157〜2160頁(1
960))記載の方法に従い合成される一般式(II)
で示される2−置換−3−ヒドロキシ−4(3H)−キ
ナゾリノン誘導体
て詳細に説明する。本発明で使用される一般式(I)の
化合物はディー・ハリソンらの文献(D.Harris
onら著、Journal of the Chemi
calSociety 、第2157〜2160頁(1
960))記載の方法に従い合成される一般式(II)
で示される2−置換−3−ヒドロキシ−4(3H)−キ
ナゾリノン誘導体
【0014】
【化3】
【0015】(式中、R2 、R3 、R4 、R5
およびR6 は一般式(I)の場合と同様に定義される
)とR1 −SO2 −Cl(式中、R1 は一般式(
I)の場合と同様に定義される)で示される有機スルホ
ン酸クロリドを脱塩化水素剤共存下、脱塩化水素縮合反
応させることにより合成することができる。一般式(I
)におけるR1 およびR2 のアルキル基は直鎖、分
枝、環状のもののいずれでも良く、好ましくは、1〜1
0個の炭素原子を有する。例えばメチル基、エチル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられる。
およびR6 は一般式(I)の場合と同様に定義される
)とR1 −SO2 −Cl(式中、R1 は一般式(
I)の場合と同様に定義される)で示される有機スルホ
ン酸クロリドを脱塩化水素剤共存下、脱塩化水素縮合反
応させることにより合成することができる。一般式(I
)におけるR1 およびR2 のアルキル基は直鎖、分
枝、環状のもののいずれでも良く、好ましくは、1〜1
0個の炭素原子を有する。例えばメチル基、エチル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられる。
【0016】R1 およびR2 の置換アルキル基は、
上記のようなアルキル基が、例えば塩素原子のようなハ
ロゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数1〜
5のアルコキシ基などで置換された基である。具体的に
は2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基などが含
まれる。またR1 およびR2 のアリール基は好まし
くは単環および2環のものであって、例えばフェニル基
、α−ナフチル基、β−ナフチル基などが含まれる。R
1 およびR2 の置換アリール基は、上記のようなア
リール基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子
数1〜5のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基
などの炭素原子数1〜5のアルコキシ基、例えば塩素原
子などのハロゲン原子が置換したものが含まれる。具体
的にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、メトキ
シフェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基
、メトキシナフチル基等が挙げられる。又R2 の置換
ビニル基及び置換スチリル基の置換基としては、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子が含まれる。具体的には、p−メトキシスチ
リル基、p−クロロスチリル基、p−メチルスチリル基
及び2−プロペニル基が挙げられる。一般式(I)にお
いて、R3 、R4 、R5 およびR6 は各々独立
して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基か
ら成る群より選ばれる。アルキル基としては炭素原子数
1〜5のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基などが含まれる。
上記のようなアルキル基が、例えば塩素原子のようなハ
ロゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数1〜
5のアルコキシ基などで置換された基である。具体的に
は2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基などが含
まれる。またR1 およびR2 のアリール基は好まし
くは単環および2環のものであって、例えばフェニル基
、α−ナフチル基、β−ナフチル基などが含まれる。R
1 およびR2 の置換アリール基は、上記のようなア
リール基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子
数1〜5のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基
などの炭素原子数1〜5のアルコキシ基、例えば塩素原
子などのハロゲン原子が置換したものが含まれる。具体
的にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、メトキ
シフェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基
、メトキシナフチル基等が挙げられる。又R2 の置換
ビニル基及び置換スチリル基の置換基としては、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子が含まれる。具体的には、p−メトキシスチ
リル基、p−クロロスチリル基、p−メチルスチリル基
及び2−プロペニル基が挙げられる。一般式(I)にお
いて、R3 、R4 、R5 およびR6 は各々独立
して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基か
ら成る群より選ばれる。アルキル基としては炭素原子数
1〜5のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基などが含まれる。
【0017】置換アルキル基は、上記のようなアルキル
基がハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルコキシ基等
で置換された基である。具体的には2−クロロエチル基
、2−メトキシエチル基などが含まれる。アリール基は
好ましくは単環のものであって、例えばフェニル基など
が含まれる。置換アリール基は、上記のようなアリール
基が、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜
5のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの
炭素原子数1〜5のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子が置換された基が含まれる。具体的には
メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、メトキシフェ
ニル基、クロロフェニル基などが挙げられる。またR3
とR4 、R4 とR5 、及びR5 とR6 は互
いに結合して、それらが結合している炭素原子とともに
ベンゼン環を又は複素環を形成してもよい。上記の例と
しては、ベンゼン環、ピリジン環、フラン環、ピペリジ
ン環等が挙げられる。
基がハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルコキシ基等
で置換された基である。具体的には2−クロロエチル基
、2−メトキシエチル基などが含まれる。アリール基は
好ましくは単環のものであって、例えばフェニル基など
が含まれる。置換アリール基は、上記のようなアリール
基が、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜
5のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの
炭素原子数1〜5のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子が置換された基が含まれる。具体的には
メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、メトキシフェ
ニル基、クロロフェニル基などが挙げられる。またR3
とR4 、R4 とR5 、及びR5 とR6 は互
いに結合して、それらが結合している炭素原子とともに
ベンゼン環を又は複素環を形成してもよい。上記の例と
しては、ベンゼン環、ピリジン環、フラン環、ピペリジ
ン環等が挙げられる。
【0018】下記に本発明に使用される一般式(I)の
化合物の例を列挙するが、本発明の範囲はこれらに限定
されるものではない。
化合物の例を列挙するが、本発明の範囲はこれらに限定
されるものではない。
【0019】
【化4】
【0020】
【化5】
【0021】
【化6】
【0022】
【化7】
【0023】
【化8】
【0024】一般式(I)で示される化合物は単一で使
用できるが、数種の混合物として使用してもよい。感光
性組成物中の一般式(I)で示される化合物の添加量は
、好ましくは感光性組成物全固形分に対し、1〜50重
量%、更に好ましくは5〜30重量%の範囲である。
用できるが、数種の混合物として使用してもよい。感光
性組成物中の一般式(I)で示される化合物の添加量は
、好ましくは感光性組成物全固形分に対し、1〜50重
量%、更に好ましくは5〜30重量%の範囲である。
【0025】本発明で使用されるアルカリ可溶性ポリマ
ーは、好ましくはフェノール性ヒドロキシ基、カルボン
酸基、スルホン酸基、イミド基、スルホンアミド基、N
−スルホニルアミド基、N−スルホニルウレタン基、活
性メチレン基等のpKa 11以下の酸性基を有するポ
リマーである。好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては
、ノボラック型フェノール樹脂、具体的にはフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、
p−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール
−ホルムアルデヒド樹脂またはこれらの共縮合物などが
ある。更に、特開昭50−125806号公報に記され
ている様に上記の様なフェノール樹脂と共に、t−ブチ
ルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3
〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用してもよい
。 またN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド
のようなフェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重
合成分とするポリマー、p−ヒドロキシスチレン、o−
ヒドロキシスチレン、m−イソプロペニルフェノール、
p−イソプロペニルフェノール等の単独または共重合ポ
リマー、更にこれらのポリマーの部分エーテル化もしく
は部分エステル化したポリマーも使用できる。
ーは、好ましくはフェノール性ヒドロキシ基、カルボン
酸基、スルホン酸基、イミド基、スルホンアミド基、N
−スルホニルアミド基、N−スルホニルウレタン基、活
性メチレン基等のpKa 11以下の酸性基を有するポ
リマーである。好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては
、ノボラック型フェノール樹脂、具体的にはフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、
p−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール
−ホルムアルデヒド樹脂またはこれらの共縮合物などが
ある。更に、特開昭50−125806号公報に記され
ている様に上記の様なフェノール樹脂と共に、t−ブチ
ルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3
〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用してもよい
。 またN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド
のようなフェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重
合成分とするポリマー、p−ヒドロキシスチレン、o−
ヒドロキシスチレン、m−イソプロペニルフェノール、
p−イソプロペニルフェノール等の単独または共重合ポ
リマー、更にこれらのポリマーの部分エーテル化もしく
は部分エステル化したポリマーも使用できる。
【0026】更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカル
ボキシ基含有モノマーを共重合成分とするポリマー、特
開昭61−267042号公報記載のカルボキシ基含有
ポリビニルアセタール樹脂、特開昭63−124047
号公報記載のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好
適に使用される。更にまた、N−(4−スルファモイル
フェニル)メタクリルアミド、N−フェニルスルホニル
メタクリルアミド、マレイミドを共重合成分とするポリ
マー、特開昭63−127237号公報記載の活性メチ
レン基含有ポリマーも使用できる。
