JPH04371367A - チッソリフロー装置 - Google Patents
チッソリフロー装置Info
- Publication number
- JPH04371367A JPH04371367A JP3145834A JP14583491A JPH04371367A JP H04371367 A JPH04371367 A JP H04371367A JP 3145834 A JP3145834 A JP 3145834A JP 14583491 A JP14583491 A JP 14583491A JP H04371367 A JPH04371367 A JP H04371367A
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- JP
- Japan
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- heating chamber
- gas
- nitrogen gas
- organic
- nitrogen
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はチッソリフロー装置に係
り、加熱室に発生する煙や有機溶剤ガスなどの有機物や
、加熱室に侵入した酸素を分解して除去するようにした
ものである。
り、加熱室に発生する煙や有機溶剤ガスなどの有機物や
、加熱室に侵入した酸素を分解して除去するようにした
ものである。
【０００２】
【従来の技術】電子部品が搭載された基板はリフロー装
置の加熱室へ送られ、半田の加熱処理が行われる。この
加熱室内の空気は、基板を半田の溶融温度（一般に約１
８３℃）以上まで加熱するために、ヒータによりかなり
の温度（一般に約３００℃）まで加熱される。
置の加熱室へ送られ、半田の加熱処理が行われる。この
加熱室内の空気は、基板を半田の溶融温度（一般に約１
８３℃）以上まで加熱するために、ヒータによりかなり
の温度（一般に約３００℃）まで加熱される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のように加熱室内
の空気が高温度となることにより、基板に付着したごみ
類が燃焼し、煙が発生する。このため従来、加熱された
空気を少しずつ加熱室外へ排出して、煙の除去を行って
いた。
の空気が高温度となることにより、基板に付着したごみ
類が燃焼し、煙が発生する。このため従来、加熱された
空気を少しずつ加熱室外へ排出して、煙の除去を行って
いた。
【０００４】ところがこのように加熱された空気を加熱
室へ排出すると、それだけ熱効率が低下し、ランニング
コストが高くなる問題点があった。
室へ排出すると、それだけ熱効率が低下し、ランニング
コストが高くなる問題点があった。
【０００５】また半田のヌレ性を改善するために、一般
にフラックスが使用されるが、加熱室内においてこのフ
ラックスが加熱されることにより、フラックスに含まれ
る有害な有機溶剤が蒸発して、加熱室内の有機溶剤ガス
濃度が次第に高くなり、この有機溶剤ガスが基板表面に
凝縮して半田のヌレ性に悪影響を生じやすい問題点があ
った。
にフラックスが使用されるが、加熱室内においてこのフ
ラックスが加熱されることにより、フラックスに含まれ
る有害な有機溶剤が蒸発して、加熱室内の有機溶剤ガス
濃度が次第に高くなり、この有機溶剤ガスが基板表面に
凝縮して半田のヌレ性に悪影響を生じやすい問題点があ
った。
【０００６】また、半田、回路パターン、電子部品の電
極等の金属物質の酸化を防止するために、加熱室にチッ
ソガスを送り、高温のチッソガス雰囲気中において半田
の加熱処理を行うことが知られている。
極等の金属物質の酸化を防止するために、加熱室にチッ
ソガスを送り、高温のチッソガス雰囲気中において半田
の加熱処理を行うことが知られている。
【０００７】ところがこのようなチッソリフロー装置に
おいては、加熱室の入口や出口から加熱室内に外部の空
気が徐々に侵入し、加熱室内の酸素濃度が次第に高くな
って、上記金属物質が酸化されやすく、また上記煙や有
機溶剤ガスを除去するために排気を行うと、チッソガス
が無駄に消耗されて、ランニングコストが高くなる問題
点があった。
おいては、加熱室の入口や出口から加熱室内に外部の空
気が徐々に侵入し、加熱室内の酸素濃度が次第に高くな
って、上記金属物質が酸化されやすく、また上記煙や有
機溶剤ガスを除去するために排気を行うと、チッソガス
が無駄に消耗されて、ランニングコストが高くなる問題
点があった。
【０００８】したがって本発明は、加熱室に発生する煙
や有機溶剤ガスなどの有機物や、加熱室に侵入した酸素
