JPH043863B2 - - Google Patents
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- JPH043863B2 JPH043863B2 JP59046873A JP4687384A JPH043863B2 JP H043863 B2 JPH043863 B2 JP H043863B2 JP 59046873 A JP59046873 A JP 59046873A JP 4687384 A JP4687384 A JP 4687384A JP H043863 B2 JPH043863 B2 JP H043863B2
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- rubber layer
- photosensitive
- dampening water
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/115—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
〔発明の分野〕
本発明は湿し水不要感光性平版印刷版の製造法
に関するものである。特に原画像の再現性および
原画(フイルムオリジナル)との密着性に優れた
湿し水不要感光性平版印刷版の製造法に関するも
のである。 〔従来技術〕 インキ反撥性の非画線部としてシリコーンゴム
層を最上層に有する湿し水不要感光性平版印刷版
は例えば特公昭44−23042号、特公昭46−16044
号、特公昭51−17081号、特開昭48−94503号、特
公昭55−22781号など数多く提案されて居る。 これ等の湿し水不要感光性平版印刷版に画像を
形成するためには、通常原画を通して活性光線に
よる露光がおこなわれるが、原画を忠実に再現す
るためには該湿し水不要感光性平版印刷版表面に
原画を完全に密着させることが必要であつた。こ
のため一般にはゴムシートと圧着ガラスの間に該
湿し水不要感光性平版印刷版と原画とを重ねて配
置しゴムシートと圧着ガラスの間を真空にして密
着させる方法(以下真空密着法と呼ぶ)が用いら
れている。 しかしながら、従来のインキ反撥性層としての
シリコーンゴム層を最上層に有する湿し水不要感
光性平版印刷版の表面は非常に平滑でかつシリコ
ーンゴムが非常に密着性が良好であるため、いつ
たん原画フイルムとシリコーンゴム層が密着する
と密着部分は強固に固定されてしまい原画フイル
ムの位置合せが難しく、また気泡が入つたような
場合真空密着法により該湿し水不要感光性平版印
刷版の周辺部より空気を吸引しても中央部に入つ
た気泡を除去することが非常に困難である。従つ
て、湿し水不要感光性平版印刷版の全面にわたり
原画を完全に密着させるには、特に版サイズが大
きい場合非常に長時間が必要とされ、極端な場合
にはいくら時間をかけても密着しないことさえあ
つた。 このように真空密着に多大の時間を要すること
は、製版作業の効率を低下させ極めて不経済であ
るばかりでなく、原画の密着が不十分のまま露光
をおこなつた場合原画を忠実に再現することが出
来ないという致命的な問題があつた。また露光の
際にガスを発生するような感光層を有する湿し水
不要感光性平版印刷版の場合、画像露光中に発生
したガスが抜けないで版と原画の間にたまつて密
着をそこない、忠実な画像の再現を困難にした。 前者の問題を解決するために版面に凹凸を有す
るポリオレフインあるいはポリエステルフイルム
をその平滑面がシリコーンゴム層と接するように
設けることが特開昭55−55343号に提案されて居
る。しかしながら版面にプラステイツクフイルム
をラミネートすることは技術的に困難であるばか
りか経済的にも不利であることは言うまでも無
い。さらに版面にプラステイツクフイルムを設け
ると露光時に原画と感光性画像形成層(以下感光
層という)との距離が大きくなり、理想的な平行
光線が得られない現行の露光装置ではいわゆる焼
ぼけを生じやすく、原画に忠実な画像が再現しが
たいという問題もあつた。また露光により分解し
てガスを放出する性質を有する感光層を用いた場
合、原画をシリコーンゴム層上に密着させた場合
と同様、プラステイツクフイルムを設けた場合に
も露光により発生したガスがプラステイツクフイ
ルムを押し上げ原画との距離が大きくなり焼ぼけ
を生じるという重大な問題もあつた。 かかる問題を解決するためシリコーンゴム層上
に直接、不揮発性成分を含有する溶液もしくは分
散液を噴霧する方法が特開昭56−27150号に開示
されて居る。しかしながら該方法は単にシリコー
ンゴム層表面に水性溶液又は分散液を噴霧し乾燥
する方法であつて、シリコーンゴム層表面に付着
した微小凹凸表面はごく弱い力、例えばシリコー
ンゴム層表面を指で軽く触れる程度で脱落してし
まい、微小凹凸表面の存在が必要な焼付け工程ま
で安定に付着していないばかりか場合によつては
残存している微小凹凸表面がシリコーンゴム層表
面より脱落して粉体となり、これがオリジナルフ
イルムに付着しフイルムを汚してしまうという新
たな問題も発生した。 本発明者等はかかる問題を解決すべく鋭意検討
