JPH04366965A - 電子写真感光体の塗布方法 - Google Patents
電子写真感光体の塗布方法Info
- Publication number
- JPH04366965A JPH04366965A JP14357891A JP14357891A JPH04366965A JP H04366965 A JPH04366965 A JP H04366965A JP 14357891 A JP14357891 A JP 14357891A JP 14357891 A JP14357891 A JP 14357891A JP H04366965 A JPH04366965 A JP H04366965A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- liquid
- cylindrical substrate
- cylindrical
- base body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体を円筒状
基体の表面に浸漬塗布方法で均一に且つ平滑に形成する
電子写真感光体の塗布方法に関する。
基体の表面に浸漬塗布方法で均一に且つ平滑に形成する
電子写真感光体の塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真感光体等の記録体はアルミニウ
ム等の導電性基体表面に縮合多環顔料又はアゾ顔料を用
いた電荷発生層とヒドラゾン系又はアリールアミン系材
料を用いた電荷輸送層とを塗布積層することにより形成
される。従来、円筒状基体に電荷発生材料及び電荷輸送
材料の光導電性化合物を含む塗布液を塗布するには、第
2図に示したように、円筒状基体5を塗工槽7の塗布液
6に浸漬した後、引き上げることから成る円筒状基体の
表面に塗布液を塗布する方法が行なわれている。上述し
たような浸漬塗布方法においては、円筒状基体の内部が
塗布液で塗布されないように種々の工夫がなされている
。
ム等の導電性基体表面に縮合多環顔料又はアゾ顔料を用
いた電荷発生層とヒドラゾン系又はアリールアミン系材
料を用いた電荷輸送層とを塗布積層することにより形成
される。従来、円筒状基体に電荷発生材料及び電荷輸送
材料の光導電性化合物を含む塗布液を塗布するには、第
2図に示したように、円筒状基体5を塗工槽7の塗布液
6に浸漬した後、引き上げることから成る円筒状基体の
表面に塗布液を塗布する方法が行なわれている。上述し
たような浸漬塗布方法においては、円筒状基体の内部が
塗布液で塗布されないように種々の工夫がなされている
。
【0003】例えば、円筒状基体内部に塗布液が侵入し
てこないように且つ気泡が塗布液中に噴出しないように
、円筒状基体内部に導入された加圧空気の圧力を調整す
る方法(特開昭59−80363、特開昭60−499
65、特開昭63−253365)及び円筒状基体の両
端の少なくとも下端を円錐型の治具で密封して浸漬塗布
する方法(特開昭63−58351)が提案されている
。
てこないように且つ気泡が塗布液中に噴出しないように
、円筒状基体内部に導入された加圧空気の圧力を調整す
る方法(特開昭59−80363、特開昭60−499
65、特開昭63−253365)及び円筒状基体の両
端の少なくとも下端を円錐型の治具で密封して浸漬塗布
する方法(特開昭63−58351)が提案されている
。
【0004】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、従来
の浸漬塗布方法では、浸漬中に円筒状基体の内部の空気
が膨張して気泡が発生し、この気泡が円筒状基体の側面
に沿って上がるときに気泡が円筒状基体の表面に付着し
て塗布欠陥を生ずる欠点;塗布液が円筒状基体の内部に
侵入しないように且つ浸漬中に気泡が塗布液中へ噴出し
ないように圧力バランスを取ることが困難である欠点;
或いは、円筒状基体を塗布液に浸漬した際、生ずる浮力