ボキシ基含有モノマーを共重合成分とするポリマー、特
開昭61−267042号公報記載のカルボキシ基含有
ポリビニルアセタール樹脂、特開昭63−124047
号公報記載のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好
適に使用される。更にまた、N−(4−スルファモイル
フェニル)メタクリルアミド、N−フェニルスルホニル
メタクリルアミド、マレイミドを共重合成分とするポリ
マー、特開昭63−127237号公報記載の活性メチ
レン基含有ポリマーも使用できる。
【0027】これらのアルカリ可溶性ポリマーは単一で
使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。感
光性組成物中のアルカリ可溶性ポリマーの添加量は、好
ましくは感光性組成物全固形分に対し、10〜90重量
%、更に好ましくは30〜80重量%の範囲である。
使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。感
光性組成物中のアルカリ可溶性ポリマーの添加量は、好
ましくは感光性組成物全固形分に対し、10〜90重量
%、更に好ましくは30〜80重量%の範囲である。
【0028】本発明のポジ型感光性組成物には必要に応
じて、更に染料、顔料、可塑剤および前記酸を発生する
化合物の酸発生効率を増大させる化合物(増感剤)など
を添加することができる。このような増感剤としては、
メロシアニン色素、シアニン色素等が使用できるが、こ
れらに限定されるものではない。
じて、更に染料、顔料、可塑剤および前記酸を発生する
化合物の酸発生効率を増大させる化合物(増感剤)など
を添加することができる。このような増感剤としては、
メロシアニン色素、シアニン色素等が使用できるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0029】これらの増感剤と一般式(I)で示される
化合物との割合は、好ましくはモル比で0.01/1〜
20/1、重量比で0.1/1〜5/1の範囲で使用さ
れる。また、本発明のポジ型感光性組成物には着色剤と
して染料を用いることができるが、好適な染料としては
油溶性染料および塩基性染料がある。具体的には、例え
ばオイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブ
ルーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS
、オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工
業(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。
化合物との割合は、好ましくはモル比で0.01/1〜
20/1、重量比で0.1/1〜5/1の範囲で使用さ
れる。また、本発明のポジ型感光性組成物には着色剤と
して染料を用いることができるが、好適な染料としては
油溶性染料および塩基性染料がある。具体的には、例え
ばオイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブ
ルーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS
、オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工
業(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。
【0030】これらの染料は、感光性組成物全固形分に
対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重
量%の割合で感光性組成物中に添加することができる。 本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、その他のフィラーなどを加えることができる。 環状酸無水物としては米国特許第 4,115,128
号明細書に記載されているような無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,
6−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、
ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を好ま
しくは感光性組成物全固形分に対し1〜15重量%含有
させることによって感度を最大3倍程度まで高めること
ができる。
対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重
量%の割合で感光性組成物中に添加することができる。 本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、その他のフィラーなどを加えることができる。 環状酸無水物としては米国特許第 4,115,128
号明細書に記載されているような無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,
6−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、
ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を好ま
しくは感光性組成物全固形分に対し1〜15重量%含有
させることによって感度を最大3倍程度まで高めること
ができる。
【0031】本発明のポジ型感光性組成物は、平版印刷
版用の材料として使用する場合には上記各成分を溶解す
る溶剤に溶かして、支持体上に塗布する。また、半導体
等のレジスト材料用としては、溶媒に溶解したままで使
用する。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、酢酸エチルなどがあり、これらの溶
媒を単独あるいは混合して使用する。そして溶媒中の上
記成分(添加物を含む全固形分)の濃度は、好ましくは
2〜50重量%である。また、塗布して使用する場合、
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g
/m2 、またフォトレジストについていえば一般的に
固形分として0.1〜3.0g/m2 が好ましい。塗
布量が少なくなるにつれて、感光性は大になるが、感光
膜の皮膜特性は低下する。
版用の材料として使用する場合には上記各成分を溶解す
る溶剤に溶かして、支持体上に塗布する。また、半導体
等のレジスト材料用としては、溶媒に溶解したままで使
用する。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、酢酸エチルなどがあり、これらの溶