した結果以下に述べる本発明に到達した。 〔発明の構成〕 すなわち本発明はシリコーンゴム層を最上層と
する湿し水不要感光性平版印刷版のシリコーンゴ
ム層表面をコロナ放電処理し活性化された該シリ
コーンゴム層表面に不揮発性成分を含有する溶液
もしくは分散液を噴霧し乾燥することによりシリ
コーンゴム層表面に安定に固着している微小凸状
パターンを持つた湿し水不要平版印刷版が得られ
ることを見い出した。 本発明の方法が適用される湿し水不要感光性平
版印刷版は、基板に裏打ちされた感光性シリコー
ンゴム層を有するものであつてもよいし、またシ
リコーンゴム層下に必要ならば接着層を介して基
板に裏打ちされた公知の感光層を有するようなも
のであつてもよい。 基板としては、厚さが約10μ〜2mm、好ましく
は約50〜500μの紙、プラステツクフイルムもし
くはシート、金属板などが適当であるが、ゴム弾
性を有する基板、シリンダー状の基板を用いても
良い。 感光性シリコーンゴム層はシリコーンゴム層そ
のものが感光性のものであつて、この場合には感
光層は不要である。感光性シリコーンゴムとして
は、ジメチルポリシロキサンの末端OH基にγ−
メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
あるいはモノシンナモイルジエトキシシランを脱
アルコール縮合させた化合物、またポリジオルガ
ノシロキサンにビスアジド化合物を添加、あるい
はアクリロイルクロリドやp−アジドベンゾエー
トを反応させた化合物などをあげることができ
る。 また、シリコーンゴムに公知の感光性物質を混
合した感光性シリコーンゴム層を使用することも
できる。 感光層は活性な光線を照射することにより光硬
化または光可溶化する性質を有する層である。そ
の厚さは任意であるが、好ましくは約100μ以下
であり、さらに好ましくは約0.1〜10μのものがさ
らに有用である。 感光性物質としては、次のような構成のものが
適当である。 (1) 沸点100℃以上で、室温で不揮発性の不飽和
モノマあるいはそれらのオリゴマと光増感剤、
熱重合禁止剤と、必要ならば室温での形態保持
性を与えるための充填材および若干の添加物を
含む組成物。 不飽和モノマとしては、エチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、1−クロロ−2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチ
ル(メタ)アクリレートなどの一連のアクリル
酸エステル、メタアクリル酸エステル類、エチ
レンビスアクリルアミド、N−メチロールアク
リルアミド、メトキシメチルアクリルアミドな
どのアクリルアミド誘導体、トリアリルシアヌ
レート、トリアリルフオスフエート、ジアリル
フタレート、ジアリルマレートなどのアリルア
ルコールのエステル、その他スチレン誘導体、
を使用することができる。 光増感剤としては、ベンゾフエノン誘導体、
ベンゾイン誘導体、アントラキノン誘導体、ア
ルデヒド、ケトン、イオウ化合物、ハロゲン化
合物、あるいはメチレンブルー、リボフラビン
などの染料が使用できる。 熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン誘導
体、フエノール誘導体、ニトロ置換ベンゼン、
第3級アミン、フエノチアジン誘導体が用いら
れる。 充填剤あるいは添加物としては、コロイダル
シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
酸化鉄などの無機物の微細な粉末、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、分子
量数千のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル
ポリマ、硬化前のレゾールフエノール系、尿素
系、メラミン系、エポキシ系、不飽和ポリエス
テル系樹脂などがあげられる。 (2) 重合体の主鎖又は側鎖に
に関するものである。特に原画像の再現性および
原画(フイルムオリジナル)との密着性に優れた
湿し水不要感光性平版印刷版の製造法に関するも
のである。 〔従来技術〕 インキ反撥性の非画線部としてシリコーンゴム
層を最上層に有する湿し水不要感光性平版印刷版
は例えば特公昭44−23042号、特公昭46−16044
号、特公昭51−17081号、特開昭48−94503号、特
公昭55−22781号など数多く提案されて居る。 これ等の湿し水不要感光性平版印刷版に画像を
形成するためには、通常原画を通して活性光線に
よる露光がおこなわれるが、原画を忠実に再現す
るためには該湿し水不要感光性平版印刷版表面に
原画を完全に密着させることが必要であつた。こ
のため一般にはゴムシートと圧着ガラスの間に該
湿し水不要感光性平版印刷版と原画とを重ねて配
置しゴムシートと圧着ガラスの間を真空にして密
着させる方法(以下真空密着法と呼ぶ)が用いら
れている。 しかしながら、従来のインキ反撥性層としての
シリコーンゴム層を最上層に有する湿し水不要感
光性平版印刷版の表面は非常に平滑でかつシリコ
ーンゴムが非常に密着性が良好であるため、いつ
たん原画フイルムとシリコーンゴム層が密着する
