JPH0439065B2 - - Google Patents

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JPH0439065B2
JPH0439065B2 JP58231605A JP23160583A JPH0439065B2 JP H0439065 B2 JPH0439065 B2 JP H0439065B2 JP 58231605 A JP58231605 A JP 58231605A JP 23160583 A JP23160583 A JP 23160583A JP H0439065 B2 JPH0439065 B2 JP H0439065B2
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photosensitive
compound
acid
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、感光性組成物に関する。
本発明は、さらに特に、アルカリ性水溶液中で
可溶性である実質的に水不溶性の結合剤及び感光
性化合物を含有する感光性混合物に関連する。
露光しかつ現像した複写材料の画像層を加熱す
るか又は焼付けることによつて印刷板を製造する
方法は、例えば英国特許第1151199号明細書及び
同第1154749号明細書中に開示された。これらの
方法の場合、ポジ型であり、好ましくはｏ−キノ
ン−ジアジドを含有するか又はネガ型であり、好
ましくはｐ−キノン−ジアジドを含有する感光性
複写材料は、画像に応じて露光され、現像され、
次に先に清潔に現像された画像背景が画像層の熱
分解生成物によつて汚染されるような時間の間
180℃よりも高い温度に加熱される。その後に、
この画像背景は、これを現像液でもう１回処理す
ることによつて再び清潔にされる。通常、220℃
〜240℃の温度は、加熱に使用され、この加熱の
時間は、約５〜60分である。この後処理により、
印刷層の硬化、ひいては印刷能力の著しい増大が
達成される。焼付け温度は、前記範囲の上限にあ
り、必要な焼付け時間は、勿論比較的に短い。こ
の方法での比較的に高い温度の使用は不利である
ことが判明した。一面で、この温度は、比較的に
堅固に付着する沈殿物の形成を背景部で惹起し、
この沈殿物は、比較的に活性の溶液を用いてのみ
清潔に除去することができるにすぎず、所望の印
刷画像に対する攻撃の危険も存在する。更に、比
較的に高い焼付け温度又は比較的に長い焼付け時
間で、アルミニウムの常用される支持体は、変形
し、したがつて得られる印刷板は、損傷を受ける
か又は使用不可能になるという危険が存在する。
西ドイツ国特許公開公報第2626473号の記載と
同様に、第１に記載した欠点は、背景面を焼付け
前に水溶性有機物質又は無機塩の層で被覆するこ
とによつて回避することができ、この場合この層
は、焼付け後に簡単に洗浄除去することができ
る。関連せる処理は、米国特許第4191570号明細
書中に見い出すことができる。しかし、支持体の
変形を回避するためには、低い温度で焼付けるこ
とができることが望ましい。
西ドイツ国特許公開公報第3039926号には、感
光性化合物及びアルカリ金属可溶性結合剤ととも
に２〜４個のヒドロキシメチル基を有するフエノ
ール誘導体を含有する前記した型の感光性混合物
が開示されている。焼付け温度は、フエノール誘
導体を添加することによつて200℃未満に減少さ
せることができる。しかし、この材料の欠点は、
それが不満足な現像剤抵抗性及び弱い階調を有す
ることである。また、それは、反応性フエノール
誘導体の含有量のために減少した貯蔵寿命を有す
る。
本発明により、感光性混合物及びこの混合物か
ら製造された写真素子が得られ、この写真素子
は、このような素子の貯蔵寿命及び現像剤抵抗性
を実質的に減少させることなしに低い温度で焼付
けを実施することができる。
本発明は、アルカリ性水溶液中で可溶性である
実質的に水不溶性の結合剤；及び感光性ｏ−又は
ｐ−キノン−ジアジド、ジアゾニウム塩重縮合生
成物、又は ａ 露光の際に酸を除去する化合物と ｂ 酸によつて分解することができる少なくとも
１個のＣ−Ｏ−Ｃ基を有する化合物のとの感光
成分である混合物；及び 熱架橋性化合物を含有する感光性混合物に基づ
いている。
本発明による混合物は、熱架橋性化合物が一般
式： 〔式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表わ
す〕で示される環式酸アミドであることによつて
特徴づけられる。
本発明によれば、支持体及び前記の混合物によ
つて形成された感光層から構成されている感光性
写真素子が得られる。
ヘキサメチロ−ルメラミンは、有機溶剤中で比
較的に難溶性であるので、相当する、少なくとも
部分的にエーテル化された化合物を使用するのが
好ましい。一般に、アルキルエーテル基は、１〜
10個、好ましくは１〜４個の炭素原子を有する。
メチルエーテルは、特に好ましい。更に、ヘキサ
アルキルエーテルは、部分的にエーテル化された
化合物にわたつて通常好ましい。
感光性混合物中での本発明による熱架橋性メラ
ミン化合物の濃度は、比較的に広範な範囲内で変
動することができる。一般に、この化合物は、感