によって円筒状基体が傾斜したり横ブレを生じたりして
塗布膜即ち感光体層が不均一となる欠点がある。
の浸漬塗布方法では、浸漬中に円筒状基体の内部の空気
が膨張して気泡が発生し、この気泡が円筒状基体の側面
に沿って上がるときに気泡が円筒状基体の表面に付着し
て塗布欠陥を生ずる欠点;塗布液が円筒状基体の内部に
侵入しないように且つ浸漬中に気泡が塗布液中へ噴出し
ないように圧力バランスを取ることが困難である欠点;
或いは、円筒状基体を塗布液に浸漬した際、生ずる浮力
によって円筒状基体が傾斜したり横ブレを生じたりして
塗布膜即ち感光体層が不均一となる欠点がある。
【0005】特に、気泡が塗布液中へ噴出しないように
するために円筒状基体の内部に若干塗布液が入り込むよ
うに浸漬塗布処理して得られた電子写真感光体は、回転
用治具によって回転自在に支持され複写機、レーザプリ
ンタ等に装着された場合、回転用治具との接着部に付着
している塗布液によって偏心の問題が生じたり、回転用
治具と円筒状基体との接着強度が弱いので回転中に脱落
等の問題、又はアース不良の問題が生じる。
するために円筒状基体の内部に若干塗布液が入り込むよ
うに浸漬塗布処理して得られた電子写真感光体は、回転
用治具によって回転自在に支持され複写機、レーザプリ
ンタ等に装着された場合、回転用治具との接着部に付着
している塗布液によって偏心の問題が生じたり、回転用
治具と円筒状基体との接着強度が弱いので回転中に脱落
等の問題、又はアース不良の問題が生じる。
【0006】上述の円筒状基体の端部内壁面に付着した
塗布液に由来する欠点を解消する為に、塗工処理後、円
筒状基体の端部内壁面を溶剤に浸漬させたり、溶剤をつ
けたスポンジ等で拭き取る方法がおこなわれているが、
これらの方法は、浸漬又は拭き取りの為の設備が必要と
なり、工程数が増ることによる製造コストが高くなる問
題や、発生する溶剤蒸気が感光体表面に悪影響を及ぼし
たり、拭き取りの際に発生する溶剤飛沫が感光体表面に
付着して画像形成時の画像欠陥の原因となる欠点がある
。
塗布液に由来する欠点を解消する為に、塗工処理後、円
筒状基体の端部内壁面を溶剤に浸漬させたり、溶剤をつ
けたスポンジ等で拭き取る方法がおこなわれているが、
これらの方法は、浸漬又は拭き取りの為の設備が必要と
なり、工程数が増ることによる製造コストが高くなる問
題や、発生する溶剤蒸気が感光体表面に悪影響を及ぼし
たり、拭き取りの際に発生する溶剤飛沫が感光体表面に
付着して画像形成時の画像欠陥の原因となる欠点がある
。
【0007】更に、従来の塗工槽は、円筒状基体の塗布
処理中及び塗布処理後、塗工槽開口部から塗布液中の溶
剤が蒸発するので、塗布液の状態(粘度、濃度等)が時
間の経過とともに変化し、均一な膜厚の感光体を形成す
ることが困難となる。均一な膜厚の感光体を形成する為
には、粘度を測定して溶剤を追加したり、塗布速度を制
御することが必要である。
処理中及び塗布処理後、塗工槽開口部から塗布液中の溶
剤が蒸発するので、塗布液の状態(粘度、濃度等)が時
間の経過とともに変化し、均一な膜厚の感光体を形成す
ることが困難となる。均一な膜厚の感光体を形成する為
には、粘度を測定して溶剤を追加したり、塗布速度を制
御することが必要である。
【0008】上述の欠点を解消する為に、本願発明者等
は先に、円筒状基体の下端を、シャフトに沿って上下移
動し且つ塗布処理後に塗工槽の上部ホルダーに密着し得
る円筒状基体下部密閉治具で密閉すると、円筒状基体の
内壁に塗布液をまったく付着させることなく、且つ浸漬
塗布処理中に円筒状基体が傾斜したり横ブレしたりする
ことなく塗布処理し得ることを見出した。
は先に、円筒状基体の下端を、シャフトに沿って上下移
動し且つ塗布処理後に塗工槽の上部ホルダーに密着し得
る円筒状基体下部密閉治具で密閉すると、円筒状基体の
内壁に塗布液をまったく付着させることなく、且つ浸漬
塗布処理中に円筒状基体が傾斜したり横ブレしたりする
ことなく塗布処理し得ることを見出した。