と密着部分は強固に固定されてしまい原画フイル
ムの位置合せが難しく、また気泡が入つたような
場合真空密着法により該湿し水不要感光性平版印
刷版の周辺部より空気を吸引しても中央部に入つ
た気泡を除去することが非常に困難である。従つ
て、湿し水不要感光性平版印刷版の全面にわたり
原画を完全に密着させるには、特に版サイズが大
きい場合非常に長時間が必要とされ、極端な場合
にはいくら時間をかけても密着しないことさえあ
つた。 このように真空密着に多大の時間を要すること
は、製版作業の効率を低下させ極めて不経済であ
るばかりでなく、原画の密着が不十分のまま露光
をおこなつた場合原画を忠実に再現することが出
来ないという致命的な問題があつた。また露光の
際にガスを発生するような感光層を有する湿し水
不要感光性平版印刷版の場合、画像露光中に発生
したガスが抜けないで版と原画の間にたまつて密
着をそこない、忠実な画像の再現を困難にした。 前者の問題を解決するために版面に凹凸を有す
るポリオレフインあるいはポリエステルフイルム
をその平滑面がシリコーンゴム層と接するように
設けることが特開昭55−55343号に提案されて居
る。しかしながら版面にプラステイツクフイルム
をラミネートすることは技術的に困難であるばか
りか経済的にも不利であることは言うまでも無
い。さらに版面にプラステイツクフイルムを設け
ると露光時に原画と感光性画像形成層(以下感光
層という)との距離が大きくなり、理想的な平行
光線が得られない現行の露光装置ではいわゆる焼
ぼけを生じやすく、原画に忠実な画像が再現しが
たいという問題もあつた。また露光により分解し
てガスを放出する性質を有する感光層を用いた場
合、原画をシリコーンゴム層上に密着させた場合
と同様、プラステイツクフイルムを設けた場合に
も露光により発生したガスがプラステイツクフイ
ルムを押し上げ原画との距離が大きくなり焼ぼけ
を生じるという重大な問題もあつた。 かかる問題を解決するためシリコーンゴム層上
に直接、不揮発性成分を含有する溶液もしくは分
散液を噴霧する方法が特開昭56−27150号に開示
されて居る。しかしながら該方法は単にシリコー
ンゴム層表面に水性溶液又は分散液を噴霧し乾燥
する方法であつて、シリコーンゴム層表面に付着
した微小凹凸表面はごく弱い力、例えばシリコー
ンゴム層表面を指で軽く触れる程度で脱落してし
まい、微小凹凸表面の存在が必要な焼付け工程ま
で安定に付着していないばかりか場合によつては
残存している微小凹凸表面がシリコーンゴム層表
面より脱落して粉体となり、これがオリジナルフ
イルムに付着しフイルムを汚してしまうという新
たな問題も発生した。 本発明者等はかかる問題を解決すべく鋭意検討
した結果以下に述べる本発明に到達した。 〔発明の構成〕 すなわち本発明はシリコーンゴム層を最上層と
する湿し水不要感光性平版印刷版のシリコーンゴ
ム層表面をコロナ放電処理し活性化された該シリ
コーンゴム層表面に不揮発性成分を含有する溶液
もしくは分散液を噴霧し乾燥することによりシリ
コーンゴム層表面に安定に固着している微小凸状
パターンを持つた湿し水不要平版印刷版が得られ
ることを見い出した。 本発明の方法が適用される湿し水不要感光性平
版印刷版は、基板に裏打ちされた感光性シリコー
ンゴム層を有するものであつてもよいし、またシ
リコーンゴム層下に必要ならば接着層を介して基
板に裏打ちされた公知の感光層を有するようなも
のであつてもよい。 基板としては、厚さが約10μ〜2mm、好ましく
は約50〜500μの紙、プラステツクフイルムもし
くはシート、金属板などが適当であるが、ゴム弾
性を有する基板、シリンダー状の基板を用いても
良い。 感光性シリコーンゴム層はシリコーンゴム層そ
のものが感光性のものであつて、この場合には感
光層は不要である。感光性シリコーンゴムとして
は、ジメチルポリシロキサンの末端OH基にγ−
メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
あるいはモノシンナモイルジエトキシシランを脱
アルコール縮合させた化合物、またポリジオルガ
ノシロキサンにビスアジド化合物を添加、あるい
はアクリロイルクロリドやp−アジドベンゾエー
トを反応させた化合物などをあげることができ
る。 また、シリコーンゴムに公知の感光性物質を混
合した感光性シリコーンゴム層を使用することも
できる。 感光層は活性な光線を照射することにより光硬
化または光可溶化する性質を有する層である。そ
の厚さは任意であるが、好ましくは約100μ以下
であり、さらに好ましくは約0.1〜10μのものがさ
らに有用である。 感光性物質としては、次のような構成のものが
適当である。 (1) 沸点100℃以上で、室温で不揮発性の不飽和
モノマあるいはそれらのオリゴマと光増感剤、
熱重合禁止剤と、必要ならば室温での形態保持
性を与えるための充填材および若干の添加物を
含む組成物。 不飽和モノマとしては、エチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、1−クロロ−2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチ
ル(メタ)アクリレートなどの一連のアクリル