光性混合物の非揮発性成分（固体）に対して約１
〜約20重量％、好ましくは約４〜約10重量％の量
で存在する。
架橋基−CH2−Ｏ−Ｒに対する化合物の反応性
は、普通の環境温度で明らかに層の早期架橋のた
めには十分に高くなく、したがつて未露光状態で
室温で貯蔵される複写層は、長い貯蔵寿命を有す
る。これは、少なくとも架橋剤の濃度が前記の好
ましい範囲内にある場合のことであり、この濃度
は、西ドイツ国特許公開公報第3039926号により
使用されたフエノール誘導体の濃度よりも著しく
低い。
付加的に、本発明による感光性混合物は、感光
性化合物を含有する。ポジ型の化合物、すなわち
露光によつて可溶性になるものは、本発明の目的
にとつて最も好適である。この化合物は、ｏ−キ
ノン−ジアジド及び光分解性酸供与体と、酸によ
つて分解することができる化合物、例えばオルト
カルボン酸化合物及びアセタール化合物との組合
せ物を包含する。ｐ−キノンジアジド及びジアゾ
ニウム塩重縮合生成物も適当な感光性化合物であ
る。
本発明による混合物は、ｏ−キノン−ジアジド
に基づいた感光性材料と結び付いた特別な利点を
有する。それというのも、この場合には、印刷物
の数の特に大きい増大が焼付けによつて得られる
からである。この型の適当な材料は、公知であ
り、例えば西ドイツ国特許第938233号明細書なら
びに西ドイツ国特許公開公報第2331377号、同第
2547905号及び同第2828037号中に記載されてい
る。好ましいｏ−キノン−ジアジドは、ナフトキ
ノン−（１，２）−ジアジド−（２）−４−又は５−
スルホン酸エステルまたはアミドである。これら
の中で、エステル、殊に５−スルホン酸エステル
は、特に好ましい。一般に、ｏ−キノン−ジアジ
ド化合物の量は、混合物の非揮発性成分（固体）
に対して３〜50重量％、好ましくは７〜35重量％
である。
酸によつて分解することができる化合物に基づ
いた材料は、効果十分に焼付けることもできる。
この型の複写材料は、公知であり、例えば米国
特許第3779778号明細書及び同第4101323号明細
書、西ドイツ国特許第2718254号明細書ならびに
西ドイツ国特許公開公報第282951号及び同第
2829511号中に記載されている。この材料は、オ
ルトカルボン酸誘導体、単量体又は重合体アセタ
ール、エノールエーテル又はアシルイミノカルボ
ネートを酸によつて分解することができる化合物
として含有する。この材料は、主に有機ハロゲン
化合物、殊にハロゲノメチル基によつて置換され
ているｓ−トリアジンを、感光性でありかつ酸を
除去する化合物として含有する。
米国特許第4101323号明細書に記載のオルトカ
ルボン酸誘導体の中で、脂肪族ジオールのビス−
１，３−ジオキサン−２−イルエーテルは、特に
好ましい。
西ドイツ国特許第2718254号明細書に記載のポ
リアセタールの中で、脂肪族アルデヒド単位及び
ジオール単位を有するものは、好ましい。
更に、著しく好適な混合物は、西ドイツ国特許
公開公報第2928636号に記載されている。この場
合、主鎖中に反復オルト−エステル基を有する重
合体オルトエステルは、酸によつて分解すること
ができる化合物として記載されている。
この基は、５又は６員環を有する１，３−ジオ
キサシクロアルカンの２−アルキルエーテルであ
る。反復１，３−ジオキサ−シクロヘキシ−２−
イルアルキルエーテル単位を有する重合体（この
場合、アルキルエーテル基は、エーテル酸素原子
によつて中断されていてもよく、好ましくは隣接
環の５位に結合している）は、特に好ましい。
感光性混合物中で酸によつて分解することがで
きる化合物の量比は、一般に混合物の非揮発性成
分（固体）に対して８〜65重量％、好ましくは14
〜44重量％である。酸を除去する化合物の量は、
0.1〜10重量％、好ましくは0.2〜５重量％であ
る。
付加的に、本発明による感光性混合物は、本発
明による混合物に対して使用される溶剤中で可溶
性でありかつアルカリ水溶液中で可溶性であるか
又は少なくとも膨潤可能でもある重合体の水不溶
性樹脂結合剤を含有する。
ナフトキノン−ジアジドに基づいた多数のポジ
の複写材料において有効であることが証明された
ノボラツク縮合樹脂は、本発明による混合物の添
加剤として特に有用でありかつ有利であることが
判明した。この樹脂は、現像の際に露光した層部
と露光されていない層部との間の鋭い差を改善す
る。これは、ホルムアルデヒドを縮合するための
成分としての置換フエノール、例えばクレゾール
と高度に縮合される樹脂に対して特に好適であ
る。ノボラツク樹脂の性質及び量は、意図する目
的に応じて変動することができ；好ましくは、全
固体中のノボラツクの量は、50〜90重量％であ
り、特に好ましくは、60〜80重量％である。更
に、多数の他の樹脂も付加的に使用することがで
きる。好ましくは、これらは、１種類又はそれ以
上のビニル重合体、例えばポリビニルアセテー
ト、ポリアクリレート、ポリビニルエーテル、ポ
リビニルアセタール、ポリビニルピロリドン及び
これらに基づく単量体の共重合体であることがで
きる。これらの樹脂の最も有利な量は、工業的要
件に依存し、かつ望ましい現像条件への影響に依
存する。一般に、これは、アルカリ可溶性樹脂に
対して約20重量％を越えない。感光性混合物は、
