JPH0437803A - 回折格子の作製方法 - Google Patents
回折格子の作製方法Info
- Publication number
- JPH0437803A JPH0437803A JP14697690A JP14697690A JPH0437803A JP H0437803 A JPH0437803 A JP H0437803A JP 14697690 A JP14697690 A JP 14697690A JP 14697690 A JP14697690 A JP 14697690A JP H0437803 A JPH0437803 A JP H0437803A
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- Japan
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- resist
- intensity
- diffraction grating
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- Pending
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分膏〕
この発明は、回折格子の作製方法に関するものである。
第４図は、回折格子の形成に用いられる干渉露光装置を
示す図である。この図において、１はレーザ光源、２は
ハーフミラ−３はミラー、４は回折格子を形成する基板
、５はレジストである。
示す図である。この図において、１はレーザ光源、２は
ハーフミラ−３はミラー、４は回折格子を形成する基板
、５はレジストである。
第５図（ａ）〜（ｅ）は従来の回折格子の作製方法を説
明する図であり、基板４上にレジスト５を塗布した後（
第５図（ａ）） 、干渉露光法により周期的に露光しく
第５図（ｂ）） 、これによって露光強度は第５図（ｅ
）のように周期的に変化するので、露光されたレジスｌ
−５を現像すると、第５図（ｄ）のようになる。その後
、エツチングすることにより回折格子が形成される（第
５図（ｅ））。
明する図であり、基板４上にレジスト５を塗布した後（
第５図（ａ）） 、干渉露光法により周期的に露光しく
第５図（ｂ）） 、これによって露光強度は第５図（ｅ
）のように周期的に変化するので、露光されたレジスｌ
−５を現像すると、第５図（ｄ）のようになる。その後
、エツチングすることにより回折格子が形成される（第
５図（ｅ））。
次に、干渉露光法の原理について説明する。
レーザ光源１より放射されたし一ザ光は、ハフミラー２
により２方向に分けられ、ミラー３により反射されるこ
とで基板４上で再び合波される。
により２方向に分けられ、ミラー３により反射されるこ
とで基板４上で再び合波される。
このとき、両Ｌ・−ザ光の干渉により基板４上の光の強
度は、 λ で表される周期の分布を持つ。ここでλはレーザ光の波
長、θはレーザ光の基板４への入射角を表す。
度は、 λ で表される周期の分布を持つ。ここでλはレーザ光の波
長、θはレーザ光の基板４への入射角を表す。
従来の回折格子の作製は、上記の原理を利用したもので
あり、基板４上に塗布したレジス］・５を周期へのピッ
チで部分的に露光した後、現像、エツチングにより行わ
れる。
あり、基板４上に塗布したレジス］・５を周期へのピッ
チで部分的に露光した後、現像、エツチングにより行わ
れる。
従来の回折格子は、以上のようにして作製されるため、
レーザ光源１の波長λの半分以下の周期の回折格子を形
成することができないという問題点があった。
レーザ光源１の波長λの半分以下の周期の回折格子を形
成することができないという問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するなめになさ
れたもので、周期の短い回折格子の形成が可能な回折格
子の作製方法を得ることを目的とする。
れたもので、周期の短い回折格子の形成が可能な回折格
子の作製方法を得ることを目的とする。
この発明に係る回折格子の作製方法は、露光強度に対し
現像速度が極値を持つレジストを基板上に塗布し、露光
強度の最大値と最小値が、現像速度が極値となる強度の
両側の強度となるように干渉露光を行った後、現像し、
このレジストを用いて基板のエツチングを行うものであ
る。
現像速度が極値を持つレジストを基板上に塗布し、露光
強度の最大値と最小値が、現像速度が極値となる強度の
両側の強度となるように干渉露光を行った後、現像し、
このレジストを用いて基板のエツチングを行うものであ
る。
〔作用〕
この発明における回折格子の作製方法は、露光強度に対
し現像速度が極値を持つレジストを用いることにより、
干渉露光法により得られる千渉稿の半分の周期の回折格
子パターンが得られる。
し現像速度が極値を持つレジストを用いることにより、
干渉露光法により得られる千渉稿の半分の周期の回折格
