JPH0437660Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0437660Y2
JPH0437660Y2 JP11138486U JP11138486U JPH0437660Y2 JP H0437660 Y2 JPH0437660 Y2 JP H0437660Y2 JP 11138486 U JP11138486 U JP 11138486U JP 11138486 U JP11138486 U JP 11138486U JP H0437660 Y2 JPH0437660 Y2 JP H0437660Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
wall
bottom wall
processing
processed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP11138486U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6320980U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP11138486U priority Critical patent/JPH0437660Y2/ja
Publication of JPS6320980U publication Critical patent/JPS6320980U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0437660Y2 publication Critical patent/JPH0437660Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、処理槽内の処理液に浸漬して或いは
処理槽内で処理液を散布して被処理物を処理する
処理槽装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、処理槽において処理液を用いて処理した
後の被処理物は、保持部材によりそのまま水平方
向に移動させられて次工程に移送されている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
従つて、被処理物に付着した処理液は空中を水
平に移送される間に滴下するので、例えば処理液
が腐蝕性液である場合は、移送路下方の装置構成
部品に腐蝕が生じて、問題となつていた。
本考案は、この問題点を解決しようとするもの
で、処理槽付近に処理液の滴下による支障を生ず
るおそれのない処理槽装置を提供することを目的
とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、被処理物の保持部材が処理槽に対し
て上下動および水平動させる手段を有し、該処理
槽内で処理液を用いて処理した後の被処理物を前
記保持部材で保持して次工程に移送するよにした
処理槽装置において、前記処理槽の一つである薬
液槽の上方に底壁と周側壁とでシヤワー室を区画
形成し、該シヤワー室に散水装置を、前記底壁に
は排水口を設け、前記周側壁は被処理物の入口,
出口を形成するように構成され、前記底壁を周側
壁に対して移動可能に設けて被処理物の通過を許
す通路を形成したことを特徴とする処理槽装置で
ある。
〔作用〕
薬液槽1の腐蝕性の処理液が付着した被処理物
である被洗浄物4は、薬液槽1の上方に備えたシ
ヤワー室15に、底壁9を移動して開口形成され
る通路28から、収容し、該通路28を閉めて散
水装置17から水を散布して薬液を洗い流し、洗
い流した液体は底壁9の排水口25から槽外に排
出され、周側壁13側の出口22より出して次工
程例えば、後水洗槽3を経由して次工程へと移送
される。したがつて、処理槽から次工程に至る装
置構成部品に腐蝕を生ずることがない。
〔実施例〕
本考案を、薬液を用いて洗浄する洗浄槽装置に
実施した例につき図面を用いて説明する。
処理槽は薬液槽1と、前工程が行われる前水洗
槽2と、次工程が行われる後水洗槽3とが上流側
と下流側に隣接されて構成されている。被処理物
である被洗浄物4の搬送機構としては、前記前水
洗槽2と、薬液槽1及び後水洗槽3との3つの槽
に沿つて走行体5をレール6上に走行配備して水
平方向に移動できるようにしたものが用いられ
る。
走行体5には槽上に伸びたアーム7を上下動自
在に備え、アーム7には被洗浄物4を収容保持す
るバスケツト8が保持部材として吊垂されてい
る。
前記薬液槽1の上方には、水平方向搬送高さに
ある被洗浄物4を囲繞するように、底壁9と、前
壁10、後壁11、両側壁12,13からなる周
側壁及び天井壁14でシヤワー室15が区画形成
されている。
後壁11と天井壁14は薬液槽1の外壁に固定
された支持部材16に設けられ、シヤワー室15
内の上方部には散水装置17が適宜個数設けられ
ている。
側壁12,13は後壁11に屈曲可能に連結し
た開閉壁で、一方の側壁12は、前水洗槽2の上
方からシヤワー室15領域内への入口21を、ま
た、他方の側面13は、シヤワー室15内から後
水洗槽3上方への出口22を形成するのにそれぞ
