JPH04366503A - 炭素クラスター電導体 - Google Patents

炭素クラスター電導体

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Publication number
JPH04366503A
JPH04366503A JP3140363A JP14036391A JPH04366503A JP H04366503 A JPH04366503 A JP H04366503A JP 3140363 A JP3140363 A JP 3140363A JP 14036391 A JP14036391 A JP 14036391A JP H04366503 A JPH04366503 A JP H04366503A
Authority
JP
Japan
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carbon cluster
carbon
doping
donor
stable
Prior art date
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Pending
Application number
JP3140363A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinobu Ueha
上羽 良信
Gunji Saito
斎藤 軍治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP3140363A priority Critical patent/JPH04366503A/ja
Publication of JPH04366503A publication Critical patent/JPH04366503A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な炭素クラスター
電導体に関するものである。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】近時、複
数個の炭素原子が球状に繋がった、いわゆるフラーレン
(fullerenes)構造を有する、C60、C7
0等の炭素クラスターからなる薄膜に、アルカリ金属を
ドープした有機電導体が提案された(Haddon R
.C. et al. Nature Vol.350
 ,320−322 ,28 March 1991 
およびHebard A.F. et al. Nat
ure Vol.350 ,600−601 ,18 
April 1991 参照)。前者の論文では、例え
ばカリウム(K)またはルビジウム(Rb)をドープし
たC60の薄膜において、それぞれ、500S/cm、
100S/cmの電導度が得られることが報告されてお
り、後者の論文では、上記カリウムをドープしたC60
の薄膜が、マイクロ波吸収と磁化測定の結果から臨界温
度Tc=18K、抵抗測定の結果から臨界温度Tc=1
6Kの超電導性を示すことが報告されている。また、ル
ビジウムをドープしたC60の薄膜は、未確認ながら、
臨界温度Tc=30Kの超電導性を示すとされている。
【0003】しかし、上記アルカリ金属をドープした有
機電導体は不安定で、短期間に電導度が低下してしまう
という問題があった。これは、アルカリ金属自体が周知
のように反応性が高く不安定である上、このアルカリ金
属のドープにより生成される化合物も不安定であり、例
えば空気中の酸素や水と反応し易いことが原因と考えら
れる。
【0004】本発明は、以上の事情に鑑みてなされたも
のであって、炭素クラスターからなり、しかも、安定で
、電導度が短期間に劣化するおそれのない炭素クラスタ
ー電導体を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するための、本発明の炭素クラスター電導体は、π電
子共役系を有する炭素クラスターに、アルカリ土類金属
元素の陽イオン、遷移金属元素の陽イオン、[NH4 
]+ および[PH4 ]+ からなる群より選ばれた
少なくとも1種のドナー、または、トリハライド、Au
I2 − 、AuBr2 − 、NO3 − 、BF4
 − 、ClO4 − 、ReO4 − 、PF6 −
 、AsF6 − 、Cl・H2O、Cu(NCS)2
 − およびCu[N(CN)2 ]Br− からなる
群より選ばれた少なくとも1種のアクセプターをドーピ
ングしてなることを特徴とする。
【0006】炭素クラスターとしては、前記C60、C
70の他、C2n(但し10≦n≦100)で表される
、π電子共役系を有する種々の炭素クラスターを使用す