媒を単独あるいは混合して使用する。そして溶媒中の上
記成分(添加物を含む全固形分)の濃度は、好ましくは
2〜50重量%である。また、塗布して使用する場合、
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g
/m2 、またフォトレジストについていえば一般的に
固形分として0.1〜3.0g/m2 が好ましい。塗
布量が少なくなるにつれて、感光性は大になるが、感光
膜の皮膜特性は低下する。
【0032】本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版
印刷版を製造する場合、その支持体としては、例えば、
紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、例えば
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース
、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールな
どのようなプラスチックのフィルム、上記のごとき金属
がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラス
チックフィルムなどが含まれる。これらの支持体のうち
、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも
安価であるので特に好ましい。更に特公昭48−183
27号公報に記されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。アルミニウム板の表面をワイヤ
ブラシングレイニングで研磨粒子のスラリーを注ぎなが
らナイロンブラシ粗面化するブラシグレイニング、ボー
ルグレイニング、液体ホーニングによるグレイニング、
バフグレイニング等の機械的方法、HFやAlCl3
、HClをエッチャントとするケミカルグレイニング、
硝酸または塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれ
らの粗面化法を複合させて行った複合グレイニングによ
って表面を砂目立てした後、必要に応じて酸またはアル
カリによりエッチング処理され、引き続き硫酸、リン酸
、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれらの混
酸中で直流または交流電源にて陽極酸化を行い、アルミ
ニウム表面に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい
。このような不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水
化されてしまうが、更に必要に応じて米国特許第 2,
714,066号明細書や米国特許第 3,181,4
61号明細書に記載されている珪酸塩処理(珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム)、米国特許第 2,946,63
8号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリ
ウム処理、米国特許第 3,201,247号明細書に
記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第
1,108,559号明細書に記載されているアルキル
チタネート処理、独国特許第 1,091,443号明
細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第
1,134,093号明細書や英国特許第 1,23
0,447号明細書に記載されているポリビニルホスホ
ン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されてい
るホスホン酸処理、米国特許第 3,307,951号
明細書に記載されているフイチン酸処理、特開昭58−
16893号や特開昭58−16291号の各公報に記
載されている親水性有機高分子化合物と2価の金属より
なる複合処理、特開昭59−101651号公報に記載
されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗に
よって親水化処理を行ったものは特に好ましい。その他
の親水化処理方法としては、米国特許第 3,658,
662号明細書に記載されているシリケート電着を挙げ
ることができる。
印刷版を製造する場合、その支持体としては、例えば、
紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、例えば
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース
、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールな
どのようなプラスチックのフィルム、上記のごとき金属
がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラス
チックフィルムなどが含まれる。これらの支持体のうち
、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも
安価であるので特に好ましい。更に特公昭48−183
27号公報に記されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。アルミニウム板の表面をワイヤ
ブラシングレイニングで研磨粒子のスラリーを注ぎなが
らナイロンブラシ粗面化するブラシグレイニング、ボー
ルグレイニング、液体ホーニングによるグレイニング、
バフグレイニング等の機械的方法、HFやAlCl3
、HClをエッチャントとするケミカルグレイニング、
硝酸または塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれ
らの粗面化法を複合させて行った複合グレイニングによ
って表面を砂目立てした後、必要に応じて酸またはアル
カリによりエッチング処理され、引き続き硫酸、リン酸
、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれらの混
酸中で直流または交流電源にて陽極酸化を行い、アルミ
ニウム表面に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい
。このような不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水
化されてしまうが、更に必要に応じて米国特許第 2,
714,066号明細書や米国特許第 3,181,4
