JPH0527111A - カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 - Google Patents
カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法Info
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- JPH0527111A JPH0527111A JP17846891A JP17846891A JPH0527111A JP H0527111 A JPH0527111 A JP H0527111A JP 17846891 A JP17846891 A JP 17846891A JP 17846891 A JP17846891 A JP 17846891A JP H0527111 A JPH0527111 A JP H0527111A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/1309—Repairing; Testing
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- G—PHYSICS
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラー液晶表示装置におけるカラーフィルタ
の欠陥修正を迅速、確実に行え、修正作業の信頼性およ
び歩留りの向上が図れるカラーフィルタの欠陥修正方法
を実現する。 【構成】 カラーフィルタ１５に欠陥が発生し、かつそ
の位置データが検出されているガラス基板１をＸ−Ｙテ
ーブル上に載置し、エキシマレーザ発振器と欠陥を発生
しているカラーフィルタ１５との位置合わせ行う。続い
て、エキシマレーザ発振器よりエネルギ密度の閾値を適
宜の値に設定したエキシマレーザビームＩBを出射し、
パターンマスク１１のスリット部１２、反射ミラー１３
およびパターン縮小レンズ１４からなる縮小光学系によ
り欠陥を発生しているカラーフィルタ１５にそのサイズ
に対応したエキシマレーザビームスポットを照射し、こ
れにより欠陥を発生しているカラーフィルタ１５を除去
する。
の欠陥修正を迅速、確実に行え、修正作業の信頼性およ
び歩留りの向上が図れるカラーフィルタの欠陥修正方法
を実現する。 【構成】 カラーフィルタ１５に欠陥が発生し、かつそ
の位置データが検出されているガラス基板１をＸ−Ｙテ
ーブル上に載置し、エキシマレーザ発振器と欠陥を発生
しているカラーフィルタ１５との位置合わせ行う。続い
て、エキシマレーザ発振器よりエネルギ密度の閾値を適
宜の値に設定したエキシマレーザビームＩBを出射し、
パターンマスク１１のスリット部１２、反射ミラー１３
およびパターン縮小レンズ１４からなる縮小光学系によ
り欠陥を発生しているカラーフィルタ１５にそのサイズ
に対応したエキシマレーザビームスポットを照射し、こ
れにより欠陥を発生しているカラーフィルタ１５を除去
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一対の透明基板間に液
晶が封入され、かつ一方の透明基板の内面または外面に
Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色のカラーフィルタが配列された液晶
パネルを具備するカラー液晶表示装置におけるカラーフ
ィルタの欠陥修正方法に関する。
晶が封入され、かつ一方の透明基板の内面または外面に
Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色のカラーフィルタが配列された液晶
パネルを具備するカラー液晶表示装置におけるカラーフ
ィルタの欠陥修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の液晶パネルの一例として、ＴＦ
Ｔ（薄膜トランジスタ）をスイッチング素子として備え
たアクティブマトリクス駆動方式のものがある。この液