酸エステル、メタアクリル酸エステル類、エチ
レンビスアクリルアミド、N−メチロールアク
リルアミド、メトキシメチルアクリルアミドな
どのアクリルアミド誘導体、トリアリルシアヌ
レート、トリアリルフオスフエート、ジアリル
フタレート、ジアリルマレートなどのアリルア
ルコールのエステル、その他スチレン誘導体、
を使用することができる。 光増感剤としては、ベンゾフエノン誘導体、
ベンゾイン誘導体、アントラキノン誘導体、ア
ルデヒド、ケトン、イオウ化合物、ハロゲン化
合物、あるいはメチレンブルー、リボフラビン
などの染料が使用できる。 熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン誘導
体、フエノール誘導体、ニトロ置換ベンゼン、
第3級アミン、フエノチアジン誘導体が用いら
れる。 充填剤あるいは添加物としては、コロイダル
シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
酸化鉄などの無機物の微細な粉末、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、分子
量数千のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル
ポリマ、硬化前のレゾールフエノール系、尿素
系、メラミン系、エポキシ系、不飽和ポリエス
テル系樹脂などがあげられる。 (2) 重合体の主鎖又は側鎖に
【式】
基を含む高分子化合物からなる組成物
重合体主鎖又は側鎖に感光性基として
本発明の湿し水不要感光性平版印刷原版を用い
ることにより、露光時原画(オリジナルフイル
ム)との密着性が向上し密着に要する時間が大幅
に短縮出来さらに画像を忠実に再現するようにな
り、しかも微小凸状パターンの脱落によりフイル
ムを汚すこともなくなつた。 〔実施例〕 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明
する。 実施例 1 ポリエチレンテレフタレートフイルム(厚さ
0.2mm)の表面を0.083KVA分/m2の条件でコロナ
放電処理しこの上に下記組成物の塗布液をホイラ
ー塗布し、乾燥重量が1.0g/m2となるように感
光層を塗設・乾燥した。 p−フエニレンジアクリル酸エステルと1,4
−ビス(ヒドロキシエチルオキシ)シクロヘキ
サンとの1:1重縮合物 1.00重量部 3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナ
フトチアゾリン 0.06重量部 N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン 0.10重量部 ミクロリスブルー4GK(チバガイギー社製)
0.20重量部 メチルセロソルブアセテート 7.5重量部 トルエン 7.5重量部 メチルグリコール 7.5重量部 該感光層上に下記シリコーンゴム溶液をホイラ
ー塗布し、乾燥重量が2.0g/m2となるようにシ
リコーンゴム層を塗設・乾燥した。 信越シリコーンKS−709 33.4重量部 信越シリコーン硬化用触媒Catalyst PS
0.4重量部 アイソパーG(EXXON Chemical社製)
150重量部 次いでシリコーンゴム層の表面をピラー社製ソ
リツド・ステート・コロナ処理機6KVAモデルを
用い10m/分で処理した。このとき、電流電圧の
読み取り値よりシリコーンゴム層の表面は
0.5KVA分/m2の処理がなされた。処理の放電周
波数は9.6KHz、電極と誘電体ロール(ハイパロ
ン製)のギヤツプクリアランスは1.6mmであつた。 上記のように放電処理したシリコーンゴム層の
表面に、下記樹脂組成液を用意し版面から30cmの
距離からスプレーにより噴霧、乾燥してシリコー
ンゴム層上に微小凸状パターンを設けた。このと
きの凸部の数、高さ及び巾はそれぞれ30〜70個/
mm2、2〜6μ及び20〜150μであつた。これを刷版
Aとする。 メチルメタクリレート、エチルアクリレートお
よび2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸ナトリウムの5:3:2(モル比)
共重合体の10%量%水溶液 300重量部 N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン 0.6重量部 他方、上記湿し水不要感光性平版印刷原版をコ
ロナ放電処理をほどこすことなしに上記と同様に
スプレーにより上記樹脂液を噴霧、乾燥しシリコ
ーンゴム層上に同様に微小凸状パターンを設け
た、これを刷版Bとする。刷版A表面を指でこす
つても微小凸状パターンが脱落せず安定に固着し
ているのに対し刷版Bでは指でこすることにより
簡単に脱落してしまつた。 上記のようにして得られた刷版A上にポジフイ
ルムを密着させ、又アーク社製ET26V UDNS
ULTRA−PLUS FLIP−TOP PLATE
MAKERにより30カウント露光したのちアイソ
パーH(EXXON Chemical社製)82重量部、ポ
リプロピレングリコール(重合度400)8重量部
及びこはく酸ジエチルエステル10重量部よりなる
現像液に1分間浸漬し現像パツドで軽く擦つたと
