JPH0451018B2 - - Google Patents

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JPH0451018B2
JPH0451018B2 JP59175312A JP17531284A JPH0451018B2 JP H0451018 B2 JPH0451018 B2 JP H0451018B2 JP 59175312 A JP59175312 A JP 59175312A JP 17531284 A JP17531284 A JP 17531284A JP H0451018 B2 JPH0451018 B2 JP H0451018B2
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Japan
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styrene
maleic acid
group
carbon atoms
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JP59175312A
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Ryu Shuuchen
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Hoechst Celanese Corp
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Publication date
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Materials For Photolithography (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、改善された写真素子に関する。殊
に、本発明は、水性現像液中で現像することがで
きる新規の感光性組成物を使用する改善されたリ
ングラフイツク印刷板に関する。
従来技術 大抵のこのような写真素子は、適当な結合樹
脂、着色剤、安定剤、露光指示薬、界面活性剤等
との混合物の形で感光性ジアゾニウム化合物で被
覆されている金属シート基板よりなる。
刊行物には、リソグラフイツク印刷板の目的の
ために有用な過多の感光性組成物が開示されてい
るが、その実用性は、必要に応じてこの印刷板を
有機溶剤の実質量を含有する溶液で現像すること
に限定されている。これは、該溶剤が高価であり
かつその流出が環境上有害であるので望ましいこ
とではない。
西ドイツ国特許公開公報第1447957号（これは、
英国特許明細書第1110017号に相当する）には、
プレセンシタイズされたリングラフイツク印刷板
が開示されており、その感光層は、ジフエニルア
ミンジアゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合
生成物をアルカリ可溶性樹脂、例えばスチレンと
無水マレイン酸との共重合体との組合せ物で含有
する。該層は、水を用いても現像されるが、それ
は、限定された印刷能力を生じるにすぎない。
西ドイツ国特許公開公報第2243212号（米国特
許明細書第3877948号に相当）には、水溶性高分
子量アルキレンオキシド重合体、ポリカルボン酸
樹脂又はアルキレンオキシド重合体との会合を形
成するポリカルボン酸、及び感光剤よりなるリソ
グラフイツク印刷板が記載されている。スチレン
−無水マレイン酸共重合体は、特にこの感光性組
成物中でポリカルボン酸樹脂として使用すること
もできる。露光されていない層領域を洗浄除去す
ることによる現像段階は、実施されない。また、
この場合も得られる印刷能力は限定されている。
それというのも、勿論露光されていない裏地領域
の親水性の性質は、印刷版を光の中で貯蔵した際
に次第に失なわれるからである。
西ドイツ国特許公告公報室2019426号（英国特
許明細書第1352411号に相当）には、感光性組成
物及び腐食抵抗層を製造するための感光性複写材
料が開示されている。使用される感光性物質は、
４−ジアゾジフエニルアミン及びそれと縮合しう
る化合物のジアゾ重縮合物である。高分子量結合
剤としては、２つの樹脂の混合物が記載されてお
り；該樹脂の１つは、スチレン−無水マレイン酸
共重合体であることができ、他方は、ポリ酢酸ビ
ニルであることができる。該組成物を現像するた
めには、大量の有機溶剤を含有する現像液が専ら
使用される。
欧州特許出願第48876号（米国特許明細書第
4387151号に相当）には、ジアゾニウム塩単位Ａ
−N2Ｘ及びジアゾニウム基Ｂを含まない単位を
有するシアゾニウム塩重縮合生成物ならびにアル
カリ水溶液中で可溶性である、スルホニルウレタ