晶パネルは、互いに貼り合わされる一対のガラス基板間
に表示媒体としての液晶を封入してなる。一方のガラス
基板の内面におけるゲートバスラインとソースバスライ
ンで囲まれた領域には、絵素電極がマトリクス状に配設
され、該絵素電極にこれを選択駆動するＴＦＴが接続さ
れる。すなわち、ＴＦＴのスイッチング動作により各絵
素電極の選択、非選択を行って表示動作を行うようにな
っている。
Ｔ（薄膜トランジスタ）をスイッチング素子として備え
たアクティブマトリクス駆動方式のものがある。この液
晶パネルは、互いに貼り合わされる一対のガラス基板間
に表示媒体としての液晶を封入してなる。一方のガラス
基板の内面におけるゲートバスラインとソースバスライ
ンで囲まれた領域には、絵素電極がマトリクス状に配設
され、該絵素電極にこれを選択駆動するＴＦＴが接続さ
れる。すなわち、ＴＦＴのスイッチング動作により各絵
素電極の選択、非選択を行って表示動作を行うようにな
っている。
【０００３】なお、他方のガラス基板の内面又は外面に
はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色のカラーフィ
ルタおよびブラックストライプが表示絵素に対応して形
成されている。
はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色のカラーフィ
ルタおよびブラックストライプが表示絵素に対応して形
成されている。
【０００４】この種のカラーフィルタの形成方法とし
て、最近ではフォトリソグラフィ染色方式が多用される
傾向にある。すなわち、この方式によれば、高精度のカ
ラーフィルタを能率よく生産できるからである。
て、最近ではフォトリソグラフィ染色方式が多用される
傾向にある。すなわち、この方式によれば、高精度のカ
ラーフィルタを能率よく生産できるからである。
【０００５】以下図２に従いフォトリソグラフィ染色方
式によるカラーフィルタの形成方法を説明する。まず、
ガラス基板１の上面に、例えばスパッタリング法を用い
て所定膜厚のＣｒを積層し、続いて該Ｃｒ膜をフォトリ
ソグラフィ技術を用いてパターニングして遮光膜２を形
成する。次いで、該遮光膜２の上に、例えばゼラチンに
感光性を付与してなる感光性基材３を積層形成する。続
いて該感光性基材３を露光、現像してパターン化し、そ
の後、パターン化された感光性基材３を染色してＲ、
Ｇ、Ｂの三原色のカラーフィルタを形成する。すなわ
ち、露光〜染色迄の工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂの
三原色のカラーフィルタを形成する。
式によるカラーフィルタの形成方法を説明する。まず、
ガラス基板１の上面に、例えばスパッタリング法を用い
て所定膜厚のＣｒを積層し、続いて該Ｃｒ膜をフォトリ
ソグラフィ技術を用いてパターニングして遮光膜２を形
成する。次いで、該遮光膜２の上に、例えばゼラチンに
感光性を付与してなる感光性基材３を積層形成する。続
いて該感光性基材３を露光、現像してパターン化し、そ
の後、パターン化された感光性基材３を染色してＲ、
Ｇ、Ｂの三原色のカラーフィルタを形成する。すなわ
ち、露光〜染色迄の工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂの
三原色のカラーフィルタを形成する。
【０００６】次いで、カラーフィルタの上に保護膜４を
コーティングし、これによりカラーフィルタが形成され
たガラス基板１を得る。
コーティングし、これによりカラーフィルタが形成され
たガラス基板１を得る。
【０００７】ところで、上記のようにしてカラーフィル
タを形成する工程において、カラーフィルタに塵埃や不
純物が混入するおそれがあり、これらが混入すると、カ
ラーフィルタに部分的な欠損が生じ、液晶パネルの表示
品位が著しく損なわれることになる。それ故、歩留りの
向上を図るためには、欠損が発生しているカラーフィル
タを修正する必要がある。
タを形成する工程において、カラーフィルタに塵埃や不