【0009】先に提案されたこの方法を用いて長期間電
子写真感光体を製造すると、(1) 該密閉治具に付着
した生乾燥塗布液が、円筒状基体を浸漬塗布する毎に塗
工槽の塗布液に浸漬される為、該密閉治具に付着した生
乾燥の塗布液の再溶解により塗工槽の塗布液の粘度が上
昇したり、小塊状で塗工槽の塗布液中に混入したりして
塗布液の状態が劣化したり、(2) 浸漬塗布する回数
に従って該密閉治具に付着している塗布液が徐々に成長
していく(厚くなる)ため、該密閉治具と円筒状基体と
の嵌合がぴったりとならず円筒状基体内部に塗布液が侵
入したり、(3) 塗布後、円筒状基体から該密閉治具
が離れる際に、該密閉治具に重塗布され生乾燥した塗布
液に糸ひき現象が生じ、円筒状基体に付いて該密閉治具
上の生乾燥した塗布液が糸を引くようになって上昇して
、感光体表面を傷付けたりする欠点を有する。
子写真感光体を製造すると、(1) 該密閉治具に付着
した生乾燥塗布液が、円筒状基体を浸漬塗布する毎に塗
工槽の塗布液に浸漬される為、該密閉治具に付着した生
乾燥の塗布液の再溶解により塗工槽の塗布液の粘度が上
昇したり、小塊状で塗工槽の塗布液中に混入したりして
塗布液の状態が劣化したり、(2) 浸漬塗布する回数
に従って該密閉治具に付着している塗布液が徐々に成長
していく(厚くなる)ため、該密閉治具と円筒状基体と
の嵌合がぴったりとならず円筒状基体内部に塗布液が侵
入したり、(3) 塗布後、円筒状基体から該密閉治具
が離れる際に、該密閉治具に重塗布され生乾燥した塗布
液に糸ひき現象が生じ、円筒状基体に付いて該密閉治具
上の生乾燥した塗布液が糸を引くようになって上昇して
、感光体表面を傷付けたりする欠点を有する。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような長期間の浸漬
塗布処理における欠点を解決すべく、本発明者等の鋭意
研究の結果、円筒状基体の下端をシャフトに沿って上下
移動し、且つ塗布処理後に塗工槽の上部ホルダ−に密着
する円筒状基体下部密閉治具として、表面が撥液性の密
閉治具を使用すると、1000回以上の浸漬塗布処理を
おこなっても塗布液を劣化させることなく、優れた品質
の電子写真感光体を形成し得ることを見出し、この知見
に基づいて、本発明を成すに至った。
塗布処理における欠点を解決すべく、本発明者等の鋭意
研究の結果、円筒状基体の下端をシャフトに沿って上下
移動し、且つ塗布処理後に塗工槽の上部ホルダ−に密着
する円筒状基体下部密閉治具として、表面が撥液性の密
閉治具を使用すると、1000回以上の浸漬塗布処理を
おこなっても塗布液を劣化させることなく、優れた品質
の電子写真感光体を形成し得ることを見出し、この知見
に基づいて、本発明を成すに至った。
【0011】
【作用】本発明の構成は、光導電性化合物を含む塗布液
中に円筒状基体の両端が上下方向になるよう円筒状基体
を浸漬することから成る電子写真感光体の塗布方法にお
いて、円筒状基体の下端を、シャフトに沿って上下移動
し且つ塗布後に塗工槽の密閉上部ホルダーに密着する表
面が撥液性の円筒状基体下部密閉治具で密閉して浸漬塗
布処理することから成る電子写真感光体の塗布方法であ
る。
中に円筒状基体の両端が上下方向になるよう円筒状基体
を浸漬することから成る電子写真感光体の塗布方法にお
いて、円筒状基体の下端を、シャフトに沿って上下移動
し且つ塗布後に塗工槽の密閉上部ホルダーに密着する表
面が撥液性の円筒状基体下部密閉治具で密閉して浸漬塗
布処理することから成る電子写真感光体の塗布方法であ
る。
【0012】図1は、本発明の電子写真感光体の塗布方
法の概略を示す図である。図1(A)において、スプリ
ング4の力により密閉上部ホルダーの密閉フランジホル
ダー2と密着していた表面が撥液性の円筒状基体下部密
閉治具の密閉フランジ1が円筒状基体昇降装置の駆動に
より下降してきた円筒状基体5の下部と密着し、塗工槽
7の塗布液6の中に浸漬される。図1(B)において、
表面が撥液性である密閉フランジ1で密閉された円筒状