子パターンが得られる。
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図（、）〜（ｅ）はこの発明の一実施例を示す回折
格子の作製工程の断面図であり、４は回折格子を形成す
るための基板、６は露光強度に対し現像速度が極小値を
持つレジストである。
格子の作製工程の断面図であり、４は回折格子を形成す
るための基板、６は露光強度に対し現像速度が極小値を
持つレジストである。
回折格子は以下に示す工程により形成される。
まず、露光前に１１０〜１２０℃の温度でベークするこ
とにより、露光強度に対し現像速度が極小値を持つよう
になるレジスト（イメージリバーサルレジスト）６を基
板４上に塗布する（第１図（ａ））。次に、１１０〜１
２０℃の湿度で、約５分間ベークした後、干渉露光法に
より露光強度の最大値と最小値が現像速度が極小になる
強度の両側になるように露光する（第１図（ｂ））。
とにより、露光強度に対し現像速度が極小値を持つよう
になるレジスト（イメージリバーサルレジスト）６を基
板４上に塗布する（第１図（ａ））。次に、１１０〜１
２０℃の湿度で、約５分間ベークした後、干渉露光法に
より露光強度の最大値と最小値が現像速度が極小になる
強度の両側になるように露光する（第１図（ｂ））。
露光強度は第１図（Ｃ）のようになる。次に、現像速度
が極小になる強度で露光された部分のレジスト６が残る
ようにレジストを現像する（第１図（ｄ））。最後に適
当なエツチング液、例えばＨＢ ｒ 、ＨＮ Ｏ３，Ｈ
２０屁合溶液、ＨＢｒ、ＨＮＯ３゜ＣＨ３０ＨＵ合溶液
、Ｂｒ２．ＣＨ３０Ｈ混合溶液等によりエツチングする
ことにより回折格子を形成する（第１図（ｅ））。
が極小になる強度で露光された部分のレジスト６が残る
ようにレジストを現像する（第１図（ｄ））。最後に適
当なエツチング液、例えばＨＢ ｒ 、ＨＮ Ｏ３，Ｈ
２０屁合溶液、ＨＢｒ、ＨＮＯ３゜ＣＨ３０ＨＵ合溶液
、Ｂｒ２．ＣＨ３０Ｈ混合溶液等によりエツチングする
ことにより回折格子を形成する（第１図（ｅ））。
次に、露光強度に対し現像速度が極小値をもつようにな
るレジストの作用について説明する。
るレジストの作用について説明する。
イメージリバーサルレジストは、ｌｌ 光信１．Ｃ１１
０〜１２０℃の温度でベークすることにより、第２図に
示すような露光強度に対し現像速度が極小値を持つよう
になることが知られている（電子材料１９８６年６月号
参照）。
０〜１２０℃の温度でベークすることにより、第２図に
示すような露光強度に対し現像速度が極小値を持つよう
になることが知られている（電子材料１９８６年６月号
参照）。
また、干渉露光法による露光での露光強度は第３図に示
されるように、周期的な分布となる（周期Ａ第（１）式
参照）。
されるように、周期的な分布となる（周期Ａ第（１）式
参照）。
したがって、干渉露光による露光強度の最大値が現像速
度が極小値となる点（第２図ａ点）以上で、かつ露光強
度の最小値が現像速度が極小値となる点（第２図ａ点）
以下となるように露光することにより、現像速度が極小
値となる強度で露光された部分のレジストだけを残すよ
うに現像することができ、その後、工・ソチングするこ
とにより、干渉露光法で得られる干Ｐ）梢の周期の半分
の周期の回折格子を形成することが可能となる。
度が極小値となる点（第２図ａ点）以上で、かつ露光強
度の最小値が現像速度が極小値となる点（第２図ａ点）
以下となるように露光することにより、現像速度が極小
値となる強度で露光された部分のレジストだけを残すよ
うに現像することができ、その後、工・ソチングするこ
とにより、干渉露光法で得られる干Ｐ）梢の周期の半分
の周期の回折格子を形成することが可能となる。
なお、上記実施例では露光強度に対し現像速度が極小値
を持つレジストを用いたものについて示したが、現像速
度が極大値を持っレジストについても上記実施例と同様
の効果を有することは言うまでもない。
を持つレジストを用いたものについて示したが、現像速
度が極大値を持っレジストについても上記実施例と同様
の効果を有することは言うまでもない。
以上説明したように、この発明は、露光強度に対し現像
速度が極値を持つレジスＩ・を基板上に塗布し、露光強
度の最大値と最小値が、現像速度が極値となる強度の両
側の強度となるように干渉露光を行った後、現像し、と
のレジストを用いて基板のエツチングを行うので、干渉
露光法により得られる干渉稿の半分の周期の回折格子が
形成できるという効果がある。
速度が極値を持つレジスＩ・を基板上に塗布し、露光強
度の最大値と最小値が、現像速度が極値となる強度の両
側の強度となるように干渉露光を行った後、現像し、と
のレジストを用いて基板のエツチングを行うので、干渉
露光法により得られる干渉稿の半分の周期の回折格子が
形成できるという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による回折格子の作製方法