可撓性、付着性、光沢、着色及び変色等のような
特殊な要件に適合させるために、付加的にポリグ
リコール、セルロース誘導体、例えばエチルセル
ロース、界面活性剤、染料、付着促進剤及び微粒
状顔料、ならびに必要に応じてUV吸収剤のよう
な物質の少量を含有することもできる。天然樹
脂、例えばセラツク及びロジン、ならびに合成樹
脂、例えばスチレンと無水マレイン酸の共重合体
又はアクリル酸もしくはメタクリル酸と、殊にア
クリレートもしくはメタクリレートの共重合体
は、アルカリ水溶液中で可溶性であるか又は膨潤
可能である結合剤である。
適当な支持体を被覆するために、混合物は、一
般に溶剤に溶解される。溶剤の選択は、設けられ
た被覆法、層厚及び乾燥条件に適合させなければ
ならない。本発明による混合物に対して適当な溶
剤は、ケトン、例えばメチルエチルケトン、塩素
化炭化水素、例えばトリクロルエチレン及び１，
１，１−トリクロルエタン、アルコール、例えば
ｎ−プロパノール、エーテル、例えばテトラヒド
ロフラン、アルコールエーテル、例えばエチレン
グリコールモノエチルエーテル、及びエステル、
例えばブチルアセテートである。特殊な目的に対
して溶剤、例えばアセトニトリル、ジオキサン又
はジメチルホルムアミドを含有することもできる
混合物を使用することも可能である。原理的に
は、層成分と不可逆に反応しない全部の溶剤を使
用することができる。
層厚約10μ未満に対して使用される支持体は、
多くの場合に金属である。次のものは、オフセツ
ト印刷板に使用することができる：光沢ロール掛
けされた、機械的又は電気化学的に粗面化した、
必要に応じて陽極酸化したアルミニウム、これ
は、付加的に、例えば親水化剤、例えばポリビニ
ルホスホン酸、珪酸塩、ヘキサフルオルジルコニ
ウム酸塩、加水分解したテトラエチルオルト珪酸
塩又は燐酸塩で化学的に前処理されていてもよ
い。他の支持体は、シリコーンよりなるか又はポ
リエステルのような透明なシートであることがで
きる。
支持材料の被覆は、公知方法で回転塗布法、噴
霧法、浸漬法、ロール塗布法、スロツトダイ、ナ
イフ塗布機又は塗布装置を用いて実施される。
紫外線源のように工業的に常用される光源は、
露光のために使用される。電子又はレーザーを用
いる照射は、画像を得るための別の方法である。
現像に使用され、段階的なアルカリ性度、すな
わち特に10〜14のPHを有し、かつ有機溶剤又は界
面活性剤の少量を含有することもできるアルカリ
水溶液は、光線が当つた複写層の個所を除去し、
したがつてオリジナルのポジの画像を生じる。本
発明を実施するのに有用なアルカリ金属の制限さ
れない例は、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウ
ム、燐酸三ナトリウム、燐酸一ナトリウムならび
に種々のアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム及水
酸化アンモニウムを包含する。
本発明による感光性混合物の好ましい使用は、
支持体としてのアルミニウムを使用しながら印刷
板、殊にオフセツト印刷板を製造することにあ
る。
印刷板は、現像後に自体公知の方法で加熱され
る。これまで焼付けの際に常用されてきた、例え
ば英国特許第1154749号明細書又は西ドイツ国特
許公開公報第2939785号の記載と同様の方法条件
とは異なり、前記のメラミン誘導体を添加する
と、著しく低い温度でか又は実質的に短い時間内
で公知のものと同じ印刷能力の増大を達成するこ
とができる。選択される焼付け温度は、約150〜
240℃、特に160〜210℃の範囲内にあることがで
き、１〜20分間、特に５〜10分間の加熱時間は、
普通に使用される。支持材料が高い温度で安定で
ある場合には、勿論、240℃よりも高い温度で焼
付けかつ相応して短い加熱時間を選択することも
できる。
画像の現像後に露出した支持体は、加熱前に公
知方法で、加熱後の再現像を節約するか又は少な
くとも簡易化するために皮膜形成剤の水溶液で処
理することもできる。この処理は、有用であるこ
とができるが、それは必ずしも必要なものではな
い。殊に、好ましく低い焼付け温度を使用する場
合、板の背景部上の沈殿物は、多くの場合に全く
形成されないか、又はそれは簡単に除去すること
ができる。方法を好ましい方法で実施する場合に
は、この過程は、通常省略することができる。
次に、本発明を実施例によつてさらに詳説する
が、この実施例中で重量部（p.b.w.）対容量部
（p.b.v.）の比は、ｇ対cm3である。別記しない限
り、「％」は「重量％」である。
例 １ 電気化学的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミ
ニウム板を、 ２，３，４−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン
１モル及びナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−（２）−５−スルホン酸クロリド３モルから得
られたエステル化生成物 1.40重量部、 軟化点105℃〜120℃を有するクレゾール−ホル
ムアルデヒドノボラツク 6.30重量部、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−４