基体5は、密閉フランジ移動シャフト3に沿ってスムー
ズに垂直下方に塗布液中に最深漬される。この時、表面
が撥液性の密閉フランジ1はスプリング4の力により円
筒状基体5に密着しているので、塗布液6が円筒状基体
5の内部に入り込むことはない。図1(C)において、
円筒状基体5は塗布液から引き上げられて、その表面に
感光体層9が形成された円筒状基体を得る。円筒状基体
5を引き上げると、撥液性の密閉フランジ1はスプリン
グ4の力により円筒状基体5と共に上昇するが、密閉上
部ホルダー2と接して止り、円筒状基体5との密閉が解
除される。更に、次の浸漬塗布処理をおこなうまでの間
、表面が撥液性の密閉フランジ1は密閉上部ホルダー2
に密着しているので、塗工槽7中の塗布液6の溶剤の蒸
発を抑えることが出来る。
法の概略を示す図である。図1(A)において、スプリ
ング4の力により密閉上部ホルダーの密閉フランジホル
ダー2と密着していた表面が撥液性の円筒状基体下部密
閉治具の密閉フランジ1が円筒状基体昇降装置の駆動に
より下降してきた円筒状基体5の下部と密着し、塗工槽
7の塗布液6の中に浸漬される。図1(B)において、
表面が撥液性である密閉フランジ1で密閉された円筒状
基体5は、密閉フランジ移動シャフト3に沿ってスムー
ズに垂直下方に塗布液中に最深漬される。この時、表面
が撥液性の密閉フランジ1はスプリング4の力により円
筒状基体5に密着しているので、塗布液6が円筒状基体
5の内部に入り込むことはない。図1(C)において、
円筒状基体5は塗布液から引き上げられて、その表面に
感光体層9が形成された円筒状基体を得る。円筒状基体
5を引き上げると、撥液性の密閉フランジ1はスプリン
グ4の力により円筒状基体5と共に上昇するが、密閉上
部ホルダー2と接して止り、円筒状基体5との密閉が解
除される。更に、次の浸漬塗布処理をおこなうまでの間
、表面が撥液性の密閉フランジ1は密閉上部ホルダー2
に密着しているので、塗工槽7中の塗布液6の溶剤の蒸
発を抑えることが出来る。
【0013】図2は従来の塗布方法の概略を示す図であ
る。図2(A)において、円筒状基体5が塗布液中に浸
漬されるにしたがい、塗布液6の液柱圧が増加すること
による円筒状基体5内部への塗布液の侵入を防ぐために
円筒状基体5の内部に加圧空気が導入されている。この
時、導入された空気が円筒状基体5の開口底部より気泡
となって塗布液6の中に噴出するのを防ぐために若干円
筒状基体5の内部に塗布液が入り込むようになっている
。図2(C)において、塗布液6中に浸漬された円筒状
基体5が引き上げられて、その表面及び下端部内壁面に
感光体層9が形成された円筒状基体を得る。また、円筒
状の塗工槽7を用いた場合、図2(A)及び(B)の浸
漬塗布処理中は、塗工槽7の内面積から円筒状基体の外
面積を差引いた面積[(X/2)2 π−(y/2)2
π]で示される塗布液表面から溶剤が蒸発し、図2(
C)の塗布処理後は塗工槽7の内面積[(x/2)2
π]で示される塗布液6の表面から溶剤が蒸発する。
る。図2(A)において、円筒状基体5が塗布液中に浸
漬されるにしたがい、塗布液6の液柱圧が増加すること
による円筒状基体5内部への塗布液の侵入を防ぐために
円筒状基体5の内部に加圧空気が導入されている。この
時、導入された空気が円筒状基体5の開口底部より気泡
となって塗布液6の中に噴出するのを防ぐために若干円
筒状基体5の内部に塗布液が入り込むようになっている
。図2(C)において、塗布液6中に浸漬された円筒状
基体5が引き上げられて、その表面及び下端部内壁面に
感光体層9が形成された円筒状基体を得る。また、円筒
状の塗工槽7を用いた場合、図2(A)及び(B)の浸
漬塗布処理中は、塗工槽7の内面積から円筒状基体の外
面積を差引いた面積[(X/2)2 π−(y/2)2
π]で示される塗布液表面から溶剤が蒸発し、図2(
C)の塗布処理後は塗工槽7の内面積[(x/2)2
π]で示される塗布液6の表面から溶剤が蒸発する。