ることができる。上記炭素クラスターは、原料としての
グラファイトやカーボンから、アーク放電、抵抗加熱、
レーザービーム加熱、マグネトロンスパッタリング等に
よって得たスートを、溶媒抽出、カラムクロマトグラフ
精製等により、99.9%以上の高純度に精製すること
で製造される。
【0007】上記炭素クラスターは、粉末、微粒子、粉
末圧縮シート、ペレット、板、薄膜、線、テープ等の種
々の形態に加工して使用することができる。炭素クラス
ターにドープされるドナーとしては、アルカリ金属より
安定な、ベリリウム(Be)、マグネシウム(Mg)、
カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウ
ム(Ba)等のアルカリ土類金属元素の陽イオン、チタ
ン(Ti)、クロム(Cr)、マンガン(Mn)、鉄(
Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(C
u)等の遷移金属元素の陽イオン、[NH4 ]+ 、
[PH4 ]+ からなる群より選ばれた少なくとも1
種があげられる。
【0008】一方、アクセプターとしては、アルカリ金
属より安定な、I3− 、Br3 − 、IBr2 −
 等のトリハライド、AuI2 − 、AuBr2 −
 、NO3 − 、BF4 − 、ClO4 − 、R
eO4 − 、PF6 − 、AsF6 − 、Cl・
H2 O、Cu(NCS)2 − 、Cu[N(CN)
2 ]Br− からなる群より選ばれた少なくとも1種
があげられる。上記ドナーまたはアクセプターの、炭素
クラスターへのドーピング方法としては、炭素クラスタ
ーの形状その他の条件に応じて、電解法、気相法等の、
従来公知の種々のドーピング方法を採用することかでき
る。電解法としては、定電圧または定電流の電気化学的
酸化還元法があげられ、特に、定電圧印加による電気化
学的酸化還元法が好ましい。また、気相法としては、真
空拡散法、イオン注入法等があげられる。
【0009】上記構成からなる、本発明の炭素クラスタ
ー電導体においては、アルカリ金属よりも安定な、前記
例示のドナーまたはアクセプターをドーパントとして使
用しているので、電導度が短期間に低下するおそれがな
く、安定である。また、本発明の炭素クラスター電導体
は、C2nで表される炭素クラスターの構造、特に、C
60のサッカーボール状の構造から判るように、3次元
的な性質を期待でき、従来の有機電導体、超電導体が1
次元または2次元的な性質を有し、応用が次元性によっ
て制約されていたのに対し、このような制約を解消して
、種々の応用を可能にできる。
【0010】また、ドーパントの選択、ドープ濃度の設
定等の条件によっては、アルカリ金属をドーパントとし
て用いた場合と同様に、20〜30Kという高い臨界温
度を有し、しかも安定な超電導体を製造することも可能
である。さらに、ドーパントとしてFe、Cr等の遷移
金属を使用した場合には、磁性材料としての利用も可能
である。
【0011】しかも、炭素クラスターは、前述したよう
に、粉末、微粒子、粉末圧縮シート、ペレット、板、薄
膜、線、テープ等の多様な形態に加工して使用すること
ができるので、本発明の炭素クラスター電導体は、軽量
の電導体、超電導体として、電磁シールド、磁気シール
ド、ベアリング、各種線材、センサ等の種々の分野での
工業的利用価値の高いものである。
【0012】
【実施例】以下に、本発明を、実施例にもとづいて説明
する。 実施例1 グラファイトロッドのアーク放電による、既知のスート
製造方法によってスートを製造し、得られたスートをベ
ンゼンによって処理してベンゼンに不溶の成分を除去し
たのち、上記スートの、ベンゼンに可溶の成分を溶解し
た溶液を濃縮して、C2n(但し10≦n≦100)で
表される炭素クラスターの粗生成物を回収した。
【0013】つぎに、この粗生成物を、C18シリカ担
体と、トルエン/イソプロパノール(2:3)混合溶媒
とを用いた逆相クロマトグラフによって複数の成分に分
離精製した。精製された炭素クラスターをMS分析によ
って分析したところ、C60、C70、C76、C78
、C84等の各炭素クラスターが確認された。つぎに、
上記分離精製によって得られた各炭素クラスターのうち
のC60を、真空度1×10−5〜1×10−8Tor
r、蒸発源温度200〜450℃の条件で、真空蒸着法
によって導電性NESAガラス基板の表面に蒸着して、
厚み100〜10000ÅのC60膜を形成した。
【0014】つぎに、ドナーの原料であるNH4 Iを
エタノールで溶解した電解液(NH4 I濃度0.1M
)中に、上記C60膜が形成された基板と、直径1mm
の白金線と、銀−塩化銀(Ag/Ag+ )電極とを浸
漬し、基板を負極、白金線を正極、銀−塩化銀電極を参