を効果的に分解して除去できるチッソリフロー装置を提
供することを目的とする。
や有機溶剤ガスなどの有機物や、加熱室に侵入した酸素
を効果的に分解して除去できるチッソリフロー装置を提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、加熱室と、こ
の加熱室に配設されたヒータ及びファンと、この加熱室
に設けられた熱風の循環路と、この循環路に配設された
酸化触媒から成る有機物分解ユニットと、この加熱室に
チッソガスを供給するチッソ供給手段と、可燃性有機ガ
スを供給する可燃性有機ガス供給手段とからチッソリフ
ロー装置を構成している。
の加熱室に配設されたヒータ及びファンと、この加熱室
に設けられた熱風の循環路と、この循環路に配設された
酸化触媒から成る有機物分解ユニットと、この加熱室に
チッソガスを供給するチッソ供給手段と、可燃性有機ガ
スを供給する可燃性有機ガス供給手段とからチッソリフ
ロー装置を構成している。
【００１０】
【作用】上記構成において、加熱室内の加熱空気は、循
環路を循環し、その途中において、これに含まれる煙の
成分である有機物は有機物分解ユニットにより分解され
る。また外部から加熱室内に侵入してチッソガスに混入
した酸素は、有機物を酸化するための酸素として消費さ
れることから、労せずに除去される。
環路を循環し、その途中において、これに含まれる煙の
成分である有機物は有機物分解ユニットにより分解され
る。また外部から加熱室内に侵入してチッソガスに混入
した酸素は、有機物を酸化するための酸素として消費さ
れることから、労せずに除去される。
【００１１】この場合、加熱室に可燃性有機ガスを供給
することにより、チッソリフローにおける不純物である
酸素の燃焼消費が著しく促進され、酸素をきわめて効率
よく分解除去できる。
することにより、チッソリフローにおける不純物である
酸素の燃焼消費が著しく促進され、酸素をきわめて効率
よく分解除去できる。
【００１２】
【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
説明する。
【００１３】図１は、チッソリフロー装置の側面図であ
る。１は加熱室であり、その内部には、ヒータ２、ファ
ン３、コンベヤ４が設けられている。コンベヤ４は、電
子部品６が搭載された基板５を入口９から出口１０へ向
かって搬送する。７は基板５をコンベヤ４に搬入する搬
入コンベヤ、８は搬出コンベヤである。
る。１は加熱室であり、その内部には、ヒータ２、ファ
ン３、コンベヤ４が設けられている。コンベヤ４は、電
子部品６が搭載された基板５を入口９から出口１０へ向
かって搬送する。７は基板５をコンベヤ４に搬入する搬
入コンベヤ、８は搬出コンベヤである。
【００１４】１１は加熱室１の入口側に設けられたフー
ドであり、その内部には、ＵＶランプ１２と、ミラー１
３が配設されている。このＵＶランプ１２は、基板５に
電子部品６を仮接着するＵＶ樹脂を硬化させる。
ドであり、その内部には、ＵＶランプ１２と、ミラー１
３が配設されている。このＵＶランプ１２は、基板５に
電子部品６を仮接着するＵＶ樹脂を硬化させる。
【００１５】１４はフード１１に連結されたダクトであ
って、このダクト１４は加熱室１外へ延出している。１
５はダクトの途中に設けられたオゾン分解触媒である。 ＵＶ光が照射されると、有害なオゾンが発生することか
ら、この触媒１５はオゾンを分解して除去する。
って、このダクト１４は加熱室１外へ延出している。１
５はダクトの途中に設けられたオゾン分解触媒である。 ＵＶ光が照射されると、有害なオゾンが発生することか
ら、この触媒１５はオゾンを分解して除去する。
【００１６】３１は加熱室１にチッソガスを供給するチ
ッソガス供給手段である。このチッソガス供給手段３１
としては、空気からチッソガスを分解生成するチッソ発
生機、液体チッソタンク、高圧チッソガスボンベなどが
適用できる。
ッソガス供給手段である。このチッソガス供給手段３１
としては、空気からチッソガスを分解生成するチッソ発
生機、液体チッソタンク、高圧チッソガスボンベなどが
適用できる。
【００１７】３２は可燃性有機ガスを加熱室１に供給す
る可燃性有機ガス供給手段である。可燃性有機ガスは、
外部から加熱室１内に侵入した空気中の酸素を消費して
、酸素を除去するためのものである。この可燃性有機ガ
スとしては、加熱室１内の雰囲気温度である３００℃程
度で、酸化触媒（後述）の作用により酸化が促進される
ものが好ましく、例えば水素ガス（Ｈ２）やメタンガス
（ＣＨ４）が適用される。
る可燃性有機ガス供給手段である。可燃性有機ガスは、
外部から加熱室１内に侵入した空気中の酸素を消費して