【0014】図3は図1の本発明の方法による塗布後の
円筒状基体5の下部断面と図2の従来の方法による塗布
後の円筒状基体5の下部断面を示した図である。図3(
A)では、本発明の方法によって、浸漬塗布処理中、表
面が撥液性の密閉フランジが円筒状基体5の下部に密着
しているので、円筒状基体5のインロー部8(完成時に
回転用治具を装着するために設けた円筒状基体5の端部
内壁面加工部)には感光体層が形成されていない。一方
、図3(B)図では、従来の方法により塗布液6が円筒
状基体5内部の内圧制御により若干内部に入り込んでい
るので、インロー部8及び円筒状基体5の下部内壁まで
感光体層9が形成されている。
円筒状基体5の下部断面と図2の従来の方法による塗布
後の円筒状基体5の下部断面を示した図である。図3(
A)では、本発明の方法によって、浸漬塗布処理中、表
面が撥液性の密閉フランジが円筒状基体5の下部に密着
しているので、円筒状基体5のインロー部8(完成時に
回転用治具を装着するために設けた円筒状基体5の端部
内壁面加工部)には感光体層が形成されていない。一方
、図3(B)図では、従来の方法により塗布液6が円筒
状基体5内部の内圧制御により若干内部に入り込んでい
るので、インロー部8及び円筒状基体5の下部内壁まで
感光体層9が形成されている。
【0015】本発明で使用する表面が撥液性の円筒状基
体下部密閉治具とは、該密閉治具表面の表面張力が塗布
液の表面張力よりも小さいもの、好ましくは、表面が撥
液性の密閉治具の表面張力が塗布液の表面張力の75%
以下のものが望ましい。
体下部密閉治具とは、該密閉治具表面の表面張力が塗布
液の表面張力よりも小さいもの、好ましくは、表面が撥
液性の密閉治具の表面張力が塗布液の表面張力の75%
以下のものが望ましい。
【0016】このような本発明で使用する表面が撥液性
の円筒状基体下部密閉治具としては、ステンレス製密閉
治具の表面をテフロンコ−ティング加工したものが挙げ
られる。
の円筒状基体下部密閉治具としては、ステンレス製密閉
治具の表面をテフロンコ−ティング加工したものが挙げ
られる。
【0017】上述したように、本発明においては、円筒
状基体5を塗工槽7の塗布液6に浸漬し且つ引き上げる
間円筒状基体5の下部と密着し、円筒状基体5の引上げ
後即ち、浸漬塗布処理終了後は塗工槽上部ホルダー2と
密着する表面が撥液性の円筒状基体下部密閉治具1;円
筒状基体5が傾斜したり横ブレしたりしないように表面
が撥液性の円筒状基体下部密閉治具を垂直に上下移動さ
せるシャフト3;浸漬塗布処理中、円筒状基体5に表面
が撥液性の円筒状基体下部密閉治具1を密着させ且つ浸
漬塗布処理後、塗工槽上部ホルダー2に表面が撥液性の
円筒状基体下部密閉治具1を密着させるスプリング;及
び円筒状基体5を上下移動させるための駆動装置を具備
する電子写真感光体の塗布装置を用いて、円筒状基体5
を浸漬塗布処理することによって、円筒状基体5内壁に
塗布液がまったく付着することなく、均一な膜厚の且つ
優れた画像形成能を有する電子写真感光体を長期間、例
えば1000回の連続製造することが出来るとともに、
塗布処理中及び後の溶剤の蒸発を大幅に抑えることが出
来、且つ長期間の連続浸漬塗布処理においても円筒状基
体下部密閉治具1に塗布液が付着することがないので、
塗布液の劣化を抑えることが出来る。
状基体5を塗工槽7の塗布液6に浸漬し且つ引き上げる
間円筒状基体5の下部と密着し、円筒状基体5の引上げ
後即ち、浸漬塗布処理終了後は塗工槽上部ホルダー2と
密着する表面が撥液性の円筒状基体下部密閉治具1;円
筒状基体5が傾斜したり横ブレしたりしないように表面
が撥液性の円筒状基体下部密閉治具を垂直に上下移動さ
せるシャフト3;浸漬塗布処理中、円筒状基体5に表面
が撥液性の円筒状基体下部密閉治具1を密着させ且つ浸
漬塗布処理後、塗工槽上部ホルダー2に表面が撥液性の
円筒状基体下部密閉治具1を密着させるスプリング;及
び円筒状基体5を上下移動させるための駆動装置を具備