ン側基を有する重合体よりなる感光性組成物が記
載されている。この組成物は、有機溶剤の添加な
しにアルカリ水溶液で現像することができる。
効 果 本発明によれば、本質的成分としてジアゾニウ
ム塩重縮合生成物及びスチレン／マレイン酸部分
エステル共重合体を有する結合剤よりなりかつ画
像に応じて化学線に露光した後に実質的に水性の
現像液で現像することができる光硬化可能な組成
物が得られる。
作 用 本発明による組成物は、それが酢酸ビニル重合
体を付加的に結合剤として含有することを特徴と
する。
更に、本発明によれば、支持体及び感光性皮膜
よりなりかつリングラフイツク印刷板の製造に特
に好適であり、その際感光性皮膜が上記の光硬化
可能な組成物よりなる感光素子が得られる。
用語“実質的に水性の現像液”とは、塩及び界
面活性剤ならびに有機溶剤約10重量％未満の水溶
液を含有するものを意味する。特に、この現像液
は、このような有機溶剤約５％以下、特に約２％
以下、殊に０％を含有する。
写真素子の製造における第１段階の場合、例え
ばアルミニウム及びその合金、殊に例えば刊行物
でよく知られているような標準研磨及び／又は蝕
刻及び／又は陽極酸化技術によつて前処理するこ
とができたか又は前処理することができず、なら
びに例えばリングラフイツク板の親水性表面を得
るのに適当なポリビニルホスホン酸のような組成
物で処理することができたか又は修理することが
できなかつたアルコア（Alcoa）3003及びアルコ
ア（Alcoa）1100のようにリングラフイツク印刷
板の製造に適当であるようなアルミニウム組成物
のようなシート基盤は、露光される感光性ジアゾ
組成物で被覆される。
次に、感光性シート材料は、マスク又は透明画
を通じて照射源に露光され、次に露光したシート
は、露光されてない感光性材料を除去するために
現像される。
感光性組成物は、通常全部の組成物成分と相溶
しうる溶剤中で製造される。次に、組成物は、基
板上に被覆され、溶剤は乾燥される。組成物は、
例えば着色剤、酸安定剤及び露光指示薬のような
他の技術で認められている成分を含有することも
できる。
本発明に対して適当な感光性組成物の製造に多
くの場合に常用されるジアゾニウム化合物は、一
般構造Ａ−N2 +X-（但し、Ａは芳香族又は複素環
式基であり、Ｘは酸のアニオンである）によつて
示すことができる。
前記したように有用な感光性ジアゾニウム材料
の詳細な例は、例えば米国特許明細書第2063631
号及び同第2667415号に開示されているように、
例えば一定の芳香族ジアゾニウム塩を酸縮合媒体
中で、例えばホルムアルデヒドのような活性カル
ボニル化合物と縮合せることによつて得られる高
分子量組成物を包含する。ジアゾニウム化合物の
好ましい種類は、米国特許明細書第3849392号に
記載されている。
これに関連して記載される化合物の中で、縮合
しうるカルボニル化合物から誘導された、２価の
中間員によつて結合されている循環単位Ａ−N2
Ｘ及びＢを有するような縮合生成物は、好まし
く、この場合単位Ａ−N2Ｘは、一般式： （R1−R3−）pR2−N2Ｘ 〔式中、 Ｘはジアゾニウム化合物のアニオンであり、 ｐは１〜３の整数であり、 R1は少なくとも１つの位置で縮合しうる炭素
環式又は複素環式芳香族基であり、 R2はベンゼン又はナフタリン系のアリ−レン
基であり、 R3は単結合であるか又は基： −（CH2）ｑ−NR4−、 −ｏ−（CH2）ｒ−NR4−、 −ｓ−（CH2）ｒ−NR4−、 −ｓ−CH2−CO−NR4−、 −ｏ−R5−ｏ−、 −ｏ−、 −ｓ−、又は −co−NR4− （但し、 ｑは０〜５の数であり、 ｒは２〜５の数であり、 R4は水素原子、１〜５個の炭素原子を有する
アルキル基、７〜12個の炭素原子を有するアラル
キル基又は６〜12個の炭素原子を有するアリール
基であり、 R5は６〜12個の炭素原子を有するアリ−レン
基である）の１つである〕で示される化合物から
誘導され、Ｂは、芳香族アミン、フエノール、チ
オフエノール、フエノールエーテル、芳香族チオ
エーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環式化合
物、又は有機酸アミドの基を表わし、それはジア
ゾニウム基を含まない。
最も好ましいジアゾニウム塩は、米国特許明細
書第3849392号に教示されたように、メシチレン
スルホネートとして沈殿した、３−メトキシ−４
−ジアゾージフエニルアミンスルフエートと４，
４′−ビス−メトキシメチル−ジフエニルエーテ
ルとの重縮合生成物である。
本発明の実施に対して有用なポリ酢酸ビニル樹
脂は、約100000〜800000未満の範囲内の平均分子
量を有する。１つの好ましい平均分子量の最大
は、約700000であり；殊に680000である。最も好
ましい平均分子量は、約100000〜380000の範囲内