−スルホン酸クロリド 0.20重量部、 ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテ
ル（American Cyanamid Corp.社からの
Cymel300） 0.45重量部、ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル
40重量部及び テトラヒドロフラン 50重量部中の クリスタルバイオレツト 0.07重量部 の溶液で被覆する。
感光性複写層を塗布する前に、陽極酸化した支
持体を親水化剤としての0.1重量％強のポリビニ
ルホスホン酸水溶液で処理する。
こうして得られかつ層重量2.0ｇ／m2を有する
プレセンシタイズされた材料を、画像に応じて透
明なポジのオリジナルの下で露光し、さらに次の
溶液で現像する： メタ珪酸ナトリウム×9H2Ｏ 7.00重量部、 水酸化ストロンチウム×8H2Ｏ 0.02重量部及び 水 93.00重量部中の レブリン酸 0.03重量部。
光線を当てた複写層の領域を現像によつて除去
し、露光されてない画像部を支持体上に留める。
オリジナルに相当する印刷画像を得る。こうして
得られた印刷板からオフセツト印刷機を使用して
市場で認容しうる印刷物100000枚を得ることがで
きる。
印刷能力を増大させかつ印刷画像を硬化させる
ために、同様に得られた印刷板に熱処理を行な
う。この目的のために、乾燥した印刷板を現像後
に焼付け炉中で５分間190℃に加熱する。
印刷板を炉中で加熱した結果として、印刷画像
は、硬化し、層は、耐薬品性となり、したがつて
アセトン、アルコール、ジメチルホルムアミド、
トルエン又はキシレンのような有機溶剤中で不溶
性となる。オフセツト印刷機を使用した場合、市
場で認容しうるコピー350000枚が得られる。
ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテ
ルの添加を例１で省略した場合には、焼付けた板
に対してその他は同じ試験条件下で150000枚にす
ぎないコピーの印刷が得られる。更に、印刷画像
は、有機溶剤中で若干可溶性のままであり、修正
剤に対しても抵抗性を示さない。
本発明の１つの重要な利点は、複写層中での本
発明による架橋性化合物の比較的に少量により、
180℃〜200℃の温度で焼付けた場合に短時間内で
印刷画像を耐薬品性にするのに十分であり、した
がつて長い印刷能力が得られることにある。これ
は、西ドイツ国特許公開公報第3039926号による
熱架橋性メチロール化合物と比較することによつ
て明らかに証明される。例えば、例１でヘキサメ
チロールメラミンヘキサメチルエーテルを、西ド
イツ国特許公開公報第3039926号に記載された、
例えば２，６−ジメチロール−ｐ−クレゾール又
は２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
ヒドロキシ−メチル−フエニル）−プロパンのよ
うな最も適当な同量の架橋性化合物に代えた場
合、この複写層は、200℃で５分間の焼結時間後
に未だ抵抗性を示さないが、しかしこれは、例１
の複写層の場合とは異なるものである。更に、し
たがつて西ドイツ国特許公開公報第3039926号に
記載の材料を使用した場合には、アセトン又はア
ルコールのような溶剤及び修正剤は、焼付けた複
写層をなお溶解しうる。
複写層中での先のメチロール化合物の量を４倍
又はそのつど２倍に増大させた場合にのみ、焼付
け後に存在する印刷板の耐薬品性は、例１の複写
層の耐薬品性に等しく、この場合これらの印刷板
は、同じ試験条件下で焼付けされている。西ドイ
ツ国特許公開公報第3039926号に記載のメチロー
ル化合物及び前記のメチロール化合物の量を前記
量に増大させない場合には、焼付け温度は、印刷
画像をこのような耐薬品性にするために40℃〜50
℃以上でなければならない。温度を上昇させた結
果としてもたらされる欠点の１つは、アルミニウ
ム支持体の寸法安定性の実質的な減少であり、こ
のことは、この支持体の後処理をさらに困難なも
のにする。
アルミニウムの寸法安定性が240℃よりも高い
温度で不可逆的に減少することは、公知であり、
それによつてこの型の焼付けた印刷板の後処理
は、一層困難になるかむしろ屡々不可能になる。
本発明のもう１つの利点は、プレセンシタイズ
された印刷板が、20℃〜40℃の温度で貯蔵した場
合、本発明により添加された架橋性環式酸アミド
の比較的に低い含有量のために著しく長い貯蔵寿
命を有することである。
本発明により得られた複写材料の優れた貯蔵可
能性は、この複写材料を例えば80℃の高められた
温度で貯蔵する場合に特に明らかになる。従つ
て、本発明の例１により得られた板試料（この場
合、これは80℃で５時間貯蔵した）は、露光後に
ポジのオリジナルを介して満足に現像することが
でき、画像部は、脂肪インキで着肉することがで
き、これとは異なり非画像部は、親水性のままで
ある。しかし、例１でヘキサメチロールメラミン
ヘキサメチルエーテルを同量の２，２−ビス−
（４−ヒドロキシ−３，５−ジヒドロキシメチル
−フエニル）−プロパンに代える場合には、得ら
れる板は、その他は不変の条件下で80℃で同様に