、酸素を除去するためのものである。この可燃性有機ガ
スとしては、加熱室１内の雰囲気温度である３００℃程
度で、酸化触媒（後述）の作用により酸化が促進される
ものが好ましく、例えば水素ガス（Ｈ２）やメタンガス
（ＣＨ４）が適用される。
【００１８】なお上記チッソガス供給手段３１として、
チッソガスの純度を上げるために水素を混合したものが
知られているが、このようなチッソガス供給手段３１を
使用すれば、可燃性有機ガス供給手段として兼務させる
ことができる。
チッソガスの純度を上げるために水素を混合したものが
知られているが、このようなチッソガス供給手段３１を
使用すれば、可燃性有機ガス供給手段として兼務させる
ことができる。
【００１９】図２は加熱室１の断面図を示している。図
中、２１は加熱室１の両側部に配設された仕切板である
。この仕切板２１と加熱室１の側壁の間には、ヒータ２
２と有機物分解ユニット２３が設けられている。ファン
３が回転すると、ヒータ２，２２に加熱された空気は、
熱風となって破線矢印で示すような循環路を循環する。
中、２１は加熱室１の両側部に配設された仕切板である
。この仕切板２１と加熱室１の側壁の間には、ヒータ２
２と有機物分解ユニット２３が設けられている。ファン
３が回転すると、ヒータ２，２２に加熱された空気は、
熱風となって破線矢印で示すような循環路を循環する。
【００２０】この有機物分解ユニット２３には、酸化触
媒が収納されている。酸化触媒は、煙の成分である有機
物を吸着燃焼させて分解する。この吸着燃焼を促進する
ために、有機物分解ユニット２３の近傍にはヒータ２２
が配設されており、このヒータ２２により、有機物が吸
着燃焼しやすい温度である２００℃〜５００℃程度まで
空気を加熱する。
媒が収納されている。酸化触媒は、煙の成分である有機
物を吸着燃焼させて分解する。この吸着燃焼を促進する
ために、有機物分解ユニット２３の近傍にはヒータ２２
が配設されており、このヒータ２２により、有機物が吸
着燃焼しやすい温度である２００℃〜５００℃程度まで
空気を加熱する。
【００２１】また半田のヌレ性を改善するために、フラ
ックスが使用される。フラックスには有機溶剤が含まれ
ており、加熱室１内の空気が加熱されることにより、こ
の有機溶剤はガス化し、その濃度が大きくなると、基板
５の表面に凝集し、半田の加熱処理を阻害する。またこ
の有機溶剤ガスは有害であり、加熱室１外へ流出すると
、環境上の問題が生じる。
ックスが使用される。フラックスには有機溶剤が含まれ
ており、加熱室１内の空気が加熱されることにより、こ
の有機溶剤はガス化し、その濃度が大きくなると、基板
５の表面に凝集し、半田の加熱処理を阻害する。またこ
の有機溶剤ガスは有害であり、加熱室１外へ流出すると
、環境上の問題が生じる。
【００２２】ところがこのような有機溶剤ガスが有機物
分解ユニット２３の酸化触媒に接触すると、このガスも
吸着燃焼し、無害な水と炭酸ガスに分解される。
分解ユニット２３の酸化触媒に接触すると、このガスも
吸着燃焼し、無害な水と炭酸ガスに分解される。
【００２３】このような酸化触媒としては、例えばラン
タン、コバルト系のぺブロスカイトや、あるいは白金、
パラジウム、ロジウムなどが知られている。
タン、コバルト系のぺブロスカイトや、あるいは白金、
パラジウム、ロジウムなどが知られている。
【００２４】上記構成において、基板５をコンベヤ４に
より搬送しながら、基板５を加熱すると、半田は加熱溶
融される。次いで、出口付近において基板５を冷却する
と、半田は固化し、電子部品６は基板５に接着される。
より搬送しながら、基板５を加熱すると、半田は加熱溶
融される。次いで、出口付近において基板５を冷却する
と、半田は固化し、電子部品６は基板５に接着される。
【００２５】上記のように基板５が加熱されることによ
り、基板５に付着するごみ類は燃焼し、煙が発生するが
、ファン３が回転することにより、加熱室１内の空気は
、図２において破線矢印にて示すように熱風となって循
環しており、その途中において、有機物分解ユニット２
３により、有機成分である煙は分解除去される。また基
板５を加熱することにより生じた有害な有機溶剤も、有
機物分解ユニット２３により分解除去される。
り、基板５に付着するごみ類は燃焼し、煙が発生するが
、ファン３が回転することにより、加熱室１内の空気は
、図２において破線矢印にて示すように熱風となって循
環しており、その途中において、有機物分解ユニット２
３により、有機成分である煙は分解除去される。また基
板５を加熱することにより生じた有害な有機溶剤も、有
機物分解ユニット２３により分解除去される。
【００２６】このように本手段は、加熱室１内の循環路