61号明細書に記載されている珪酸塩処理(珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム)、米国特許第 2,946,63
8号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリ
ウム処理、米国特許第 3,201,247号明細書に
記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第
1,108,559号明細書に記載されているアルキル
チタネート処理、独国特許第 1,091,443号明
細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第
1,134,093号明細書や英国特許第 1,23
0,447号明細書に記載されているポリビニルホスホ
ン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されてい
るホスホン酸処理、米国特許第 3,307,951号
明細書に記載されているフイチン酸処理、特開昭58−
16893号や特開昭58−16291号の各公報に記
載されている親水性有機高分子化合物と2価の金属より
なる複合処理、特開昭59−101651号公報に記載
されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗に
よって親水化処理を行ったものは特に好ましい。その他
の親水化処理方法としては、米国特許第 3,658,
662号明細書に記載されているシリケート電着を挙げ
ることができる。
【0033】また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理
を施したものが好ましい。かかる封孔処理は熱水および
無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸
気浴などによって行われる。本発明のポジ型感光性組成
物をフォトレジストとして使用する場合には銅板又は銅
メッキ板、シリコン板、ステンレス板、ガラス板等の種
々の材質の基板を支持体として用いることができる。
を施したものが好ましい。かかる封孔処理は熱水および
無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸
気浴などによって行われる。本発明のポジ型感光性組成
物をフォトレジストとして使用する場合には銅板又は銅
メッキ板、シリコン板、ステンレス板、ガラス板等の種
々の材質の基板を支持体として用いることができる。
【0034】本発明のポジ型感光性組成物は公知の塗布
技術により上記の支持体上に塗布される。上記の塗布技
術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、デ
ィップ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブ
レード塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布法等を
挙げることができる。上記のようにして塗布されたポジ
型感光性組成物層は、40〜150℃で30秒〜10分
間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥される。
技術により上記の支持体上に塗布される。上記の塗布技
術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、デ
ィップ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブ
レード塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布法等を
挙げることができる。上記のようにして塗布されたポジ
型感光性組成物層は、40〜150℃で30秒〜10分
間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥される。
【0035】本発明のポジ型感光性組成物を含む感光性
平版印刷版及びフォトレジスト等は、通常、像露光、現
像工程を施される。像露光に用いられる活性光線の光源
としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キ
セノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯など
がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビーム
、遠紫外線などがある。フォトレジスト用の光源として
は、g線、i線、Deep−UV光が好ましく使用され
る。また高密度エネルギービーム(レーザービームまた
は電子線)による走査露光も本発明に使用することがで
きる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・ネ
オンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオンレ
ーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシ
マレーザーなどが挙げられる。
平版印刷版及びフォトレジスト等は、通常、像露光、現
像工程を施される。像露光に用いられる活性光線の光源
としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キ
セノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯など
がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビーム
、遠紫外線などがある。フォトレジスト用の光源として
は、g線、i線、Deep−UV光が好ましく使用され
る。また高密度エネルギービーム(レーザービームまた
は電子線)による走査露光も本発明に使用することがで
きる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・ネ
オンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオンレ
ーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシ
マレーザーなどが挙げられる。
【0036】本発明のポジ型感光性組成物の現像に用い
る現像液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン
酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのよう
な無機アルカリ剤およびテトラアルキルアンモニウムハ
イドライドなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当
であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好ましく
は0.5〜5重量%になるように添加される。
る現像液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン
酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのよう
な無機アルカリ剤およびテトラアルキルアンモニウムハ
イドライドなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当
であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好ましく
は0.5〜5重量%になるように添加される。
【0037】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じて界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加
えることもできる。
じて界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加
えることもできる。
【0038】
【発明の効果】本発明のポジ型感光性組成物は、高い感
光性を有し、かつ、広範囲の波長光の使用が可能である
。
光性を有し、かつ、広範囲の波長光の使用が可能である
。
【0039】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。 〔実施例1〜8〕厚さ0.24mmの2Sアルミニウム
板を80℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液
に3分間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てし
た後、アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングし
て、硫酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を
行った。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度
2A/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。 〔実施例1〜8〕厚さ0.24mmの2Sアルミニウム
板を80℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液
に3分間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てし
た後、アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングし
て、硫酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を
行った。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度
2A/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
【0040】次に下記表1に示される化合物を用いて、
下記処分のとおりに8種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕
−8を調製した。この感光液を陽極酸化されたアルミニ
ウム板上に塗布し、100℃で2分間乾燥して、それぞ
れの感光性平版印刷版を作製した。このときの塗布量は
全て乾燥重量で1.5g/m2になるように調整した。 感光液処方〔A〕 一般式(I)の化合物
0.2g クレゾー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂 1
.0g オイルブルー#603(オリエント工業(株
)製) 0.01g メチルエチルケトン
5g メチルセロソルブ
15g得られた
平版印刷版の感光層上に濃度差0.15のグレースケー
ルを密着させ、2KWの高圧水銀灯で50cmの距離か
ら2分間露光を行った。露光した平版印刷版をDP−4
(商品名:富士写真フィルム(株)製)の8倍希釈水溶
液で25℃において60秒間浸漬現像したところ、すべ
て鮮明なポジ画像が得られた。表1に示す。
下記処分のとおりに8種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕
−8を調製した。この感光液を陽極酸化されたアルミニ
ウム板上に塗布し、100℃で2分間乾燥して、それぞ
れの感光性平版印刷版を作製した。このときの塗布量は
全て乾燥重量で1.5g/m2になるように調整した。 感光液処方〔A〕 一般式(I)の化合物
0.2g クレゾー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂 1
.0g オイルブルー#603(オリエント工業(株
)製) 0.01g メチルエチルケトン
5g メチルセロソルブ
15g得られた
平版印刷版の感光層上に濃度差0.15のグレースケー
ルを密着させ、2KWの高圧水銀灯で50cmの距離か
ら2分間露光を行った。露光した平版印刷版をDP−4
(商品名:富士写真フィルム(株)製)の8倍希釈水溶
液で25℃において60秒間浸漬現像したところ、すべ
て鮮明なポジ画像が得られた。表1に示す。
【0041】
表 1──────────
─────────────────────────
─ 実施例 感光液 一般
式(I) の化合物 グレイスケールの段数──
─────────────────────────
───────── 1 〔A〕
−1 化合物(1)
5 2 〔A〕−
2 〃 (2)
4 3 〔A〕
−3 〃 (3)
5 4 〔A
〕−4 〃 (4)
6 5 〔
A〕−5 〃 (5)
7 6
〔A〕−6 〃 (6)
3 7
〔A〕−7 〃 (7)
3 8
〔A〕−8 〃 (8)
3──────────
─────────────────────────
〔実施例9〜13〕厚さ2mmのシリコンウェハー上に
下記感光液〔B〕をスピンナーで塗布し、ホットプレー
ト上で90℃において2分間乾燥させ、乾燥時の膜厚が
1μになるように調整した。 感光液処方〔B〕 一般式(I)の化合物
0.2g クレゾー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂 1
.0g ペリレン
0
.003g エチルセロソルブアセテート
7.5g
表 2 ────────
────────────────────
実施例 感光液