にある。本発明の範囲内で有用なポリ酢酸ビニル
樹脂は、場合によつてはヘキスト社（Hoechst
AG.Frankfuyt在、West Germany）から入手し
うるモワイライト（Mowilith ）25，30，50及
び60を包含する。
本発明の範囲内で有用なスチレン／マレイン酸
半エステル共重合体は、一般式： 〔式中、Ｒは１〜約５個の炭素原子を有する低
級脂肪族アルコール残基である〕有する。スチレ
ン成分は、特に共重合体鎖の末端キヤツプ員とし
て現われる。従つて、共重合体中のスチレン体マ
レイン酸半エステルの比は、１：＜１である。
共重合体は、約50000以下の平均分子量を有し、
好ましくは、約50000未満である。
特に、平均分子量は、約10000〜約50000の範囲
内にある。本発明の範囲内で有用な１つの特に好
ましい共重合体は、約20000Kのおよその平均分
子量を有する、モンサント社（Monsanto）から
入手しうるスクリプセツト（Scripset ）540で
ある。
本発明の範囲内で有用な適当な酸安定剤は、燐
酸、クエン酸、酒石酸及びｐ−トルエンスルホン
酸を含有する。
本発明に関連して有用な露光指示薬は、パラ−
フエニルアゾジフエニルアミン、カルコジン
（Calcozine）、フクシン、クリスタルバイオレツ
ト及びメチレンブルー染料を包含する。
本発明による写真素子で有用な着色剤の限定さ
れない例は、アセトソール（Acetosol）フアイ
ヤレツド3GLS、サンドラン（Sandolan）エオシ
ンＥ−Ｇ、アセトソール（Acetosol）グリーン
BLS、ゲナクリル（Genacryl）ブル−3G、サン
ドラン（Sandolan）シアニンＮ−6B、サンドプ
ラスト（Sandoplart）ブル−Ｒ、アトランテイ
ツク（Atlantic）アリザリンミリングブルー
FFR200、ネオザポン（Neozapon）フアイヤレ
ツドBL、エリトロシン、メチレンブルーIaDエ
クストラ、ビクトリアピユアブル−FGAのよう
な染料；及びグリーンゴールドピグメント及びサ
ンフアストバイオレツト（Suufast Violet）のよ
うな顔料を包含する。
ジアゾニウム塩は、固体組成物成分に対して約
20重量％〜約50重量％の量で被膜組成物中に存在
するのが好ましい。より好ましい範囲は、約12重
量％〜28重量％であり、最も好ましくは、約18重
量％〜23重量％である。
スチレン／マレイン酸半エステル共重合体は、
固体組成物成分に対して約25重量％〜約55重量％
の量で被膜組成物中に存在するのが好ましい。よ
り好ましい範囲は、約32重量％〜48重量％であ
り、最も好ましくは、約37重量％〜43重量％であ
る。
酸安定剤は、使用の場合に固体組成物成分に対
して約1.5重量％〜約4.5重量％の量で被膜組成物
中に存在するのが好ましい。より好ましい範囲
は、約2.0重量％〜約4.0重量％であり、最も好ま
しくは、約2.5重量％〜3.5重量％である。
露光指示薬は、使用の場合に固体組成物成分に
対して約0.05重量％〜約0.35重量％の量で被膜組
成物中に存在するのが好ましい。より好ましい範
囲は、約0.10重量％〜0.30重量％であり、最も好
ましくは、約0.15重量％〜0.25重量％である。
着色剤は、使用の場合に固体組成物成分に対し
て約0.25重量％〜約0.55重量％の量で皮膜組成物
中に存在するのが好ましい。より好ましい範囲
は、約0.30重量％〜0.50重量％であり、最も好ま
しくは、約0.35重量％〜0.45重量％である。
本発明の成分を結合するための媒体として使用
することができる適当な溶剤は、メチルセロソル
ブ、エチレングリコールエーテル、ブチロラクト
ン、エチルアルコール及びロープロパノールのよ
うなアルコール、ならびに例えばメチルエチルケ
トンのようなケトンを包含する。一般に、該溶剤
は、それがひとたび適当な基板に塗布されれば皮
膜から蒸発するが、溶剤の僅少量は、残滓として
残ることができる。
本発明による写真素子を製造するのに有用な基
盤は、透明フイルム、アルミニウム合金、シリコ
ーン及び刊行物でよく知られている同様の材料を
包含する。
リングラフイツク印刷板を製造する場合、アル
ミニウムを含有する基板は、第１にワイヤブラ
シ、粒子のスラリ又は例えば塩酸電解液中での電
気化学的手段を用いるような刊行物を認められる
方法によつて研磨するのが好ましい。次に、研磨
した板は、例えば刊行物によく知られた方法で硫
酸又は燐酸中で陽極酸化することができる。次
に、研磨されかつ陽極酸化された表面は、例えば
ポリビニルホスホン酸、珪酸ナトリウム等で処理
することによつと親水性にすることができ、この
手段は、当業者にも知られている。次に、こうし
て得られた板は、本発明による組成物で被覆さ
れ、乾燥され、適当なマスクを通じて化学線に露
光され、かつ水性塩基性現像液で現像される。
本発明による写真素子に対して有用な適当な現