れ開閉するように設けられている(第3図参照)。
そして、両側壁12,13は中央部と後壁11の
側端部に上下方向の折曲線18,18を備え、前
壁10と当接する側の上端部を天井壁14の外側
部搬送方向に直交する水平方向に設けたロツドレ
スシリンダ19に連結したブラケツト20に連結
してあつて、ブラケツト20が、前壁10の方に
移動して入口21又は出口22を閉じ、ブラケツ
ト20が後壁11の方に移動して両側壁12,1
3が折畳み状態となつて開くようにしてある。2
3はガイドローラ、24はガイドレールで、天井
14の側壁に設けられている。
底壁9は排水口25を備えた受樋で、前壁10
を連結して備えている。前壁10と天井壁14と
の間は搬送高さのアーム7の貫通を許す間隙だけ
あけられている。そして、底壁9は、支持部材1
6に搬送方向に平行に設けたロツドレスシリンダ
26にブラケツト27を介して連結され、薬液槽
1上方から後水洗槽3上方まで移動して、薬液槽
1内とシヤワー室15領域内との間の通路28を
開口し、また、後水洗槽3上方から薬液槽1上方
に移動して通路28を閉じるようにしてある。2
9はガイドローラ、30はガイドレールで薬液槽
1の外槽上方部に設けられている。31は底壁9
の上面に設けられた排水促進用ガイド板である。
なお、各処理槽は2重槽で、発生したガスをジ
ヤケツト部32に流下させて、排出するようにな
つている。また、排水口25の移動する範囲の下
方には排水溝33が設けられている。
しかして、前水洗槽2で前洗された被洗浄物4
は、バスケツト8に吸収されてアーム7を介して
走行体5に保持され、薬液槽1上方に移動する。
このとき、アーム7は被洗浄物4を水平方向に搬
送する高さにあり、シヤワー室15は一方の側壁
12が開かれて入口21が開口し、且つ底壁9は
前壁10とともに後水洗槽3上に移動して通路2
8が開口している。
次でアーム7を被洗浄物4の薬洗高さまで下降
させて、被洗浄物4を薬液に浸積して薬液槽1で
薬液洗浄を行う。
薬液洗浄が終了したら、アーム7を再び搬送高
さ即ちシヤワー高さに上昇させる。そして底壁9
及び前壁10を薬液槽1上方の所定位置まで移動
させて通路28を閉じ、且つ側壁12を閉じて入
口21を閉鎖し、シヤワー室15を密閉状態とし
た後、散水装置17から水を被洗浄物4に散布し
て薬液を洗い流す。排水は底壁9の排水口25か
ら排出され、シヤワー時間はタイマにより調整さ
れる。
シヤワーが終了したら、他方の側壁13を開い
て出口22を開口し、被洗浄物4を後水洗槽3上
方まで移動させる。この間に底壁9も同時に後水
洗槽3上方まで移動させ、側壁12も開いて次な
る走行体5に保持された被洗浄物4を前述のよう
にシヤワー室15領域を経由させて薬液槽1内に
浸漬すれば動作にムダが生じないし、薬液槽1上
方から後水洗槽3上方まで移動する間に滴下する
水も底壁9で捕集し排出することができる。
次で、次なる被洗浄物4の薬液洗浄が終了して
シヤワー高さに上昇させた後、底壁9を薬液槽1
上方に戻し、両側壁12,13を閉じる。そして
後水洗槽3上方の先の被洗浄物4は、後水洗槽3
内で後洗浄され、シヤワー室15内では次なる被
洗浄物4が薬液を洗い流される。
後水洗槽3に入る被洗浄物4は、シヤワー室1
5で既に大部分の薬液を洗い流されているので、
後水洗槽3の汚染を極めて少なくすることができ
る。
なお、水平方向の搬送高さとシヤワー高さが等
しい例で説明したが、高さを変えて備えることも
できる。例えば搬送高さよりさらに高くシヤワー
室15が形成されるものにあつては、底壁9と前
壁10を開閉可能に形成して通路28に出口22
を兼ねさせ、アーム7をシヤワー高さ、搬送高
さ、浸漬高さの3段に上下動可能とすればよい。
また搬送高さと浸漬高さの中間にシヤワー室15
が形成されるものにあつてはやはり底壁9と前壁
10を開閉可能に形成し、天井壁14を設けずに
天井部を出口22とすればよい。
また、上述の実施例では、前壁10を移動して
アーム7との干渉をなくしたが、被洗浄物4の保
持形態に応じて壁の一部を移動させたりスリツト
を形成すればよいことはいうまでもない。
〔考案の効果〕
本考案により、処理槽付近に処理液の滴下によ
る支障を生ずるおそれのなく、装置構成部品の腐
蝕や汚染による環境の悪化のない処理槽装置とす
ることができ、安全で作業性良好な実用上顕著な
効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の実施例を示し、第1図は第2図
−線矢視正面図、第2図は第1図−線断
面側面図、第3図は第1図−線矢視平面図、
第4図は第2図−線矢視拡大正面図、第5図
は第1図−線断面拡大側面図、第6図は底壁
の平面図である。 1……薬液槽、2……前水洗槽、3……後水洗
槽、4……被洗浄物、5……走行体、6……レー
ル、7……アーム、8……バスケツト、9……底
壁、10……前壁、11……後壁、12……側
壁、13……側壁、14……天井壁、15……シ
ヤワー室、16……支持部材、17……散水装
置、18……折曲線、19……ロツドレスシリン
ダ、20……ブラケツト、21……入口、22…
…出口、23……ガイドローラ、24……ガイド
レール、25……排水口、26……ロツドレスシ