照電極として、定電圧法(印加電圧0.3V、液温20
℃)により3日間の電解還元反応を行い、ドナーとして
の[NH4 ]+ をC60膜にドーピングした。
【0015】得られた[NH4 ]+ ドープC60膜
の抵抗は10−2Ωcmを示し、高い導電性を有するこ
とが判った。また、上記[NH4 ]+ ドープC60
膜は、極性溶媒であるエタノール中で製造されることか
ら、空気中の酸素や水等と反応し難く、極めて安定な膜
であることが予測された。
【0016】実施例2 上記実施例1と同様にして、導電性NESAガラス基板
の表面に厚み100〜10000ÅのC60を蒸着した
後、得られたC60膜の表面の所定位置に金を蒸着して
電極を形成した。つぎに、この電極に、抵抗測定用のリ
ード線を金ペーストによって接続した後、アクセプター
の原料であるヨウ素結晶上に、上記基板をセットした。
【0017】そして、C60膜の抵抗を測定しながらヨ
ウ素のドーピングを行ったところ、抵抗値が時間ととも
に低下し、このことから、ヨウ素がC60膜にドーピン
グされて、導電性膜が得られたことが判った。また、ド
ープ終了後のヨウ素ドープC60膜を空気中に24時間
放置した後、同様にC60膜の抵抗を測定したところ、
ドープ終了時の抵抗値と殆ど変わらない値を示し、この
ことから、上記ヨウ素ドープC60膜は、空気中の酸素
や水等と反応し難く、極めて安定な膜であることが判っ
た。
【0018】
【発明の効果】本発明の炭素クラスター電導体は、以上
のように構成されており、アルカリ金属よりも安定なド
ナーまたはアクセプターをドーパントとして使用してい
るので、電導度が短期間に低下するおそれがなく、安定
性に優れている。しかも、上記炭素クラスター電導体は
、炭素クラスターの構造上、3次元的な性質を期待でき
、従来の有機電導体、超電導体のような次元性の制約を
解消できる。さらに、上記炭素クラスター電導体は、ド
ーパントの種類等の条件によっては、アルカリ金属をド
ーパントとして用いた場合と同様に、20〜30Kとい
う高い臨界温度を有し、しかも安定な超電導体を製造す
ることも可能である。したがって、本発明の炭素クラス
ター電導体は、種々の分野での工業的利用価値の高いも
のである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】π電子共役系を有する炭素クラスターに、
    アルカリ土類金属元素の陽イオン、遷移金属元素の陽イ
    オン、[NH4 ]+ および[PH4 ]+ からな
    る群より選ばれた少なくとも1種のドナー、または、ト
    リハライド、AuI2 − 、AuBr2 − 、NO
    3 − 、BF4 − 、ClO4 − 、ReO4 
    − 、PF6 − 、AsF6 − 、Cl・H2 O
    、Cu(NCS)2 − およびCu[N(CN)2 
    ]Br− からなる群より選ばれた少なくとも1種のア
    クセプターをドーピングしてなることを特徴とする炭素
    クラスター電導体。
JP3140363A 1991-06-12 1991-06-12 炭素クラスター電導体 Pending JPH04366503A (ja)

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JP3140363A JPH04366503A (ja) 1991-06-12 1991-06-12 炭素クラスター電導体

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5637260A (en) * 1992-05-20 1997-06-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Process for producing stabilized carbon cluster conducting material
DE19822333A1 (de) * 1998-05-19 1999-12-02 Lutz Kipp Verfahren zur p-Dotierung von Fulleriten insbesondere zur Herstellung wenigstens eines Teils eines elektronischen Bauelements und ein p-dotiertes Fullerit
JP2010132476A (ja) * 2008-12-02 2010-06-17 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 導電性カーボンナノチューブ成型品の製造方法

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