像液は、 ａ オクチル、デシル又はドデシルモノスルフエ
ートのナトリウム、カリウム又はリチウム塩； ｂ ナトリウム、リチウム、カリウム又はアンモ
ニウムメタ珪酸塩； ｃ リチウム、カリウム、ナトリウム又はアンモ
ニウム硼酸塩； ｄ 脂肪族ジカルボン酸、又は２〜６個の炭素原
子を有する、その酸のナトリウム、カリウム又
はアンモニウム塩；ならびに ｅ ジ−ナトリウム又は−カリウムホスフエート
及び／又はトリ−ナトリウム又は−カリウムホ
スフエートを含有するアルカリ水溶液を包含す
る。
実施例 次の限定されてない実施例は、本発明を証明す
るのに役立つ。
例 １ 被膜溶液を次の組成に応じて得る： 燐 酸 （85％） 0.447g、 ポリ酢酸ビニル （Mowillith 60.Hoechst AG） 2.790g、 スチレン／マレイン酸半エステル共重合体 （Scripset 540.Monsanto） 5.581g、 パラ−フエニルアゾジフエニルアミン0.030g、 アセトゾール（Acetosol）フアイア レツド3GLS （C.I.Solvent Red 124） 0.056g、 メシチレンスルホネートとして沈殿 した、３−メトキシジフオニル−ア ミン−４−ジアゾニウム塩１モル及 び４，4′−ビス−メトキシメチル− ジフエニルエーテル１モルの重縮合 生成物 5.023g。
上記成分を順次にエチレングリコールのモノメ
チルエーテル450g中に強力に撹拌しながら添加
する。全部の成分が溶解した後、この溶液を濾過
し、スラリ研磨されかつ親水性にされたアルミニ
ウム表面上に70rpmで回転塗布する。乾燥の際、
この板を300mj／cm2を使用しネガフイルムを通じ
てバーキー／アスコーア（Berkey／Ascor）
（24″×28″）露光装置中で露光する。露光した板
を次の成分： ％ H2Ｏ 91.7 ナトリウムオクチルスルフエート 2.5 メタ珪素ナトリウム 0.1 燐酸水素二ナトリウム 1.5 燐酸三ナトリウム 1.5 蓚酸カリウム 1.7 四硼酸カリウム 1.0 を含有する水性アルカリ現像液で現像し、露光さ
れてない領域を除去し、露光した領域を画像とし
て残す。板を加水分解されたタピオカ澱粉約10％
及び燐酸0.5％を含有する水溶液で洗浄する。得
られた板を普通の印刷条件下でオフセツト枚葉紙
印刷機に取付け、30000枚の良質の刷りを得る。
例 ２ 例１を繰り返すが、ポリ酢酸ビニルを排除す
る。画像領域は、現像液による攻撃を示す。それ
というのも、短縮された階段楔、鮮明な網点及び
被膜重量損失が観察されるからである。
例 ３ 例１を繰り返すが、ポリスチレン／マレイン酸
半エステルを排除する。除去された非画像領域被
膜の認容できない量は、板の画像領域上に再び沈
積される。このような現象は、一般に印刷にとつ
て不適当である。
例 ４ 例１を繰り返すが、モワイライト（Mowilith）
60の代りに分子量100000を有するモワイライト
（Mowilith）25を使用する。結果は例１と比較可
能である。
例 ５ 例１を繰り返すが、記載した溶液をスラリ研磨
され、陽極酸化され、かつ親水性にされたアルミ
ニウム表面上に塗布する。得られた板を普通の印
刷条件下でオフセツト枚葉紙印刷機に取付け、
60000枚の良質の刷りを得る。
例 ６ 例１を繰り返すが、記載した溶液を電気化学的
に研磨されかつ親水性にされたアルミニウム表面
上に塗布する。得られた板を普通の印刷条件下で
オフセツト枚葉紙印刷機に取付け、30000枚の良
質の刷りを得る。
例 ７ 例１を繰り返すが、モワイライト（Mowilith）
60をエイ・ワイ・エイ・テイー（AYAT）
（Union Carbide社からのポリ酢酸ビニル）によ
つて代える。結果は例１と比較可能である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 本質的成分としてジアゾニウム塩重縮合生成
    物及びスチレン／マレイン酸部分エステル共重合
    体よりなる光硬化可能な組成物において、酢酸ビ
    ニル重合体が付加的に結合剤として存在すること
    を特徴とする、光硬化可能な組成物。 ２ 酢酸ビニル重合体が100000〜800000の範囲内
    の平均分子量を有する、特許請求の範囲第１項記
    載の光硬化可能な組成物。 ３ 酢酸ビニル重合体がポリ酢酸ビニルよりな
    る、特許請求の範囲第１項記載の光硬化可能な組
    成物。 ４ 共重合体中のマレイン酸部分エステルが１〜
    ５個の炭素原子を有するアルコールのエステルよ
    りなる、特許請求の範囲第１項記載の光硬化可能
    な組成物。 ５ スチレン／マレイン酸部分エステル共重合体
    が末端スチレン単位を有する、特許請求の範囲第
    １項記載の光硬化可能な組成物。 ６ スチレン／マレイン酸部分エステル共重合体
    が50000を越えない平均分子量を有する、特許請