する電子写真感光体の塗布装置を用いて、円筒状基体5
を浸漬塗布処理することによって、円筒状基体5内壁に
塗布液がまったく付着することなく、均一な膜厚の且つ
優れた画像形成能を有する電子写真感光体を長期間、例
えば1000回の連続製造することが出来るとともに、
塗布処理中及び後の溶剤の蒸発を大幅に抑えることが出
来、且つ長期間の連続浸漬塗布処理においても円筒状基
体下部密閉治具1に塗布液が付着することがないので、
塗布液の劣化を抑えることが出来る。
【0018】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない
。
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない
。
【0019】実施例
テフロンコ−ティング加工処理されたステンレス製密閉
フランジ1を使用して図1に示された方法により、下記
A液を円筒状基体5の表面に乾燥後の膜厚0.5μmに
なるように浸漬塗布し、80℃の温度で1時間乾燥した
。更に、テフロンコーティング加工処理されたステンレ
ス製密閉フランジ1を使用して同様の方法により、下記
B液をA液が塗布された円筒状基体5の表面に乾燥後の
膜厚20μmになるように浸漬塗布し、70℃の温度で
1時間乾燥して1000本の電子写真感光体を連続製造
した。
フランジ1を使用して図1に示された方法により、下記
A液を円筒状基体5の表面に乾燥後の膜厚0.5μmに
なるように浸漬塗布し、80℃の温度で1時間乾燥した
。更に、テフロンコーティング加工処理されたステンレ
ス製密閉フランジ1を使用して同様の方法により、下記
B液をA液が塗布された円筒状基体5の表面に乾燥後の
膜厚20μmになるように浸漬塗布し、70℃の温度で
1時間乾燥して1000本の電子写真感光体を連続製造
した。
【0020】50本の円筒状基体の連続浸漬塗布処理後
のA液の粘度上昇は0mpa・s で、B液の粘度上昇
は1 mpa・s 並びに200本の円筒状基体の連続
浸漬塗布処理後のA液の粘度上昇は1 mpa・s で
、B液の粘度上昇は3 mpa・s であった。
のA液の粘度上昇は0mpa・s で、B液の粘度上昇
は1 mpa・s 並びに200本の円筒状基体の連続
浸漬塗布処理後のA液の粘度上昇は1 mpa・s で
、B液の粘度上昇は3 mpa・s であった。
【0021】更に、1000本目の円筒状基体表面のA
液の塗布層及びB液の塗布層には塗布ムラ、白点などの
塗布欠陥が見出されず、良好な塗布層が形成された。
液の塗布層及びB液の塗布層には塗布ムラ、白点などの
塗布欠陥が見出されず、良好な塗布層が形成された。
【0022】更に、得られた電子写真感光体を回転用治
具に装着し複写機[SF−8100、シャープ(株)製
]に搭載してコピーを取り画像評価を行なったところ、
ムラもなく均一な画像が得られた。また、20,000
枚のコピーテストを行なっても、回転用治具のズレ、脱
落、アース不良等の問題も発生せず良質の画像が得られ
た。
具に装着し複写機[SF−8100、シャープ(株)製
]に搭載してコピーを取り画像評価を行なったところ、
ムラもなく均一な画像が得られた。また、20,000
枚のコピーテストを行なっても、回転用治具のズレ、脱
落、アース不良等の問題も発生せず良質の画像が得られ
た。
【0023】A液
ジブロムアンスアンスロン2重量部、ブチラール樹脂[
エスレックBM−2、セキスイ化学(株)製]2重量部
、シクロヘキサノン230重量部をボールミルにて8時
間分散処理して得られた液。
エスレックBM−2、セキスイ化学(株)製]2重量部
、シクロヘキサノン230重量部をボールミルにて8時
間分散処理して得られた液。
【0024】B液
ヒドラゾン系電荷輸送材[ABPH、日本化薬(株)製
]1重量部、ポリカーボネート樹脂[パンライトL−1
250、帝人化成(株)製]1重量部をジクロロエタン
8重量部で溶解して得られた液。
]1重量部、ポリカーボネート樹脂[パンライトL−1