ころ、未露光部分のシリコーンラバー層のみ除去
された。この版を用いて、湿し水供給装置をはず
したハイデルベルグGTO印刷機にて東洋インキ
製TOYO KING ULTRA TUKアクワレスG墨
インキにより印刷した所、非画像部に汚れをわず
か生じたため上記方法により製版した別の版を希
塩酸水溶液で整面した後印刷した所汚れの無い印
刷物が得られた。 実施例 2 アセトンとピロガロールの縮合重合により得ら
れるポリヒドロキシフエニルの2−ジアゾ−1−
ナフトール−5−スルホン酸エステル(米国特許
第3635709号明細書中記載の化合物)7g及びm
−クレゾールのみより得られたクレゾールノボラ
ツク樹脂(住友デユレズ社製)3gを120gのメ
チルセロソルブアセテートと60gのメチルエチル
ケトン混合溶媒に溶解し感光液を調製した。これ
をあらかじめ通常の方法で脱脂したアルミニウム
板にトーレシリコーン社製のシランカツプリング
剤SH−6020(N−β(アミノエチル)γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン)1重量部をエタノ
ール500重量部に溶解した溶液を塗布乾燥した支
持体上に1g/m2塗布し乾燥した。 次にトーレシリコーン社製のシランカツプリン
グ剤SH−6020(N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン)1重量部をn−
ヘプタン500重量部に溶解した溶液を過し、上
記感光層上に塗布し、さらに東レシリコーン
SH781RTV(1液型RTV脱酢酸型)5重量部を
アイソパーG(EXXON Chemical社製)95重量
部に溶解したものを乾燥重量で2g/m2になるよ
うに塗布した。100℃で2分間乾燥し暗所に一晩
放置し硬化を完了させた。この湿し水不要感光性
平版印刷版をソフタル社製発振機に導電性フイル
ムを処理するに適した誘電体回転ロールとアース
ロールを装備し、0.5KVA分/m2の条件でコロナ
放電処理した。 上記のように放電処理した湿し水不要感光性平
版印刷原版の表面に実施例1と同様の樹脂組成液
を用意し実施例1と同様にスプレーにより噴霧、
乾燥した。 このようにシリコーンゴム層上に微小凸状パタ
ーンをほどこした湿し水不要感光性平版印刷版上
にネガフイルムを密着させヌアーク社製ET26V
UDNS ULTRA−PLUS FLIP−TOP PLATE
MAKERにより15カウント露光したのちn−プ
ロピルアルコール50容量部及び水50容量部よりな
る現像液に1分間浸漬し、現像パツドで軽く擦つ
て現像した。 この版を用いて、湿し水供給装置をはずしたハ
イデルベルグGTO印刷機にて東洋インキ製
TOYO KING ULTRA TUKアクワレスG墨イ
ンキにより印刷した所画像露光時に同時に焼付け
て置いた富士写真フイルム(株)社製ステツプタブレ
ツトの5段目がベタとなり300線の網点ウエツジ
も理想的な再現を示し非画像部に汚れを発生しな
い鮮明な印刷物が得られた。
ることにより、露光時原画(オリジナルフイル
ム)との密着性が向上し密着に要する時間が大幅
に短縮出来さらに画像を忠実に再現するようにな
り、しかも微小凸状パターンの脱落によりフイル
ムを汚すこともなくなつた。 〔実施例〕 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明
する。 実施例 1 ポリエチレンテレフタレートフイルム(厚さ
0.2mm)の表面を0.083KVA分/m2の条件でコロナ
放電処理しこの上に下記組成物の塗布液をホイラ
ー塗布し、乾燥重量が1.0g/m2となるように感
光層を塗設・乾燥した。 p−フエニレンジアクリル酸エステルと1,4
−ビス(ヒドロキシエチルオキシ)シクロヘキ
サンとの1:1重縮合物 1.00重量部 3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナ
フトチアゾリン 0.06重量部 N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン 0.10重量部 ミクロリスブルー4GK(チバガイギー社製)
0.20重量部 メチルセロソルブアセテート 7.5重量部 トルエン 7.5重量部 メチルグリコール 7.5重量部 該感光層上に下記シリコーンゴム溶液をホイラ
ー塗布し、乾燥重量が2.0g/m2となるようにシ
リコーンゴム層を塗設・乾燥した。 信越シリコーンKS−709 33.4重量部 信越シリコーン硬化用触媒Catalyst PS
0.4重量部 アイソパーG(EXXON Chemical社製)
150重量部 次いでシリコーンゴム層の表面をピラー社製ソ
リツド・ステート・コロナ処理機6KVAモデルを
用い10m/分で処理した。このとき、電流電圧の
読み取り値よりシリコーンゴム層の表面は
0.5KVA分/m2の処理がなされた。処理の放電周
波数は9.6KHz、電極と誘電体ロール(ハイパロ
ン製)のギヤツプクリアランスは1.6mmであつた。 上記のように放電処理したシリコーンゴム層の
表面に、下記樹脂組成液を用意し版面から30cmの
距離からスプレーにより噴霧、乾燥してシリコー
