JPH0438384Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、パネル表面を押圧することにより、
押圧した部分が着色する、所謂タツチ式デイスプ
レイパネルに関する。詳しくは、電圧印加によ
り、可逆的な着色、消色をするエレクトロクロミ
ツクデイスプレイ（以下、ECDと略記すること
もある）素子を用いたタツチ式デイスプレイパネ
ルである。

〔従来の技術及び問題点〕

従来、ECD素子を使用したタツチ式デイスプ
レイパネルとして第２図に示すものが知られてい
る。即ち、ガラス板のような透明な基板１４上
に、導電層３、エレクトロクロミツク層（以下、
EC層と略記することもある）４、電解質層５、
対向電極層６及び導電層７を順次積層したデイス
プレイ基板と空間１１を隔てて可撓性を有する電
極１３を設けた構造である。

しかしながら、上記のタツチ式デイスプレイパ
ネルは、押圧する面、即ちタツチ入力面である可
撓性を有する電極面１３とデイスプレイ面である
透光な基板とがパネルの反対側に位置するため、
押圧による表示を直接見ることが困難であつた。
また、かかる問題を解消するため、可撓性を有す
る電極を透明な材質で構成し、該タツチ入力面側
から表示を見ることができるようにすることも考
えられる。しかし、このようなタツチ式デイスプ
レイパネルは、可撓性を有する電極１３及び空間
１１を介してECD素子の表示を見るため、表示
の鮮明度が低く、特に該電極１３の表面に細かい
傷がついた場合には表示が著しく不鮮明になると
いう問題を有していた。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案者等は、かかる問題を解決すべく研究を
重ねた結果、可撓性を有するフイルム状のエレク
トロクロミツクデイスプレイ素子と電極面を有す
る電極基板とを空間を隔てて対向させることによ
り、可撓性ECDフイルム側からパネルを押圧す
ることができるため、タツチ入力面から直接表示
を見ることができ、表示の鮮明度を著しく向上し
得ることを見い出し、本考案を完成した。

本考案は、可撓性を有するフイルム状のエレク
トロクロミツクデイスプレイ素子と電極面を有す
る電極基板とを空間を隔てて対向させたタツチ式
デイスプレイパネルである。

以下、本考案を添付図面に従つて詳細に説明す
るが、本考案はこれらの添付図面に限定されるも
のではない。第１図は、本考案のタツチ式デイス
プレイパネルの代表的な態様について、その部分
断面を示す斜視図である。

本考案において、可撓性ECDフイルムは、可
撓性を有するフイルム状ECD素子より構成され
ていれば特に制限されないが、第１図に示すよう
に押圧する面に保護用の可撓性を有する透明フイ
ルム１を設け、これに導電層３、エレクトロクロ
ミツク層４、電解質層５、対向電極層６及び導電
層７よりなるECD素子を積層して可撓性ECDフ
イルム８を構成することが好ましい。

上記の可撓性を有する透明フイルム１は、公知
のものが特に制限なく使用される。例えば、ポリ
エチレンテレフタレートフイルム、ポリカーボネ
ートフイルム等が透明性及び耐擦傷性の面で好適
に使用される。

また、導電層３及び導電層７は電子導電性を示
すことを要件とするが、第１図に示す態様におい
ては、少なくとも導電層３ができるだけ透明であ
ることが、透明フイルム１側からEC層４の表示
を見るために好ましい。かかる導電層としては、
例えば酸化インジウムに酸化スズをドープしたも
の、酸化すず、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カド
ミウム、すず酸化カドミウム等の酸化物半導体薄
膜あるいは、厚さ500〓以下の金、銀等の薄膜が
透明性を付与する場合に好適に使用される。ま
た、導電層７のように透明性を要求されない場合
は銅、銀等の500〓を越える膜でも使用し得るが
該膜の厚みは1μ以下とすることが好ましい。か
かる導電性層の形成方法としては、例えばスパツ
タリング、真空蒸着、イオンプレーテイング、ス
プレー法、ゾルーゲル法、CVD法等の公知の方
法を採用することができる。