一般式(I)の化合物 ─────
───────────────────────
9 〔B〕−1
化合物(1)
10 〔B〕−2
〃 (4) 11
〔B〕−3
〃 (5) 12
〔B〕−4 〃 (
8) 13 〔B〕−5
〃 (12)
─────────────────────
───────次に得られたレジストを波長436nm
の単色光を用いた縮小投影露光装置(ステッパー)を用
いて露光し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの
2.4%水溶液で60秒間現像することにより、レジス
トパターンを形成させた。その結果、すべてのサンプル
において0.8μmのライン&スペースの良好なパター
ンが得られた。 〔実施例14〕実施例11のレジストにガラスマスクを
通して、密着露光方式で254nmの紫外線を照射し、
その後実施例11と同様に現像を行ったところ、すべて
のサンプルにおいて0.7μmのライン&スペースの良
好なパターンが得られた。
表 1──────────
─────────────────────────
─ 実施例 感光液 一般
式(I) の化合物 グレイスケールの段数──
─────────────────────────
───────── 1 〔A〕
−1 化合物(1)
5 2 〔A〕−
2 〃 (2)
4 3 〔A〕
−3 〃 (3)
5 4 〔A
〕−4 〃 (4)
6 5 〔
A〕−5 〃 (5)
7 6
〔A〕−6 〃 (6)
3 7
〔A〕−7 〃 (7)
3 8
〔A〕−8 〃 (8)
3──────────
─────────────────────────
〔実施例9〜13〕厚さ2mmのシリコンウェハー上に
下記感光液〔B〕をスピンナーで塗布し、ホットプレー
ト上で90℃において2分間乾燥させ、乾燥時の膜厚が
1μになるように調整した。 感光液処方〔B〕 一般式(I)の化合物
0.2g クレゾー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂 1
.0g ペリレン
0
.003g エチルセロソルブアセテート
7.5g
表 2 ────────
────────────────────
実施例 感光液
一般式(I)の化合物 ─────
───────────────────────
9 〔B〕−1
化合物(1)
10 〔B〕−2
〃 (4) 11
〔B〕−3
〃 (5) 12
〔B〕−4 〃 (
8) 13 〔B〕−5
〃 (12)
─────────────────────
───────次に得られたレジストを波長436nm
の単色光を用いた縮小投影露光装置(ステッパー)を用
いて露光し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの
2.4%水溶液で60秒間現像することにより、レジス
トパターンを形成させた。その結果、すべてのサンプル
において0.8μmのライン&スペースの良好なパター
ンが得られた。 〔実施例14〕実施例11のレジストにガラスマスクを
通して、密着露光方式で254nmの紫外線を照射し、
その後実施例11と同様に現像を行ったところ、すべて
のサンプルにおいて0.7μmのライン&スペースの良
好なパターンが得られた。
【0042】以上の結果により、一般式(I)の化合物
とアルカリ可溶のバインダーを組合せたポジ型感光性組
成物を用いることにより、鮮明なポジ画像が得られるこ
とが明らかになった。
とアルカリ可溶のバインダーを組合せたポジ型感光性組
成物を用いることにより、鮮明なポジ画像が得られるこ
とが明らかになった。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で示される化合物と
アルカリ可溶性ポリマーを含有することを特徴とするポ
ジ型感光性組成物。 【化1】 式中、R1 はアルキル基、置換アルキル基、アリール
基又は置換アリール基を示し、R2 はアルキル基、置
換アルキル基、アリール基、置換アリール基、スチリル
基、置換スチリル基、ビニル基又は置換ビニル基を示し
、R3 、R4 、R5 およびR6 は各々独立に水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示す。 又、R3 とR4 、R4 とR5 、R5 とR6
は互いに結合して、それらが結合している炭素原子とと
もにベンゼン環又は複素環を形成してもよい。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3140109A JPH04365048A (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3140109A JPH04365048A (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04365048A true JPH04365048A (ja) | 1992-12-17 |
Family
ID=15261140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3140109A Pending JPH04365048A (ja) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04365048A (ja) |
Cited By (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0747768A2 (en) | 1995-06-05 | 1996-12-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Chemically amplified positive resist composition |
| EP1615073A1 (en) | 2004-07-06 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and image recording method using the same |
| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1662318A1 (en) | 1999-03-09 | 2006-05-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 1,3-dihydro-1-oxo-2H-indene derivative |
| EP1701213A2 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
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