ンゴム層上に微小凸状パターンを設けた。このと
きの凸部の数、高さ及び巾はそれぞれ30〜70個/
mm2、2〜6μ及び20〜150μであつた。これを刷版
Aとする。 メチルメタクリレート、エチルアクリレートお
よび2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸ナトリウムの5:3:2(モル比)
共重合体の10%量%水溶液 300重量部 N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン 0.6重量部 他方、上記湿し水不要感光性平版印刷原版をコ
ロナ放電処理をほどこすことなしに上記と同様に
スプレーにより上記樹脂液を噴霧、乾燥しシリコ
ーンゴム層上に同様に微小凸状パターンを設け
た、これを刷版Bとする。刷版A表面を指でこす
つても微小凸状パターンが脱落せず安定に固着し
ているのに対し刷版Bでは指でこすることにより
簡単に脱落してしまつた。 上記のようにして得られた刷版A上にポジフイ
ルムを密着させ、又アーク社製ET26V UDNS
ULTRA−PLUS FLIP−TOP PLATE
MAKERにより30カウント露光したのちアイソ
パーH(EXXON Chemical社製)82重量部、ポ
リプロピレングリコール(重合度400)8重量部
及びこはく酸ジエチルエステル10重量部よりなる
現像液に1分間浸漬し現像パツドで軽く擦つたと
ころ、未露光部分のシリコーンラバー層のみ除去
された。この版を用いて、湿し水供給装置をはず
したハイデルベルグGTO印刷機にて東洋インキ
製TOYO KING ULTRA TUKアクワレスG墨
インキにより印刷した所、非画像部に汚れをわず
か生じたため上記方法により製版した別の版を希
塩酸水溶液で整面した後印刷した所汚れの無い印
刷物が得られた。 実施例 2 アセトンとピロガロールの縮合重合により得ら
れるポリヒドロキシフエニルの2−ジアゾ−1−
ナフトール−5−スルホン酸エステル(米国特許
第3635709号明細書中記載の化合物)7g及びm
−クレゾールのみより得られたクレゾールノボラ
ツク樹脂(住友デユレズ社製)3gを120gのメ
チルセロソルブアセテートと60gのメチルエチル
ケトン混合溶媒に溶解し感光液を調製した。これ
をあらかじめ通常の方法で脱脂したアルミニウム
板にトーレシリコーン社製のシランカツプリング
剤SH−6020(N−β(アミノエチル)γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン)1重量部をエタノ
ール500重量部に溶解した溶液を塗布乾燥した支
持体上に1g/m2塗布し乾燥した。 次にトーレシリコーン社製のシランカツプリン
グ剤SH−6020(N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン)1重量部をn−
ヘプタン500重量部に溶解した溶液を過し、上
記感光層上に塗布し、さらに東レシリコーン
SH781RTV(1液型RTV脱酢酸型)5重量部を
アイソパーG(EXXON Chemical社製)95重量
部に溶解したものを乾燥重量で2g/m2になるよ
うに塗布した。100℃で2分間乾燥し暗所に一晩
放置し硬化を完了させた。この湿し水不要感光性
平版印刷版をソフタル社製発振機に導電性フイル
ムを処理するに適した誘電体回転ロールとアース
ロールを装備し、0.5KVA分/m2の条件でコロナ
放電処理した。 上記のように放電処理した湿し水不要感光性平
版印刷原版の表面に実施例1と同様の樹脂組成液
を用意し実施例1と同様にスプレーにより噴霧、
乾燥した。 このようにシリコーンゴム層上に微小凸状パタ
ーンをほどこした湿し水不要感光性平版印刷版上
にネガフイルムを密着させヌアーク社製ET26V
UDNS ULTRA−PLUS FLIP−TOP PLATE
MAKERにより15カウント露光したのちn−プ
ロピルアルコール50容量部及び水50容量部よりな
る現像液に1分間浸漬し、現像パツドで軽く擦つ
て現像した。 この版を用いて、湿し水供給装置をはずしたハ
イデルベルグGTO印刷機にて東洋インキ製
TOYO KING ULTRA TUKアクワレスG墨イ
ンキにより印刷した所画像露光時に同時に焼付け
て置いた富士写真フイルム(株)社製ステツプタブレ
ツトの5段目がベタとなり300線の網点ウエツジ
も理想的な再現を示し非画像部に汚れを発生しな
い鮮明な印刷物が得られた。
Claims (1)
- 1 シリコーンゴム層を最上層とする湿し水不要
感光性平版印刷版のシリコーンゴム層表面をコロ
ナ放電処理し、次いで該シリコーンゴム層上に不
揮発性固形分を含む溶液又は分散液を噴霧・乾燥
することによりシリコーンゴム層上に微小凸状パ
ターンを設けることを特徴とする湿し水不要感光
性平版印刷版の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59046873A JPS60191262A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | 湿し水不要感光性平版印刷版の製造法 |