リンダ、27……ブラケツト、28……通路、2
9……ガイドローラ、30……ガイドレール、3
1……排水促進用ガイド板、32……ジヤケツト
部、33……排水溝。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 被処理物の保持部材8が処理槽に対して上下動
    および水平動させる手段5,7を有し、該処理槽
    内で処理液を用いて処理した後の被処理物を前記
    保持部材で保持して次工程に移送するようにした
    処理槽装置において、前記処理槽の一つである薬
    液槽1の上方に底壁9と周側壁10,11,1
    2,13とでシヤワー室15を区画形成し、該シ
    ヤワー室15に散水装置17を、前記底壁9には
    排水口25を設け、前記周側壁12,13は被処
    理物の入口21,出口22を形成するように構成
    され、前記底壁9を周側壁に対して移動可能に設
    けて被処理物の通過を許す通路28を形成したこ
    とを特徴とする処理槽装置。
JP11138486U 1986-07-22 1986-07-22 Expired JPH0437660Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11138486U JPH0437660Y2 (ja) 1986-07-22 1986-07-22

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11138486U JPH0437660Y2 (ja) 1986-07-22 1986-07-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6320980U JPS6320980U (ja) 1988-02-12
JPH0437660Y2 true JPH0437660Y2 (ja) 1992-09-03

Family

ID=30991256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11138486U Expired JPH0437660Y2 (ja) 1986-07-22 1986-07-22

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0437660Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6320980U (ja) 1988-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6321760B1 (en) Industrial cleaning facility
JP2620866B2 (ja) 連続的に走行する帯材を表面処理をする装置
US4361163A (en) Apparatus for washing semiconductor materials
US5803984A (en) Method and apparatus for rinsing steel product
KR0165559B1 (ko) 반송장치
SU606534A3 (ru) Установка дл санитарной обработки животный
JPH0437660Y2 (ja)
US3699983A (en) Wet processing installation
US3616806A (en) Washing apparatus
US4756322A (en) Means for restoring the initial cleanness conditions in a quartz tube used as a reaction chamber for the production of integrated circuits
US5651797A (en) Apparatus and method for the immersion cleaning and transport of semiconductor components
US3785387A (en) Chemical processing facility
JP3343344B2 (ja) 超音波洗浄装置
JPH06136809A (ja) トイレ装置
JPS61247034A (ja) 半導体スライスの洗浄方法
JPH0244522Y2 (ja)
CN214391322U (zh) 一种工件清洗槽
JPH0810393Y2 (ja) 表面処理装置
US2672149A (en) Machine for washing and rinsing glass meter covers and the like
JP7833854B2 (ja) 容器洗浄装置
JPS6328204Y2 (ja)
JPS6169983A (ja) 処理装置
JPH0639637Y2 (ja) 小型食器洗浄機
GB2028175A (en) Process for rinsing or other treatment of articles in plants for surface treatment
JPH04334579A (ja) 洗浄装置