貯蔵され、非画像部は、30分間にすぎない貯蔵時
間後に親水性となり、したがつて脂肪インキでの
着肉の際に板表面の画像部及び非画像部の双方は
インキ受理性である。
もう１つの利点は、低い能力を有する焼付け炉
を使用することができることである。
下記の実施例には、他の被覆溶液が記載されて
おり、この場合には、同様の結果が得られる。別
記しない限り、この溶液を使用して得られた印刷
板の製造及び方法は、例１に記載の条件に相当す
る。
例 ２（参考例） 電気化学的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミ
ニウム板を、 トルエン中の、７，７−ビス−ヒドロキシメチ
ル−５−オキサ−ノナン−（１）−オール及びオ
ルト蟻酸トリメチルから得られた、ポリオルト
エステルの50％強の溶液 2.80重量部、 ２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，
６−ビス−トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
0.23重量部、 例１に記載のノボラツク 3.30重量部、 ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテ
ル 0.50重量部、及び ブタノン 90.00重量部中の クリスタルバイオレツト 0.04重量部 の溶液で被覆する。
こうして得られた印刷板を画像に応じて5kW
の金属ハロゲン化物灯の下で110cmの距離をもつ
て10秒間露光し、次に例１に記載の現像剤で現像
する。
190℃で５分間の焼付け時間は、印刷画像を硬
化させるのに十分である。比較可能に良好な抵抗
性を達成するためには、ヘキサメチロールメラミ
ンヘキサメチルエーテルなしに240℃の焼付け温
度が必要とされる。
例 ３ 電気化学的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミ
ニウム板（この場合、この板の表面は、ポリビニ
ルホスホン酸水溶液で前処理した）を、 ４，４−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−ｎ
−吉草酸のエトキシエチルエステル１モル及び
ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−５
−スルホン酸クロリド２モルから得られたエス
テル化生成物 1.36重量部、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−４
−スルホン酸クロリド 0.18重量部、 例１に記載のノボラツク 4.6重量部、 ヘキサメチロールメラミン 0.35重量部及び エチレングリコールモノエチルエーテル
100.00重量部中の クリスタルバイオレツト 0.07重量部 の溶液で被覆する。
200℃で５分間の焼付け時間は、印刷ステンシ
ルを硬化させるのに十分である。
例 ４ ワイヤーブラシでブラツシングすることによつ
て機械的に粗面化したアルミニウム板を、 １−（４−メチル−ベンゼンスルホニルイミノ）
−２−（２−エチルフエニル−アミノスルホニ
ル）−ベンゾキノン−（１，４）−ジアジド−
（４） 2.0重量部、 クロル酢酸で変性されたクレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラツク（西ドイツ国特許公開公報
第1053930号の例５に記載された） 0.5重量部、 例１に記載のノボラツク 2.0重量部ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル
60重量部及び 酢酸ブチル 15重量部中の ヘキサメチロールメラミンヘキサブチルエーテ
ル 0.5重量部 の溶液で被覆する。
190℃で５分間の焼付け時間は、印刷シテンシ
ルを硬化させるのに十分である。
例 ５（参考例） 電気化学的に粗面化しかつ陽性酸化したアルミ
ニウム板を、 ２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパン−
ジオールのビス−（５−エチル−５−ブチル−
１，３−ジオキサン−２−イル）−エーテル
2.5重量部、 例１に記載のクレゾール−ホルムアルデヒドノ
ボラツク 7.1重量部、 ２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−
トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
0.3重量部、 クリスタルバイオレツト塩基 0.07重量部及び エチレングリコールモノメチルエーテル
90重量部中の ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテ
ル 0.5重量部 の溶液で被覆する。
190℃で５分間の焼付け時間は、印刷ステンシ
ルを硬化させるのに十分である。
同様の結果は、西ドイツ国特許公開公報第
2718254号の記載と同様のポリアセタールを前記
オルトエステル誘導体の代りに使用する場合に達
成される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 感光性組成物において、アルカリ性水溶液中