| CA000476245A CA1238879A (en) | 1984-03-12 | 1985-03-11 | Process for producing light sensitive lithographic plate requiring no dampening solution |
| EP85102839A EP0154981B1 (en) | 1984-03-12 | 1985-03-12 | Process for producing light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution |
| DE8585102839T DE3578586D1 (de) | 1984-03-12 | 1985-03-12 | Verfahren zur herstellung einer lichtempfindlichen trockenflachdruckplatte. |
| US06/710,892 US4590148A (en) | 1984-03-12 | 1985-03-12 | Process for producing light sensitive lithographic plate requiring no dampening solution |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59046873A JPS60191262A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | 湿し水不要感光性平版印刷版の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60191262A JPS60191262A (ja) | 1985-09-28 |
| JPH043863B2 true JPH043863B2 (ja) | 1992-01-24 |
Family
ID=12759462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59046873A Granted JPS60191262A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | 湿し水不要感光性平版印刷版の製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4590148A (ja) |
| EP (1) | EP0154981B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60191262A (ja) |
| CA (1) | CA1238879A (ja) |
| DE (1) | DE3578586D1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61153655A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| US4769308A (en) * | 1985-11-11 | 1988-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dry presensitized plate with photosensitive layer containing organotin |
| US4741992A (en) * | 1986-09-22 | 1988-05-03 | Eastman Kodak Company | Thermally processable element comprising an overcoat layer containing poly(silicic acid) |
| JPS63133153A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| JP2577604B2 (ja) * | 1988-04-08 | 1997-02-05 | コニカ株式会社 | 湿し水不要平版印刷版材料 |
| JPH03160453A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-10 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料及びその製造方法 |
| JPH067278U (ja) * | 1991-03-13 | 1994-01-28 | ティアック株式会社 | 防塵構造の電気機器 |
| US5672460A (en) * | 1994-06-10 | 1997-09-30 | Nippon Hoso Kyokai | Method for forming conductive or insulating layers |
| JP4361651B2 (ja) * | 1999-11-08 | 2009-11-11 | コダックグラフィックコミュニケーションズ株式会社 | 感光性印刷版およびその製造方法 |