純物が混入するおそれがあり、これらが混入すると、カ
ラーフィルタに部分的な欠損が生じ、液晶パネルの表示
品位が著しく損なわれることになる。それ故、歩留りの
向上を図るためには、欠損が発生しているカラーフィル
タを修正する必要がある。
【０００８】従来この種の修正は以下のようにして行わ
れていた。すなわち、保護膜４をコーティングする前
に、ガラス基板１を駆動して目視検査等により、Ｒ、
Ｇ、Ｂ画素間やＲ、Ｇ、Ｂ各画素内の色ムラやコントラ
ストムラを検査し、この検査工程で欠損部のあるガラス
基板１と正常なガラス基板１とを選別する。欠損部を発
生しているガラス基板１は修正工程に送られ、ここで以
下に示す修正作業が行われる。
れていた。すなわち、保護膜４をコーティングする前
に、ガラス基板１を駆動して目視検査等により、Ｒ、
Ｇ、Ｂ画素間やＲ、Ｇ、Ｂ各画素内の色ムラやコントラ
ストムラを検査し、この検査工程で欠損部のあるガラス
基板１と正常なガラス基板１とを選別する。欠損部を発
生しているガラス基板１は修正工程に送られ、ここで以
下に示す修正作業が行われる。
【０００９】まず、部分的な欠損が発生しているＲ、
Ｇ、Ｂのカラーフィルタの染色膜を作業者が先端が針状
になった工具で剥し取る。次いで、カラーフィルタを剥
した部分にインク塗布用針を用いてＲ、Ｇ、ＢのＵＶ樹
脂硬化インクを塗布する。次いで、ＵＶ光を照射してＵ
Ｖ樹脂硬化インクを定着し、これにより修正作業を終了
する。
Ｇ、Ｂのカラーフィルタの染色膜を作業者が先端が針状
になった工具で剥し取る。次いで、カラーフィルタを剥
した部分にインク塗布用針を用いてＲ、Ｇ、ＢのＵＶ樹
脂硬化インクを塗布する。次いで、ＵＶ光を照射してＵ
Ｖ樹脂硬化インクを定着し、これにより修正作業を終了
する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の修正方法は、作業者の手作業により欠損を発生して
いるカラーフィルタを剥し取る工程を含むため、作業者
個々の熟練度の相違により均質な修正作業が行えないと
いう欠点がある。すなわち、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィル
タ膜個々のサイズは面積が約100μｍ×100μｍ、膜厚が
２μｍ〜２．５μｍの微細なものであるため、精度よく
作業を行うためには熟練を要し、経験の不足の作業者に
とっては困難な作業になるからである。
来の修正方法は、作業者の手作業により欠損を発生して
いるカラーフィルタを剥し取る工程を含むため、作業者
個々の熟練度の相違により均質な修正作業が行えないと
いう欠点がある。すなわち、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィル
タ膜個々のサイズは面積が約100μｍ×100μｍ、膜厚が
２μｍ〜２．５μｍの微細なものであるため、精度よく
作業を行うためには熟練を要し、経験の不足の作業者に
とっては困難な作業になるからである。
【００１１】以上の理由により従来方法では修正作業の
信頼性の向上を図る上で問題があり、歩留りの向上を図
る上で限界があった。
信頼性の向上を図る上で問題があり、歩留りの向上を図
る上で限界があった。
【００１２】なお、修正用のＵＶ樹脂硬化インクの塗布
および定着は専用の機械装置により行われるため、この
工程に関しては精度よく行われていた。
および定着は専用の機械装置により行われるため、この
工程に関しては精度よく行われていた。
【００１３】本発明はこのような従来技術の欠点を解消
するものであり、カラーフィルタの修正作業を迅速、確
実に行え、歩留りを格段に向上できるカラー液晶表示装
置におけるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供するこ
とを目的とする。
するものであり、カラーフィルタの修正作業を迅速、確
実に行え、歩留りを格段に向上できるカラー液晶表示装
置におけるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供するこ