    求の範囲第１項記載の光硬化可能な組成物。 ７ ジアゾニウム塩重縮合生成物が縮合しうるカ
    ルボニル化合物から誘導された、２価の中間員に
    よつて結合されている循環単位Ａ−N2Ｘ及びＢ
    よりなり、この場合単位Ａ−N2Ｘは、一般式： （R1−R3−）pR2−N2Ｘ 〔式中、 Ｘはジアゾニウム化合物のアニオンであり、 ｐは１〜３の整数であり、 R1は少なくとも１つの位置で縮合しうる炭素
    環式又は複素環式芳香族基であり、 R2はベンゼン又はナフタリン系のアリ−レン
    基であり、 R3は単結合であるか又は基： −（CH2）ｑ−NR4−、 −ｏ−（CH2）ｒ−NR4−、 −ｓ−（CH2）ｒ−NR4−、 −ｓ−CH2−CO−NR4−、 −ｏ−R5−ｏ−、 −ｏ−、 −ｓ−、又は −co−NR4− （但し、 ｑは０〜５の数であり、 ｒは２〜５の数であり、 R4は水素原子、１〜５個の炭素原子を有する
    アルキル基、７〜12個の炭素原子を有するアラル
    キル基又は６〜12個の炭素原子を有するアリール
    基であり、 R5は６〜12個の炭素原子わ有するアリ−レン
    基である）の１つである〕で示される化合物から
    誘導され、Ｂは、芳香族アミン、フエノール、チ
    オフエノール、フエノールエーテル、芳香族チオ
    エーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環式化合
    物、又は有機酸アミドの基を表わし、それはジア
    ゾニウム基を含まない、特許請求の範囲第１項記
    載の光硬化可能な組成物。 ８ ジアゾニウム塩重縮合生成物20〜50重量％、
    酢酸ビニル重合体８〜33重量％及びスチレン／マ
    レイン酸部分エステル共重合体25〜55重量％より
    なる、特許請求の範囲第１項記載の光硬化可能な
    組成物。 ９ 支持体ならびに本質的成分としてジアゾニウ
    ム塩重縮合生成物及びスチレン／マレイン酸部分
    エステル共重合体を有する感光性被膜よりなる感
    光素子において、該感光性被膜が酢酸ビニル重合
    体を付加結合剤として含有することを特徴とす
    る、感光素子。 １０ 支持体がアルミニウムよりなる、特許請求
    の範囲第９項記載の感光素子。
JP59175312A 1983-08-25 1984-08-24 光硬化可能な組成物及び感光素子 Granted JPS6070440A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/525,927 US4511640A (en) 1983-08-25 1983-08-25 Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer
US525927 1983-08-25

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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3404366A1 (de) * 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4618562A (en) * 1984-12-27 1986-10-21 American Hoechst Corporation Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor
US4786582A (en) * 1985-08-02 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Organic solvent free developer for photosensitive coatings
US4764449A (en) * 1985-11-01 1988-08-16 The Chromaline Corporation Adherent sandblast photoresist laminate
US4929532A (en) * 1986-07-01 1990-05-29 Hoechst Celanese Corporation Diazo negative color proofing process utilizing acrylic/acrylate polymers
JPH01102456A (ja) * 1987-10-15 1989-04-20 Konica Corp 感光性組成物
US5035982A (en) * 1989-07-14 1991-07-30 Eastman Kodak Company Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate
US5260173A (en) * 1990-04-19 1993-11-09 Birkholm James G Process for laminated electromagnetic radiation imaged polymerized material with a integral membrane
US5068168A (en) * 1990-12-20 1991-11-26 Monsanto Company Styrene/maleates terpolymers
DE19518118C2 (de) * 1995-05-17 1998-06-18 Sun Chemical Corp Lichtempfindliche Zusammensetzung
DE19524851C2 (de) * 1995-07-07 1998-05-07 Sun Chemical Corp Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten
DE19525050C2 (de) * 1995-07-10 1999-11-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19644515A1 (de) * 1996-10-25 1998-06-25 Sun Chemical Corp Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19847616C2 (de) * 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
US6315916B1 (en) 2000-05-08 2001-11-13 Pisces-Print Image Sciences, Inc. Chemical imaging of a lithographic printing plate
US20040154489A1 (en) * 2000-05-08 2004-08-12 Deutsch Albert S. Chemical imaging of a lithographic printing plate
US6691618B2 (en) 2000-05-08 2004-02-17 Pisces-Print Imaging Sciences, Inc. Chemical imaging of a lithographic printing plate
US6270938B1 (en) 2000-06-09 2001-08-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
KR20020077948A (ko) 2001-04-03 2002-10-18 삼성에스디아이 주식회사 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물
US20190391495A1 (en) 2016-12-01 2019-12-26 Agfa Nv Method of making a lithographic printing plate precursor containing a diazonium compound
ES2881270T3 (es) 2017-12-08 2021-11-29 Agfa Nv Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica
WO2019221194A1 (ja) * 2018-05-16 2019-11-21 Dic株式会社 パターン形成材料及び硬化膜、並びに硬化パターンの製造方法
WO2020120402A1 (en) 2018-12-10 2020-06-18 Agfa Nv On-press processing of a uv or violet-sensitized lithographic printing plate

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2822271A (en) * 1953-10-19 1958-02-04 Keuffel & Esser Co Photosensitive material
US2980534A (en) * 1956-12-17 1961-04-18 Monsanto Chemicals Photographic compositions and photographic elements
US2990281A (en) * 1956-12-17 1961-06-27 Monsanto Chemicals Photosensitive resinous compositions and photographic elements
NL267931A (ja) * 1960-08-05 1900-01-01