| CN101073036B (zh) * | 2004-12-09 | 2013-01-23 | 可隆株式会社 | 正型干膜光致抗蚀剂 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5426923B2 (ja) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
| DE2308711C2 (de) * | 1973-02-22 | 1983-08-04 | Felix Schoeller jr. GmbH & Co KG, 4500 Osnabrück | Verfahren zur Herstellung eines polyolefinbeschichteten fotografischen Schriftträgers mit einer kristallinen Schicht |
| JPS5353403A (en) * | 1976-10-22 | 1978-05-15 | Asahi Chemical Ind | Original form for press plate and method of producing waterrfree lithographic press plate adopting same |
| JPS5818914B2 (ja) * | 1978-05-04 | 1983-04-15 | 神鋼電機株式会社 | 切符等の表・裏両面印刷装置 |
| GB2034911B (en) * | 1978-10-26 | 1983-02-09 | Toray Industries | Dry planographic printing plate |
| JPS55101951A (en) * | 1979-01-30 | 1980-08-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Manufacture of photosensitive printing plate |
| US4292389A (en) * | 1979-01-31 | 1981-09-29 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Process for preparing photosensitive plates for printing |
| JPS5627150A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-16 | Toray Ind Inc | Damping water nonrequiring lithographic original plate and its preparation |
| JPS56130752A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-13 | Dainippon Printing Co Ltd | Printing plate for lithographic printing and its manufacture |
| US4292397A (en) * | 1980-04-17 | 1981-09-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for preparing dry planographic plates with plasma |
| JPS58186746A (ja) * | 1982-04-26 | 1983-10-31 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版材の製造方法 |
-
1984
- 1984-03-12 JP JP59046873A patent/JPS60191262A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-11 CA CA000476245A patent/CA1238879A/en not_active Expired
- 1985-03-12 US US06/710,892 patent/US4590148A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-12 EP EP85102839A patent/EP0154981B1/en not_active Expired
- 1985-03-12 DE DE8585102839T patent/DE3578586D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60191262A (ja) | 1985-09-28 |
| CA1238879A (en) | 1988-07-05 |
| EP0154981A3 (en) | 1987-06-16 |
| DE3578586D1 (de) | 1990-08-16 |
| EP0154981B1 (en) | 1990-07-11 |
| EP0154981A2 (en) | 1985-09-18 |
| US4590148A (en) | 1986-05-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |