JPH03114570A - 成膜装置 - Google Patents

成膜装置

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Publication number
JPH03114570A
JPH03114570A JP25302389A JP25302389A JPH03114570A JP H03114570 A JPH03114570 A JP H03114570A JP 25302389 A JP25302389 A JP 25302389A JP 25302389 A JP25302389 A JP 25302389A JP H03114570 A JPH03114570 A JP H03114570A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding member
coating liquid
coating
liquid
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP25302389A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Matsumoto
雅則 松本
Masayuki Sakamoto
雅遊亀 坂元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP25302389A priority Critical patent/JPH03114570A/ja
Publication of JPH03114570A publication Critical patent/JPH03114570A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)産業上の利用分野 この発明は例えば静電複写機における有機感光体成膜装
置等のように、基体を塗布液中に浸漬することによって
基体表面に膜形成を行う成膜装置に関する。
(b)従来の技術 第1図は有機怒光体の成膜装置の構成を示した図であり
、以下、この装置の構成および成膜方法を簡単に説明す
る。
塗布液1が収納された塗工槽2の底面中央部には、基体
4の外径大の侵入孔3が形成されている。なおこの侵入
孔3には周面に弾性ゴムからなるブレードが設けられ、
後述する基体や保持部材が侵入孔3に位置しているとき
にそれらに密着して、内部の塗布液が漏れないようにな
っている。基体4は例えばアルミニウム等からなる円筒
形状のもので、この基体4を侵入孔3から塗工槽中に侵
入させ、さらに上方に引き上げる。すなわち塗工液1中
を通過させるわけであり、これによって基体4の表面に
は塗布液lが塗布される。
基体4の押し上げは押上機構によって行われる。押上機
構は、モータにより上下移動する押上治具6と、保持部
材5a、5b、係止部7を存している。基体4の上下端
には保持部材5a、5bが挿入され、その状態で押上治
具6に支持されて上方に押し上げられる。そして、下側
の保持部材5bが侵入孔3に位置したときに押上治具6
の移動が停止し、基体4は図示しない引き上げ機構によ
り保持部材5aごと上方に引き上げられる。このとき下
側の保持部材5bは係止部7により係止され、侵入孔3
を塞いで塗布液が漏れないようにしている。この状態で
押上治具6が引き下げられ、保持部材5bと押上治具6
との間に新たな基体および保持部材が挿入される。そし
て前回の処理時に下側だった保持部材5bが今度は上側
の保持部材として成膜処理が行われる。
(C)発明が解決しようとする課題 ところで上述の成膜装置では、−旦塗工層1中を通過し
て上方に引き上げられた保持部材5a5b・・・は何巡
めかの成膜時に再使用される。
ところが従来の装置ではこの保持部材5a、5b・・・
の表面に塗布液が付着して膜形成がされてしまっており
、そのままの状態で再使用すると塗工槽2中において基
体表面から膜が剥がれ落ち、それが基体表面に付着して
成膜欠陥を生じさせてしまう不都合がある。この成膜欠
陥を防止するためには保持部材を使用ごとに洗浄するこ
とが必要であり、装置、工程が増加してコストアンプに
なる不都合があった。また、保持部材への塗布は塗布液
の無駄使いでもある。
そこでこの発明は保持部材に塗工液が付着しないように
して、塗布液の無駄使いや装置、工程の増加によるコス
トアップを防止する成膜装置を提供することを目的とす
る。
(d1課題を解決するための手段 この発明は、塗布液が収容された塗工槽の底面に侵入孔
を形成し、基体の上下端を保持部材を用いて保持した状
態で前記侵入孔から塗工槽中に侵入させ、塗工槽底面か
ら上部までを通過させるこ前記保持部材表面に、前記塗
布液に対する撥液層を形成したことを特徴とする。
te1作用 この発明においては成膜時に保持部材が塗布液中を通過
してもその保持部材表面に塗膜が形成されてしまうこと
がない。保持部材表面の撥液層が塗布液を撥くからであ
る。
(f)実施例 例えば第1図の成膜装置で使用している保持部材は円筒
または円柱状のものである。この保持部材5a、5b・
・・ (以下、保持部材5として示す。)に表面に撥液
層を形成する。
保持部材50基体部には塗布液により腐食や反応を生じ
ず、かつ加工性の良いものが用いられる。例えばこの例
ではアルミ、;ラム合金を用いている。そしてその基体
部の表面に撥液性を有する層を設けられる。撥液性材と
しては表面自由エネルギーが塗布液の表面自由エネルギ
ーのほぼ75%以下の材質を用いることが望ましい。例
えばこの実施例では表面自由エネルギーが18dyne
/cm以下のフッ素系樹脂を用いている。例えばFEP
 (4フッ化エチレン−6フツ化プロピレンの共i合体
)、PFA(4フッ化エチレン−パーフロロアルコキシ
エチレンの共重合体)などである。なおこのときに用い
た塗布液は、ジブロムアンスアンスロン−2重量部、ブ
チラール樹脂−2重量部、シクロへキサノン230重量
部を調合し、8時間の間ボールミルで十分に撹拌処理し
たものである。保持部材基体の表面にこれらの層を形成
するには例えば以下のような方法が用いられる。
■表面を上記のようなフッ素樹脂、裏面を表面自由エネ
ルギーが40dyne/cn+程度の接着が可能な層と
し、保持部材基体の表面に接着する。
■樹脂フィルムを円筒状に形成し、保持部材5をこの樹
脂フィルム内に治めて加熱する。すると加熱により樹脂
フィルムが収縮して保持部材基体の表面に貼着される。
■保持部材基体の表面を凹凸状に形成し、樹脂フィルム
を圧着させる。
以上のようにして表面に撥液層が形成された保持部材5
を用いて塗工処理を行ったところ、保持部材5の表面に
は塗布液が付着してしまうことがなかった。
(g1発明の効果 以上のようにこの発明によれば、保持部材の表面に膜形
成されることがなく塗布液の無駄使いや、保持部材表面
から剥がれた落ちた膜による基体表面の塗膜欠陥が生じ
ることがなく、さらに、保持部材洗浄装置およびその工
程を省略することができるのでコストアップの解消およ
び製造工程時間の短縮をすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は一般的な成膜装置の構成を示した図である。 1−塗布液、2−塗工槽、3−侵入孔、4−基体、5a
、5b−保持部材、6−押上治具。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)塗布液が収容された塗工槽の底面に侵入孔を形成
    し、基体の上下端を保持部材を用いて保持した状態で前
    記侵入孔から塗工槽中に侵入させ、塗工槽底面から上部
    までを通過させることによって前記基体の表面に塗布液
    を塗布して成膜を行う成膜装置において、 前記保持部材表面に、前記塗布液に対する撥液層を形成
    したことを特徴とする塗膜形成装置。
JP25302389A 1989-09-28 1989-09-28 成膜装置 Pending JPH03114570A (ja)

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JP25302389A JPH03114570A (ja) 1989-09-28 1989-09-28 成膜装置

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JP25302389A JPH03114570A (ja) 1989-09-28 1989-09-28 成膜装置

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JPH03114570A true JPH03114570A (ja) 1991-05-15

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ID=17245409

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