    で可溶性である水不溶性結合剤；及びｏ−キノン
    ジアジド又はｐ−キノンジアジド、ジアゾニウム
    塩重縮合生成物、又は ａ 露光の際に酸を除去する化合物と、 ｂ 酸によつて分解することができる少なくとも
    １個のＣ−Ｏ−Ｃ基を有する化合物との感光成
    分である混合物；及び 一般式： 〔式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表わ
    す〕で示される環式酸アミドである熱架橋性化
    合物よりなることを特徴とする感光性組成物。 ２ 環式酸アミドが１〜20重量％の量で存在す
    る、特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 ３ アルカリ性水溶液中で可溶性である結合剤が
    ノボラツク樹脂である、特許請求の範囲第１項記
    載の感光性組成物。 ４ 結合剤が約50重量％〜約90重量％の量で存在
    する、特許請求の範囲第１項記載の感光性組成
    物。 ５ 感光性成分がｏ−キノンジアジドである、特
    許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 ６ ｏ−キノンジアジドが約３重量％〜約50重量
    ％の量で存在する、特許請求の範囲第１項記載の
    感光性組成物。 ７ 感光性成分が化合物ａと化合物ｂとの混合物
    であり、この場合化合物ａが組成物に対して約８
    重量％〜約65重量％の量で存在し、化合物ｂが組
    成物に対して約0.1〜約10重量％の量で存在する、
    特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 ８ Ｒが１〜約10個の炭素原子を有する、特許請
    求の範囲第１項記載の感光性組成物。 ９ Ｒが１〜４個の炭素原子を有する、特許請求
    の範囲第１項記載の感光性組成物。 １０ 感光性成分がナフトキノン−（１，２）−ジ
    アジド−（２）４又は５−スルホン酸エステル又
    はアミドよりなる群から選択されている、特許請
    求の範囲第１項記載の感光性組成物。 １１ 架橋剤がヘキサメチロールメラミンヘキサ
    メチルエーテルである、特許請求の範囲第１項記
    載の感光性組成物。
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Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3246106A1 (de) * 1982-12-13 1984-06-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
SU1165004A1 (ru) * 1983-09-01 1986-10-15 Центральный научно-исследовательский институт промышленности лубяных волокон Способ подготовки ровницы из волокна льн ного луба к мокрому пр дению
US4902770A (en) * 1984-03-06 1990-02-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Undercoating material for photosensitive resins
DE3528929A1 (de) * 1985-08-13 1987-02-26 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern
CA1308596C (en) * 1986-01-13 1992-10-13 Rohm And Haas Company Microplastic structures and method of manufacture
DE3617499A1 (de) * 1986-05-24 1987-11-26 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3634371A1 (de) * 1986-10-09 1988-04-21 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3711263A1 (de) * 1987-04-03 1988-10-13 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von druckformen
JPH02502312A (ja) * 1987-12-10 1990-07-26 マクダーミツド　インコーポレーテツド 像反転性乾燥フィルムホトレジスト
US4914000A (en) * 1988-02-03 1990-04-03 Hoechst Celanese Corporation Three dimensional reproduction material diazonium condensates and use in light sensitive