尚、対向電極層が高い電子導電性を示す場合は
導電層７は必要でない。

また、EC層４は、エレクトロクロミツク物質
を含む層であればよい。該エレクトロクロミツク
物質としては例えば、無定形酸化タングステンが
最も代表的であるが、その他にも、有機色素、金
属錯体、遷移金属化合物、有機物の高分子体など
が適宜採用される。該EC層の形成方法としては、
例えば真空蒸着、スパツタリング、イオンプレー
テイング、プラズマ等の公知の方法が適宜採用さ
れる。また、他の形成方法として塩化タングステ
ンをアルコール等の有機溶媒に溶解した液を膜状
に形成し、該有機溶媒を除去した後、或いは除去
と同時に水中又は水蒸気中で加水分解する方法も
好適である。EC層は、一般に100〓〜5μの厚さが
好ましい。

本考案において、電解質層５を構成する電解質
は、公知のものが特に制限なく使用し得るが、可
撓性を有する固体電解質を用いることが好まし
い。例えば、高分子体に電解質物質を分散させた
もの、具体的には分子量1000以上のポリアルキレ
ンオキサイドに、過塩素酸アルカリ等の電解質物
質を分散させたものが挙げられる。また、イオン
交換基を有する重合体、例えば、イオン交換体を
電解質として用いることが、得られるECD素子
の応答速度及びコントラスト比が向上するために
好ましい。かかる電解質層の厚みは一般に1000〓
〜200μmが好適である。また、電解質層の形成方
法としては、例えば、スピンナー法、スクリーン
印刷等の公知の方法が採用される。

対向電極層６としては、公知のものが使用でき
る。例えば酸化インジウム、酸化インジウム−酸
化すず膜（ITO膜）、無定形酸化タングステン、
鉄錯体、遷移金属化合物−カーボン焼結体及び酸
化マンガン等が挙げられる。形成方法としては、
スパツタリング、真空蒸着、電解メツキ等の公知
の方法が採用される。尚、本発明に於ける対向電
極とは、上記で説明した公知のものの他、エレク
トロクロミツク層と透明導電層との２層からな
り、電極として機能するものをも含む。

対向電極層の厚みは100〓〜80μmが好ましい。

第１図においては、可撓性ECDフイルム８の
構成として、可撓性を有する透明フイルム１に導
電層３、EC層４、電解質層５、対向電極層６及
び導電層７を順次積層する態様を示したが、その
他、可撓性を有する透明フイルム１に導電層７、
対向電極層６、電解質層５、EC層４及び導電層
３を順次積層した態様も採用される。かかる態様
においては、導電層７、対向電極層６及び電解質
層５は透明性を有する材質を選択して使用すれば
よい。しかし、表示の鮮明度の点で、第１図に示
す態様の可撓性ECDフイルムが好適である。

また、可撓性ECDフイルム８におけるECD素
子は、第１図に示すように、酸化珪素の蒸着、絶
縁性を有するインクを用いたスクリーン印刷によ
り形成された絶縁体１２により、平面方向に対し
て複数個のセグメントに分割することが好まし
い。かかるセグメントの大きさ、形状等は表示す
る文字、図形線等の大きさ、形状、解像度等に応
じて適宜決定すればよい。尚、第１図はEC素子
の全層が分割された態様を示したが、導電層３、
EC層４及び電解質層５或いはEC層４、電解質層
５及び導電層７が複数のセグメントに分割されて
いれば充分である。

上記の可撓性ECDフイルムの厚みは一般に
500μm以下、好ましくは100〜300μm程度が好ま
しく、かかる範囲となるように各層の厚みを決定
すればよい。以下、可撓性ECDフイルムの代表
的な製法を例示するが、これに限定されるもので
はない。