250、帝人化成(株)製]1重量部をジクロロエタン
8重量部で溶解して得られた液。
【0025】比較例
図2に示された方法により、実施例と同様にA液を円筒
状基体5の表面に乾燥後の膜厚が0.5μmになるよう
に塗布し80℃で1時間乾燥し、更にその上にB液を乾
燥後の膜厚が20μmになるように塗布し70℃で1時
間乾燥して電子写真感光体を得た。この電子写真感光体
を回転用治具に装着し、複写機[SF−8100、シャ
ープ(株)製]に搭載して、20,000枚のコピーテ
ストを行なったところ、14,000枚を過ぎたところ
で、画像にブレが発生した。機械を止めて調査したとこ
ろ、円筒状基体の端部内壁面(インロー部)に付着して
いた乾燥塗膜が脱離しており、回転用治具が空回りして
いた。
状基体5の表面に乾燥後の膜厚が0.5μmになるよう
に塗布し80℃で1時間乾燥し、更にその上にB液を乾
燥後の膜厚が20μmになるように塗布し70℃で1時
間乾燥して電子写真感光体を得た。この電子写真感光体
を回転用治具に装着し、複写機[SF−8100、シャ
ープ(株)製]に搭載して、20,000枚のコピーテ
ストを行なったところ、14,000枚を過ぎたところ
で、画像にブレが発生した。機械を止めて調査したとこ
ろ、円筒状基体の端部内壁面(インロー部)に付着して
いた乾燥塗膜が脱離しており、回転用治具が空回りして
いた。
【0026】円筒状基体50本を浸漬塗布処理した後の
A液の粘度上昇は2mpa ・s で、B液の粘度上昇
は11 mpa・s であった。
A液の粘度上昇は2mpa ・s で、B液の粘度上昇
は11 mpa・s であった。
【0027】
【発明の効果】以上のように、本発明の方法は、円筒状
基体が傾斜したり横ブレを生ずることがないので、均一
な膜厚の感光体を円筒状基体表面に形成することが出来
るとともに、円筒状基体内壁に塗布液が全く付着するこ
とがないので、拭き取り作業等が不要となり、且つ長時
間の連続コピーにおいてもムラのない均一な画像を得る
ことが出来る。更に、長期間の浸漬塗布処理においても
塗布液中の溶剤の蒸発且つ塗布液の劣化を抑えられるの
で、塗布液の安定化が計れるとともに、塗布液の粘度調
節や塗工速度の制御等が不要である。
基体が傾斜したり横ブレを生ずることがないので、均一
な膜厚の感光体を円筒状基体表面に形成することが出来
るとともに、円筒状基体内壁に塗布液が全く付着するこ
とがないので、拭き取り作業等が不要となり、且つ長時
間の連続コピーにおいてもムラのない均一な画像を得る
ことが出来る。更に、長期間の浸漬塗布処理においても
塗布液中の溶剤の蒸発且つ塗布液の劣化を抑えられるの
で、塗布液の安定化が計れるとともに、塗布液の粘度調
節や塗工速度の制御等が不要である。
【図1】本発明の浸漬塗布方法の概略図である。
【図2】従来の浸漬塗布方法の概略図である。
【図3】本発明及び従来の浸漬塗布方法で塗布された円
筒状基体下端部の断面図である。
筒状基体下端部の断面図である。
1 密封フランジ
2 密封フランジホルダー
3 密封フランジ移動シャフト
4 スプリング
5 円筒状基体
6 塗布液
7 塗工槽
Claims (1)
- 【請求項1】 光導電性物質を主成分とする感光液中
に円筒状基体の両端が上下になるように円筒状基体を浸
漬することから成る電子写真感光体の塗布方法において
、該円筒状基体の下端を、シャフトに沿って上下し且つ
塗布後に塗工槽の上部ホルダーに密着する表面が撥液性
の円筒状基体下部密閉治具で密閉して浸漬塗布すること