を示す工程断面図、第２図は１１０〜１２０℃でベーク
された後のイメージリバーサルレジストの露光強度に対
する現像速度の関係を示す図、第３図は干渉露光法によ
る露光強度分布を示す図、第４図は干渉露光装置を示す
図、第５図は従来の回折格子の作製方法を示す図である
。 図において、１はレーザ光源、２はハーフミラ、３はミ
ラー、４は回折格子を形成する基板、６は露光強度に対
し現像速度が極値を持つレジストである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第 図 α 露光強度 第 図 位置 ｑフー
を示す工程断面図、第２図は１１０〜１２０℃でベーク
された後のイメージリバーサルレジストの露光強度に対
する現像速度の関係を示す図、第３図は干渉露光法によ
る露光強度分布を示す図、第４図は干渉露光装置を示す
図、第５図は従来の回折格子の作製方法を示す図である
。 図において、１はレーザ光源、２はハーフミラ、３はミ
ラー、４は回折格子を形成する基板、６は露光強度に対
し現像速度が極値を持つレジストである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第 図 α 露光強度 第 図 位置 ｑフー
Claims (1)
- 露光強度に対し現像速度が極値を持つレジストを基板上
に塗布し、露光強度の最大値と最小値が、現像速度が極
値となる強度の両側の強度となるように干渉露光を行っ
た後現像し、このレジストを用いて前記基板のエッチン
グを行うことを特徴とする回折格子の作製方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14697690A JPH0437803A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | 回折格子の作製方法 |
| CA002023510A CA2023510C (en) | 1989-08-18 | 1990-08-17 | Single wavelength oscillating semiconductor laser device and method for manufacturing diffraction grating |
| US07/568,889 US5238785A (en) | 1989-08-18 | 1990-08-17 | Method of manufacturing a diffraction grating for a semiconductor laser |
| EP90115836A EP0413365B1 (en) | 1989-08-18 | 1990-08-17 | Method of manufacturing a diffraction grating |
| DE69018336T DE69018336T2 (de) | 1989-08-18 | 1990-08-17 | Verfahren zur Herstellung eines Beugungsgitters. |
| US08/058,371 US5386433A (en) | 1989-08-18 | 1993-05-10 | Semiconductor laser including periodic structures with different periods for producing a single wavelength of light |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14697690A JPH0437803A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | 回折格子の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437803A true JPH0437803A (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15419820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14697690A Pending JPH0437803A (ja) | 1989-08-18 | 1990-06-04 | 回折格子の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0437803A (ja) |
-
1990
- 1990-06-04 JP JP14697690A patent/JPH0437803A/ja active Pending
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