とを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明のカラー液晶表示
装置の欠陥修正方法は、一対の透明基板間に液晶が封入
され、かつ一方の透明基板の内面または外面にＲ、Ｇ、
Ｂ三原色のカラーフィルタが配列された液晶パネルを具
備するカラー液晶表示装置の欠陥修正方法において、欠
陥が発生している該カラーフィルタを検出する工程と、
該欠陥が発生している該カラーフィルタにエキシマレー
ザビームを照射して、該カラーフィルタを除去する工程
とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
装置の欠陥修正方法は、一対の透明基板間に液晶が封入
され、かつ一方の透明基板の内面または外面にＲ、Ｇ、
Ｂ三原色のカラーフィルタが配列された液晶パネルを具
備するカラー液晶表示装置の欠陥修正方法において、欠
陥が発生している該カラーフィルタを検出する工程と、
該欠陥が発生している該カラーフィルタにエキシマレー
ザビームを照射して、該カラーフィルタを除去する工程
とを含んでなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
【００１５】
【作用】エキシマレーザビームのエネルギ密度の閾値を
適宜の値に設定し、このように設定されたエキシマレー
ザビームを欠陥を発生しているカラーフィルタに照射す
ると、透明基板にダメージを与えることなく、また該透
明基板を傷つけることなく、欠陥の発生しているカラー
フィルタを確実に除去することができる。従って、以後
上記したＲ、Ｇ、ＢのＵＶ樹脂硬化インクを塗布し、続
いてＵＶ光を照射してＵＶ樹脂硬化インクを定着する工
程を行えば、これにより欠陥部を発生していたＲ、Ｇ、
Ｂのカラーフィルタを精度よく修正できる。
適宜の値に設定し、このように設定されたエキシマレー
ザビームを欠陥を発生しているカラーフィルタに照射す
ると、透明基板にダメージを与えることなく、また該透
明基板を傷つけることなく、欠陥の発生しているカラー
フィルタを確実に除去することができる。従って、以後
上記したＲ、Ｇ、ＢのＵＶ樹脂硬化インクを塗布し、続
いてＵＶ光を照射してＵＶ樹脂硬化インクを定着する工
程を行えば、これにより欠陥部を発生していたＲ、Ｇ、
Ｂのカラーフィルタを精度よく修正できる。
【００１６】
【実施例】以下に本発明の一実施例を説明する。
【００１７】図１は本発明のカラーフィルタの欠陥修正
方法を模式的に示しており、図示しないＸ−Ｙテーブル
上には、上面にＲ、Ｇ、Ｂの三原色カラーフィルタ１５
が形成されたガラス基板１が載置されている。カラーフ
ィルタ１５は、上記のように感光性基材としてのゼラチ
ンをパターン化した後に染色して形成される。該ガラス
基板１はＸ−Ｙテーブルに載置される前に、前工程でカ
ラーフィルタ１５に部分的な欠陥が発生しているか否か
の検査が行われ、欠陥を発生しているガラス基板１のみ
がＸ−Ｙテーブルに載置されるようになっている。この
検査は上記従来技術の項で述べた方法によって行われ
る。
方法を模式的に示しており、図示しないＸ−Ｙテーブル
上には、上面にＲ、Ｇ、Ｂの三原色カラーフィルタ１５
が形成されたガラス基板１が載置されている。カラーフ
ィルタ１５は、上記のように感光性基材としてのゼラチ
ンをパターン化した後に染色して形成される。該ガラス
基板１はＸ−Ｙテーブルに載置される前に、前工程でカ
ラーフィルタ１５に部分的な欠陥が発生しているか否か
の検査が行われ、欠陥を発生しているガラス基板１のみ
がＸ−Ｙテーブルに載置されるようになっている。この
検査は上記従来技術の項で述べた方法によって行われ
る。
【００１８】従って、Ｘ−Ｙテーブル上のガラス基板１
はいずれの位置のカラーフィルタ１５に欠陥が発生して
いるか、すなわち欠陥に関する位置データが予め得られ
ており、該データに応じてＸ−Ｙテーブル上のガラス基
板１と、該ガラス基板１にエキシマレーザビームを照射
するエキシマレーザ発振器（図示せず）との位置合わせ