を特徴とする電子写真感光体の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14357891A JPH04366965A (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 電子写真感光体の塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14357891A JPH04366965A (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 電子写真感光体の塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04366965A true JPH04366965A (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=15342000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14357891A Pending JPH04366965A (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 電子写真感光体の塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04366965A (ja) |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP14357891A patent/JPH04366965A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61149962A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH04366965A (ja) | 電子写真感光体の塗布方法 | |
| US6214419B1 (en) | Immersion coating process | |
| JPH11276961A (ja) | 浸漬塗工装置 | |
| JPH04215663A (ja) | 電子写真感光体の塗布方法 | |
| US5616365A (en) | Coating method using an inclined surface | |
| JPH01118140A (ja) | 電子写真感光体の製造装置 | |
| JP2901596B1 (ja) | 電子写真感光体の塗膜端部処理方法および処理装置 | |
| US6576299B1 (en) | Coating method | |
| JPH02277577A (ja) | 塗布方法 | |
| JPH10198058A (ja) | 電子写真感光体用円筒状基体 | |
| JP3654320B2 (ja) | 円筒基体の浸漬塗布方法 | |
| JP2001321708A (ja) | 浸漬塗工装置及び電子写真用感光体の製造方法 | |
| JP3826251B2 (ja) | 電子写真用感光体の製造装置 | |
| JPS62241578A (ja) | 浸漬塗布方法 | |
| JPH04253061A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH04162042A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPS5987073A (ja) | 塗布方法 | |
| JPH04243572A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH03114569A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH06202352A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH03114570A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2002287385A (ja) | 電子写真感光体、その製造方法、製造装置及びその感光体を具備する画像形成装置 | |
| JPH10314637A (ja) | 浸漬塗布装置 | |
| JPH0315852A (ja) | 感光体の塗布方法 |