を熱風を循環させながら、煙の分解除去を行うことがで
きるので、従来手段のように加熱室１内の煙を除去する
ために、加熱された空気を加熱室１外へ排出する必要は
なく、それだけ熱効率の向上を図ることができ、また有
機溶剤ガスも併せて分解除去することができる。
を熱風を循環させながら、煙の分解除去を行うことがで
きるので、従来手段のように加熱室１内の煙を除去する
ために、加熱された空気を加熱室１外へ排出する必要は
なく、それだけ熱効率の向上を図ることができ、また有
機溶剤ガスも併せて分解除去することができる。
【００２７】また加熱室１にチッソガスを供給して、チ
ッソガス雰囲気中において半田の加熱処理を行うチッソ
リフローの場合、加熱室１の入口９と出口１０から外部
空気が侵入し、加熱室１の酸化濃度が次第に高くなる。
ッソガス雰囲気中において半田の加熱処理を行うチッソ
リフローの場合、加熱室１の入口９と出口１０から外部
空気が侵入し、加熱室１の酸化濃度が次第に高くなる。
【００２８】ところが本装置によれば、加熱室１に侵入
してチッソガスに混入した空気中の酸素は、上記ごみ類
や、有機溶剤ガスを燃焼させるための酸素として積極的
に消費されるので、労せずして酸素を除去することがで
きる。
してチッソガスに混入した空気中の酸素は、上記ごみ類
や、有機溶剤ガスを燃焼させるための酸素として積極的
に消費されるので、労せずして酸素を除去することがで
きる。
【００２９】しかも本装置は、加熱室１に水素ガスやメ
タンガスなどの可燃性有機ガスを積極的に供給している
ので、酸化触媒の作用と相まって、チッソリフローの不
純物である酸素を効果的に分解除去することができる。 因みに、可燃性有機ガスとして水素を使用する場合、酸
素と水素が反応して水蒸気が生成され、またメタンガス
を使用する場合は、炭酸ガスと水蒸気が生成されるが、
水蒸気や炭酸ガスは、リフローに殆ど悪影響を及ぼさな
い。
タンガスなどの可燃性有機ガスを積極的に供給している
ので、酸化触媒の作用と相まって、チッソリフローの不
純物である酸素を効果的に分解除去することができる。 因みに、可燃性有機ガスとして水素を使用する場合、酸
素と水素が反応して水蒸気が生成され、またメタンガス
を使用する場合は、炭酸ガスと水蒸気が生成されるが、
水蒸気や炭酸ガスは、リフローに殆ど悪影響を及ぼさな
い。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、加熱室と
、この加熱室に配設されたヒータ及びファンと、この加
熱室に設けられた熱風の循環路と、この循環路に配設さ
れた酸化触媒から成る有機物分解ユニットと、この加熱
室にチッソガスを供給するチッソガス供給手段と、可燃
性有機ガスを供給する可燃性有機ガス供給手段とからチ
ッソリフロー装置を構成しているので、加熱室内の加熱
された空気を加熱室外へ排出する必要はなく、循環路を
循環させながら煙や有機溶剤ガスを分解除去することが
でき、それだけ熱効率を向上させて、ランニングコスト
を下げることができ、更には外部から加熱室内に侵入し
た酸素も効果的に除去できる。
、この加熱室に配設されたヒータ及びファンと、この加
熱室に設けられた熱風の循環路と、この循環路に配設さ
れた酸化触媒から成る有機物分解ユニットと、この加熱
室にチッソガスを供給するチッソガス供給手段と、可燃
性有機ガスを供給する可燃性有機ガス供給手段とからチ
ッソリフロー装置を構成しているので、加熱室内の加熱
された空気を加熱室外へ排出する必要はなく、循環路を
循環させながら煙や有機溶剤ガスを分解除去することが
でき、それだけ熱効率を向上させて、ランニングコスト
を下げることができ、更には外部から加熱室内に侵入し
た酸素も効果的に除去できる。
【図１】本発明に係るチッソリフロー装置の側面図
【図
２】本発明に係るチッソリフロー装置の断面図
２】本発明に係るチッソリフロー装置の断面図
１ 加熱室
２ ヒータ
３ ファン
２３ 有機物分解ユニット
３１ チッソガス供給手段
３２ 可燃性有機ガス供給手段
Claims (1)
- 【請求項１】加熱室と、この加熱室に配設されたヒータ
及びファンと、この加熱室に設けられた熱風の循環路と
、この循環路に配設された酸化触媒から成る有機物分解
ユニットと、この加熱室にチッソガスを供給するチッソ
ガス供給手段と、可燃性有機ガスを供給する可燃性有機
ガス供給手段とから成ることを特徴とするチッソリフロ
ー装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3145834A JP2990857B2 (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | チッソリフロー装置 |