が行われるようになっている。今少し説明すると、該デ
ータに応じてＸ−ＹテーブルをＸ、Ｙ方向にそれぞれ所
定量移動させて両者の位置合わせを行い、これによりガ
ラス基板１上の欠陥を発生しているカラーフィルタ１５
にエキシマレーザービームが数秒間照射されるようにな
っている。
はいずれの位置のカラーフィルタ１５に欠陥が発生して
いるか、すなわち欠陥に関する位置データが予め得られ
ており、該データに応じてＸ−Ｙテーブル上のガラス基
板１と、該ガラス基板１にエキシマレーザビームを照射
するエキシマレーザ発振器（図示せず）との位置合わせ
が行われるようになっている。今少し説明すると、該デ
ータに応じてＸ−ＹテーブルをＸ、Ｙ方向にそれぞれ所
定量移動させて両者の位置合わせを行い、これによりガ
ラス基板１上の欠陥を発生しているカラーフィルタ１５
にエキシマレーザービームが数秒間照射されるようにな
っている。
【００１９】エキシマレーザビームの照射は以下の構成
により行われる。すなわち、エキシマレーザ発振器から
出射される断面長方形状をなすエキシマレーザビームＩ
Bの出射域には、カラーフィルタ１５を拡大した形状の
スリット部１２が開口されたパターンマスク１１が配設
され、該スリット部１２を通してエキシマレーザビーム
ＩBが前方に出射されるようになっている。従って、ス
リット部１２を通過した後のエキシマレーザビームＩB
の断面形状は、図中破線で示すようにカラーフィルタ１
５の形状を拡大した形になっている。
により行われる。すなわち、エキシマレーザ発振器から
出射される断面長方形状をなすエキシマレーザビームＩ
Bの出射域には、カラーフィルタ１５を拡大した形状の
スリット部１２が開口されたパターンマスク１１が配設
され、該スリット部１２を通してエキシマレーザビーム
ＩBが前方に出射されるようになっている。従って、ス
リット部１２を通過した後のエキシマレーザビームＩB
の断面形状は、図中破線で示すようにカラーフィルタ１
５の形状を拡大した形になっている。
【００２０】パターンマスク１１の前方には、スリット
部１２を通過した後のエキシマレーザビームＩBの光路
を下方に９０°変換する反射ミラー１３が配置され、該
反射ミラー１３により光路を変換されたエキシマレーザ
ビームＩBはパターン縮小レンズ１４を通してガラス基
板１上のカラーフィルタ１５に照射される。パターン縮
小レンズ１４を通してカラーフィルタ１５上に照射され
るエキシマレーザビームＩBのビームスポットは該カラ
ーフィルタ１５の形状に対応した形になっている。すな
わち、以上の光学系は縮小光学系を構成し、ガラス基板
１上の欠陥を発生しているカラーフィルタ１５にエキシ
マレーザビームＩBが精度よく照射されるようになって
いる。
部１２を通過した後のエキシマレーザビームＩBの光路
を下方に９０°変換する反射ミラー１３が配置され、該
反射ミラー１３により光路を変換されたエキシマレーザ
ビームＩBはパターン縮小レンズ１４を通してガラス基
板１上のカラーフィルタ１５に照射される。パターン縮
小レンズ１４を通してカラーフィルタ１５上に照射され
るエキシマレーザビームＩBのビームスポットは該カラ
ーフィルタ１５の形状に対応した形になっている。すな
わち、以上の光学系は縮小光学系を構成し、ガラス基板
１上の欠陥を発生しているカラーフィルタ１５にエキシ
マレーザビームＩBが精度よく照射されるようになって
いる。
【００２１】エキシマレーザビームスポットが数１０ｍ
ｓ〜１秒程度照射されると、ゼラチンを感光性基材とす
るカラーフィルタ１５が除去される。すなわち、本発明
方法は欠陥を発生しているカラーフィルタ１５にエキシ
マレーザビームスポットを照射して該カラーフィルタ１
５を除去する加工方法をとる。
ｓ〜１秒程度照射されると、ゼラチンを感光性基材とす
るカラーフィルタ１５が除去される。すなわち、本発明
方法は欠陥を発生しているカラーフィルタ１５にエキシ
マレーザビームスポットを照射して該カラーフィルタ１
５を除去する加工方法をとる。
【００２２】ここで、エキシマレーザビーム加工の特質
について説明すると、ガスレーザであるエキシマレーザ
ビームＩBの発振波長は、封入ガスとしてＡｒＦを用い
た場合は193ｎｍであり、ＫｒＦを用いた場合は248ｎｍ
になる。このようにエキシマレーザビームＩBは発振波
長が非常に短波長である。
について説明すると、ガスレーザであるエキシマレーザ
ビームＩBの発振波長は、封入ガスとしてＡｒＦを用い
た場合は193ｎｍであり、ＫｒＦを用いた場合は248ｎｍ
になる。このようにエキシマレーザビームＩBは発振波
長が非常に短波長である。
【００２３】ところで、レーザ加工の加工精度はレーザ
ビームの波長が短くなる程高精度になる。従って、エキ
シマレーザ加工によれば、高精度の加工が可能になり、
カラーフィルタ１５を精度よく除去できる。
ビームの波長が短くなる程高精度になる。従って、エキ
シマレーザ加工によれば、高精度の加工が可能になり、
カラーフィルタ１５を精度よく除去できる。
【００２４】加えて、エキシマレーザビームＩBは紫外
線領域のレーザビームであるので、ＣＯ2レーザ等の赤
外線領域のレーザ加工に比べて以下に示す利点を有す
る。すなわち、後者のレーザ加工は熱エネルギを利用し
たレーザ加工であるため、照射部周辺に熱的ダメージを
与える。このため、ガラス基板１に「ダレ」が発生し、
形状精度が損なわれるおそれがある。
線領域のレーザビームであるので、ＣＯ2レーザ等の赤
外線領域のレーザ加工に比べて以下に示す利点を有す
る。すなわち、後者のレーザ加工は熱エネルギを利用し
たレーザ加工であるため、照射部周辺に熱的ダメージを
与える。このため、ガラス基板１に「ダレ」が発生し、
形状精度が損なわれるおそれがある。
【００２５】これに対してエキシマレーザ加工は、光エ
ネルギ加工であり、照射部周辺に熱的ダメージを与えな
いアブレーション加工であるため、ガラス基板１に「ダ
レ」は発生しない。従って、エキシマレーザ加工によれ
ば、外形形状を精度よく仕上げることができる。
ネルギ加工であり、照射部周辺に熱的ダメージを与えな
いアブレーション加工であるため、ガラス基板１に「ダ
レ」は発生しない。従って、エキシマレーザ加工によれ
ば、外形形状を精度よく仕上げることができる。
【００２６】なお、加工に際してエキシマレーザビーム
ＩBのエネルギ密度の閾値は加工対象のワークの材質に
応じて適宜の値に設定される。すなわち、本実施例では
ワークが、ガラス基板１の上面にゼラチンを感光性基材
とするカラーフィルタ１５を形成したものであり、ゼラ
チンの場合のエネルギ密度閾値は数百ｍＪ／ｃｍ2であ
るのに対し、ガラス基板１のそれは５Ｊ／ｃｍ2であ
り、ゼラチンに比べて１桁高いエネルギ密度になってい
る。
ＩBのエネルギ密度の閾値は加工対象のワークの材質に
応じて適宜の値に設定される。すなわち、本実施例では
ワークが、ガラス基板１の上面にゼラチンを感光性基材
とするカラーフィルタ１５を形成したものであり、ゼラ
チンの場合のエネルギ密度閾値は数百ｍＪ／ｃｍ2であ
るのに対し、ガラス基板１のそれは５Ｊ／ｃｍ2であ
り、ゼラチンに比べて１桁高いエネルギ密度になってい
る。
【００２７】従って、エキシマレーザ発振器の発振エネ
ルギのエネルギ密度の閾値を数百ｍＪ／ｃｍ2に設定す
ると、ゼラチンからなるカラーフィルタ１５のみが除去
され、ガラス基板１に傷等が発生することがない。それ
故、カラーフィルタ１５が除去された部分にＲ、Ｇ、Ｂ
のＵＶ樹脂硬化インクを塗布し、続いてＵＶ光を照射し
てＵＶ樹脂硬化インクを定着してカラーフィルタ１５の
修復を行う工程を容易、且つ精度よく行える。
ルギのエネルギ密度の閾値を数百ｍＪ／ｃｍ2に設定す
ると、ゼラチンからなるカラーフィルタ１５のみが除去
され、ガラス基板１に傷等が発生することがない。それ
故、カラーフィルタ１５が除去された部分にＲ、Ｇ、Ｂ
のＵＶ樹脂硬化インクを塗布し、続いてＵＶ光を照射し
てＵＶ樹脂硬化インクを定着してカラーフィルタ１５の
修復を行う工程を容易、且つ精度よく行える。
【００２８】
【発明の効果】以上の本発明カラーフィルタの欠陥修正
方法は、欠陥を発生しているカラーフィルタの除去を、