DE3900735A1 (de) * 1989-01-12 1990-07-26 Hoechst Ag Neue mehrfunktionelle (alpha)-diazo-(beta)-ketoester, verfahren zu ihrer herstellung und deren verwendung
CA2019693A1 (en) * 1989-07-07 1991-01-07 Karen Ann Graziano Acid-hardening photoresists of improved sensitivity
JPH03139650A (ja) * 1989-10-25 1991-06-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料及びパターン形成方法
JP3004044B2 (ja) * 1990-10-29 2000-01-31 東洋合成工業株式会社 感光性着色樹脂組成物
JP3006873B2 (ja) * 1990-11-14 2000-02-07 大日本印刷株式会社 Ｐｓ版用またはホログラム記録材料用光硬化性組成物
JP3003808B2 (ja) * 1991-03-14 2000-01-31 東京応化工業株式会社 マイクロレンズ及びその製造方法
JPH0534921A (ja) * 1991-07-30 1993-02-12 Mitsubishi Kasei Corp ネガ型感光性組成物
JPH05181277A (ja) * 1991-11-11 1993-07-23 Mitsubishi Kasei Corp ネガ型感光性組成物
JPH0643637A (ja) * 1992-07-23 1994-02-18 Sumitomo Chem Co Ltd パターンの保持方法
EP0599779A1 (de) * 1992-10-29 1994-06-01 OCG Microelectronic Materials AG Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum
JPH06202320A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
JP3575045B2 (ja) * 1993-06-21 2004-10-06 住友化学工業株式会社 カラーフィルター
JPH07120914A (ja) * 1993-10-21 1995-05-12 Hoechst Japan Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
JP2953562B2 (ja) * 1994-07-18 1999-09-27 東京応化工業株式会社 リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料
US5658708A (en) * 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
US5547812A (en) * 1995-06-05 1996-08-20 International Business Machines Corporation Composition for eliminating microbridging in chemically amplified photoresists comprising a polymer blend of a poly(hydroxystyrene) and a copolymer made of hydroxystyrene and an acrylic monomer
US5763134A (en) 1996-05-13 1998-06-09 Imation Corp Composition comprising photochemical acid progenitor and specific squarylium dye
US6489078B1 (en) * 1996-07-19 2002-12-03 Agfa-Gevaert IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6190829B1 (en) * 1996-09-16 2001-02-20 International Business Machines Corporation Low “K” factor hybrid photoresist
JP3810538B2 (ja) * 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6528218B1 (en) * 1998-12-15 2003-03-04 International Business Machines Corporation Method of fabricating circuitized structures
JP4042142B2 (ja) * 2000-09-08 2008-02-06 Ｊｓｒ株式会社 Ｅｌ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびｅｌ表示素子
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