| US07/835,332 US5195674A (en) | 1991-02-14 | 1992-02-14 | Reflow system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3145834A JP2990857B2 (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | チッソリフロー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04371367A true JPH04371367A (ja) | 1992-12-24 |
| JP2990857B2 JP2990857B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=15394191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3145834A Expired - Fee Related JP2990857B2 (ja) | 1991-02-14 | 1991-06-18 | チッソリフロー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2990857B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006303318A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Suzuki Co Ltd | リフロー炉 |
| JP2006351570A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Suzuki Co Ltd | リフロー炉 |
| JP2007273571A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tamura Furukawa Machinery:Kk | リフロー炉 |
| US8883667B2 (en) | 2006-10-11 | 2014-11-11 | Nikki-Universal Co., Ltd. | Purification catalyst for reflow furnace gas, method for preventing contamination of reflow furnace, and reflow furnace |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2921139B2 (ja) | 1991-02-14 | 1999-07-19 | 松下電器産業株式会社 | リフロー装置 |
-
1991
- 1991-06-18 JP JP3145834A patent/JP2990857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006303318A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Suzuki Co Ltd | リフロー炉 |
| JP2006351570A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Suzuki Co Ltd | リフロー炉 |
| JP2007273571A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tamura Furukawa Machinery:Kk | リフロー炉 |
| US8883667B2 (en) | 2006-10-11 | 2014-11-11 | Nikki-Universal Co., Ltd. | Purification catalyst for reflow furnace gas, method for preventing contamination of reflow furnace, and reflow furnace |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2990857B2 (ja) | 1999-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091015 Year of fee payment: 10 |
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