まず透明な可撓性フイルム上に、例えば酸化イ
ンジウムに酸化すずをドープしたものをスパツタ
リング等の方法により透明導電層を形成する。次
いで、その上に真空蒸着、スパツタリング等の方
法によりエレクトロクロミツク層を形成する。こ
の際、エレクトロクロミツク層を複数個に分割す
るには、エレクトロクロミツク層の形成前にフオ
トレジストを用いてITO全面にレジストを塗布し
てエレクトロクロミツク層を形成したい部分のみ
レジストを剥離してその状態でエレクトロクロミ
ツク層を形成する。形成後、残つていたレジスト
と共に不必要な部分のエレクトロクロミツク層を
剥離することで、エレクトロクロミツク層を複数
個に分割できる。次にエレクトロクロミツク層の
形成されていない部分に絶縁体をスクリーン印刷
等の方法により形成する。そして、エレクトロク
ロミツク層上に電解質層をスクリーン印刷等の方
法により形成し、その上に対向電極層をスクリー
ン印刷等の方法で形成する。さらにその上に導電
層をスクリーン印刷等の方法により順次積層する
ことで、透明な可撓性フイルム上にECD素子を
形成して可撓性デイスプレイフイルムをつくるこ
とができる。

本考案において、電極基板２は、デイスプレイ
パネルとしてある程度の強度を有するものであれ
ば特に制限なく使用される。例えばガラス板、プ
ラスチツク板、金属板などが挙げられるが、特に
透明である必要はない。また、電極面９は、上記
電極基板２に形成されるものであり、材質は導電
性を有するものであれば特に制限されない。例え
ば銅、ニツケル、アルミニウム等の金属が挙げら
れる。電極面の形成方法としては、例えば、スパ
ツタリング、プラズマ、真空蒸着、圧延銅を積層
する方法等が挙げられる。尚、電極基板２自体が
導電性を有している場合は、別途電極面を形成さ
せる必要はない。

本考案において、可撓性ECDフイルム８と電
極基板２との空間１１の間隙は、小さ過ぎると誤
作動が起こり易く、大き過ぎると操作性が悪いば
かりでなく、可撓性ECDフイルム８も屈曲も激
しくなり寿命が低下する。そのため、かかる間隙
は５〜1000μm、好ましくは10〜300μmとするこ
とが好ましい。

上記した空間１１を均一に維持するために、ス
ペーサー１０を介して可撓性デイスプレイフイル
ム８と電極基板２とを積層することは好ましい態
様である。かかるスペーサーの厚みは空間１１の
間隙に応じて決定すればよく、切欠部の大きさ形
状は特に制限されないが、EC素子のセグメント
の形状に応じて決定するのが一般的である。該ス
ペーサー１０の材質は絶縁性を有するものであれ
ば特に制限されない。例えば、ゴム、プラスチツ
ク、セラミツクス、紙等が一般に使用される。

本考案のタツチ式デイスプレイパネルを作動さ
せるための配線は電極基板２の電極面９と可撓性
ECDフイルム８の透明フイルム１側に位置する
EC素子の導電層（第１図にあつては導電層３）
とを夫々電源と接続することにより行うことがで
きる。この場合、該導電層が複数のセグメントに
分割されている場合には、個々のセグメントに位
置する導電層を直接電源に接続してもよいし、
EC素子内で導電層を電気的に接続して電源に接
続してもよい。

〔作用及び効果〕

本考案のタツチ式デイスプレイパネルは、可撓
性ECDフイルムと電極基板とより成る。即ち、
可撓性ECDフイルム８を押圧（タツチ入力）す
ることにより、該可撓性ECDフイルム８が電極
基板２の電極面９に接触し、ECD素子に電圧が
印加されてEC層４の反応が起こる。そして、か
かる反応によつて表われるEC層４の発色は、上
記の空間１１を介することなく直接見ることがで
きる。

従つて、タツチ入力面から表示を見ることが可
能であると共に、EC層４の発色を空間１１を介
すことなく見ることができるため、表示が極めて
鮮明であるという効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の代表的な態様のタツチ式デイ
スプレイパネルの部分断面を示す斜視図、第２図
は従来のタツチ式デイスプレイパネルの部分断面
を示す斜視図である。 １……可撓性を有する透明フイルム、２……電
極基板、３……導電層、４……EC層、５……電
解質層、６……対向電極層、７……導電層、８…
…可撓性ECDフイルム、９……電極面、１０…
…スペーサー、１１……空間、１２……絶縁体、
１３……電極、１４……基板。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 可撓性を有するフイルム状のエレクトロクロミ
   ツクデイスプレイ素子と電極面を有する電極基板
   とを空間を隔てて対向させたタツチ式デイスプレ
   イパネル。