KR100783603B1 (ko) * 2002-01-05 2007-12-07 삼성전자주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴의 형성방법
US20030215736A1 (en) * 2002-01-09 2003-11-20 Oberlander Joseph E. Negative-working photoimageable bottom antireflective coating
US7070914B2 (en) * 2002-01-09 2006-07-04 Az Electronic Materials Usa Corp. Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition
JP5412125B2 (ja) * 2008-05-01 2014-02-12 東京応化工業株式会社 液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5401126B2 (ja) 2008-06-11 2014-01-29 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5172505B2 (ja) 2008-07-07 2013-03-27 東京応化工業株式会社 ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5853844B2 (ja) * 2011-05-20 2016-02-09 信越化学工業株式会社 マイクロ構造体の製造方法及び光パターン形成性犠牲膜形成用組成物
JP2018151527A (ja) * 2017-03-13 2018-09-27 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA774047A (en) * 1963-12-09 1967-12-19 Shipley Company Light-sensitive material and process for the development thereof
DE1447963B2 (de) * 1965-11-24 1972-09-07 KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial
AT293449B (de) * 1965-11-24 1971-10-11 Kalle Ag Verfahren zum Herstellen einer Offsetdruckplatte aus vorsensibilisiertem Druckplattenmaterial
US3660097A (en) * 1969-11-28 1972-05-02 Polychrome Corp Diazo-polyurethane light-sensitive compositions
US4164421A (en) * 1972-12-09 1979-08-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photocurable composition containing an o-quinonodiazide for printing plate
US4259430A (en) * 1974-05-01 1981-03-31 International Business Machines Corporation Photoresist O-quinone diazide containing composition and resist mask formation process
CH613059A5 (en) * 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme
US4108664A (en) * 1976-11-01 1978-08-22 Gaf Corporation Light-sensitive negative-working film containing a diazo oxide sensitizer and a p-toluenesulfonyl halide or a 2,4-dihalo-S-triazine
US4191570A (en) * 1978-10-10 1980-03-04 Polychrome Corporation Process for heat treating lithographic printing plates
US4247616A (en) * 1979-07-27 1981-01-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Positive-acting photoresist composition
DE3039926A1 (de) * 1980-10-23 1982-05-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial

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