US3382069A (en) * 1964-06-18 1968-05-07 Azoplate Corp Planographic printing plate
DE1447593A1 (de) * 1964-12-24 1969-04-30 Agfa Gevaert Ag Lichtvernetzbare Schichten
JPS4910841B1 (ja) * 1965-12-18 1974-03-13
US3591381A (en) * 1967-07-31 1971-07-06 Eastman Kodak Co Stabilized diazotype composition
US3849392A (en) * 1969-05-20 1974-11-19 Kalle Ag Process for the production of polycondensation products of aromatic diazonium compounds
NL7009571A (ja) * 1969-07-09 1971-01-12
DE2019426C3 (de) * 1970-04-22 1981-01-29 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch und lichtempfindliches Kopiermaterial
US3725069A (en) * 1971-09-13 1973-04-03 Scott Paper Co Diazo lithographic composition and article
US3847614A (en) * 1971-09-13 1974-11-12 Scott Paper Co Diazo photopolymer composition and article comprising carboxylated resin
BE789196A (fr) * 1971-09-25 1973-03-22 Kalle Ag Matiere a copier photosensible
US3933499A (en) * 1972-09-11 1976-01-20 Lith-Kem Corporation Printing plate comprising diazo-borofluoride and diazo resin layers
JPS527364B2 (ja) * 1973-07-23 1977-03-02
NL7413844A (nl) * 1974-10-23 1976-04-27 Oce Van Der Grinten Nv Lithografische kopieerfilm.
US4186069A (en) * 1978-01-30 1980-01-29 Richardson Graphics Company Photopolymerizable latex systems
JPS55527A (en) * 1978-06-16 1980-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic plate
DE2834059A1 (de) * 1978-08-03 1980-02-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung
DE3130987A1 (de) * 1981-08-05 1983-02-24 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung von flachdruckformen aus einem lichtempfindlichen material auf basis von diazoniumsalz-polykondensationsprodukten

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Publication number Publication date
ZA845700B (en) 1985-06-26
US4511640A (en) 1985-04-16
DE3478879D1 (en) 1989-08-10
AU3113884A (en) 1985-02-28
EP0135026B1 (de) 1989-07-05
AU567264B2 (en) 1987-11-12
JPS6070440A (ja) 1985-04-22
EP0135026A3 (en) 1985-10-16
BR8404223A (pt) 1985-07-23
CA1241862A (en) 1988-09-13
EP0135026A2 (de) 1985-03-27

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