該カラーフィルタにエキシマレーザビームを照射して行
うので、カラーフィルタ周辺の透明基板にダメージを与
えることがない。従って、形状精度を損なうことなく欠
陥が発生しているカラーフィルタの除去を確実に行うこ
とができる。
方法は、欠陥を発生しているカラーフィルタの除去を、
該カラーフィルタにエキシマレーザビームを照射して行
うので、カラーフィルタ周辺の透明基板にダメージを与
えることがない。従って、形状精度を損なうことなく欠
陥が発生しているカラーフィルタの除去を確実に行うこ
とができる。
【００２９】また、エキシマレーザビームのエネルギ密
度の閾値を適宜の値に設定することにより、透明基板に
傷等を発生することなく欠陥を発生しているカラーフィ
ルタを確実に除去できる。
度の閾値を適宜の値に設定することにより、透明基板に
傷等を発生することなく欠陥を発生しているカラーフィ
ルタを確実に除去できる。
【００３０】更には、数１０ｍｓ〜１秒程度の照射で欠
陥が発生しているカラーフィルタを確実に除去できる。
従って、全体としてカラーフィルタの修正作業を能率よ
く行える。
陥が発生しているカラーフィルタを確実に除去できる。
従って、全体としてカラーフィルタの修正作業を能率よ
く行える。
【００３１】また、人手を要せず、均質な修正作業が行
える利点もある。
える利点もある。
【００３２】以上の理由により、本発明方法によれば、
修正作業の信頼性を向上でき、歩留りの向上を格段に図
れる利点がある。
修正作業の信頼性を向上でき、歩留りの向上を格段に図
れる利点がある。
【図１】本発明カラーフィルタの欠陥修正方法を模式的
に示す斜視図。
に示す斜視図。
【図２】フォトリソグラフィ染色方式によって形成され
たカラーフィルタが配列された基板を示す断面図。
たカラーフィルタが配列された基板を示す断面図。
１ ガラス基板 ２ 遮光膜 ３ 感光性基材 １１ パターンマスク １２ スリット部 １３ 反射ミラー １４ パターン縮小レンズ １５ カラーフィルタ ＩB エキシマレーザビーム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】一対の透明基板間に液晶が封入され、かつ
一方の透明基板の内面または外面にＲ、Ｇ、Ｂの三原色
のカラーフィルタが配列された液晶パネルを具備するカ
ラー液晶表示装置におけるカラーフィルタの欠陥修正方
法において、 欠陥が発生している該カラーフィルタを検出する工程
と、 該欠陥が発生している該カラーフィルタにエキシマレー
ザビームを照射して、該カラーフィルタを除去する工程
とを含むカラー液晶表示装置におけるカラーフィルタの
欠陥修正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17846891A JPH0527111A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17846891A JPH0527111A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527111A true JPH0527111A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16049039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17846891A Withdrawn JPH0527111A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0527111A (ja) |
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1991
- 1991-07-18 JP JP17846891A patent/JPH0527111A/ja not_active Withdrawn
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