JPH044045A - 排ガス処理触媒 - Google Patents

排ガス処理触媒

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JPH044045A
JPH044045A JP2105168A JP10516890A JPH044045A JP H044045 A JPH044045 A JP H044045A JP 2105168 A JP2105168 A JP 2105168A JP 10516890 A JP10516890 A JP 10516890A JP H044045 A JPH044045 A JP H044045A
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耕三 飯田
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浩 藤田
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良昭 尾林
Masato Suwa
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は窒素酸化物(以下、NOxと略称)−酸化炭素
(CO) 、炭化水素(以下、HCと略称)を含有する
排気ガスを浄化する触媒に関する。
〔従来の技術〕
自動車等のガソリンエンジン、トラック、バス等のディ
ーゼルエンジンなどから排出される燃焼排ガス中にはN
Ox 、 CD、 HCなど光化学スモッグの原因にな
ると言われている有害物質が含まれており、環境保全の
立場からその除去方法の開発は重大かつ緊急の社会的課
題である。
排ガス中のNOx除去法としては吸着法、酸化吸収法、
接触還元法などがあるが、後処理不要の接触還元法が経
済的、技術的にも有利とされている。この接触還元法は
還元ガスの所在下で触媒を通過させることによりNOx
を無害な窒素に転化する方法であり、還元剤の種類によ
り三方法に分けられる。
すなわち、水素、−酸化炭素、炭化水素等の還元性のガ
スを加えて触媒と接触させるいわゆる非選択還元法と、
アンモニア等の還元ガスを加えて触媒と接触させるいわ
ゆる選択還元法である。前者はガス中に共存する酸素と
還元剤の反応後NOx除去反応が進行するた約多量の還
元剤を必要とする難点があるが、自動車などの内燃機関
から生じる排ガスのように一酸化炭素、炭化水素などの
還元剤を酸素の等モル以上に既に含有している場合は非
選択還元法で排ガス中のNOXを浄化する方が有利であ
り、自動車排ガス中のNOx浄化用触媒は非選択還元反
応用のものが実用化されている。
自動車排ガスは触媒を用いない場合、第1図のようなガ
ス組成を示すが、Pt、Rh(活性金属体) /Al2
O3(担体)/コージライト(ハニカム基材)のような
三元触媒を用いた場合、第2図のようなガス組成になり
、理論空燃比近傍でNOx 、 CD、 HCの3成分
が浄化されている。理論空燃比でのエンジン燃焼排ガス
はほぼ次のような組成のものである。
CO:0.3〜1.0%、NO:0.05〜0.15%
、H2O:約13%、H,:0.1〜0.3%、H[:
:0.03〜0.08%、S02:約0.002%、0
□:0.2〜0.5%、CO3:約12% 〔発明が解決しようとする課題〕 自動車エンジンの排ガスを浄化するた約に実用化されて
いる前記のような三元触媒を用いた場合、酸化反応によ
り酸素が消費され、酸素濃度がかなり低くなった状態で
NOの還元反応が進行する。従って、現状の三元触媒は
理論空燃比(14,6)近傍でのみ有効であり、燃焼消
費率が低くできる空燃比の高い領域ではNOxを減少さ
せるのが困難であった。
一方、燃費改善のたt、空燃比の高いリーン領域でもN
Oxを還元除去できる必要性があり、幅広い02濃度で
脱硝が可能な触媒の出現が待ち望まれていた。
近年、シリカゲルやゼオライトにCuをイオン交換して
得られる触媒がNOの直接分解に有効であることが報告
された(特開昭60−125250号公報等)  しか
し、この触媒をそのまま自動車エンジンの排ガス浄化用
触媒に用いると[:0. HCの燃焼が顕著であり、N
Oxの還元除去があまり進まず、さらに耐熱性に乏しい
という問題があった。
〔課題を解決するた約の手段〕
本発明は従来技術が有する上記の問題点を解決すること
を目的としたものであり、特定の組成、結晶構造を有す
る結晶性シリケートを用いて銅とさらに特定の活性金属
を共合させた触媒が理論空燃比近傍及び理論空燃比より
高い領域、すなわち酸素が多量に存在する状態において
もNOX 、 Co、 H[:を減少させることを見出
し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、 (1)下記A表で示されるX線回折特性を有し、脱水さ
れた状態において酸化物のモル比で表わして、 (1,0±0.8)R2[+−[aM、03−b^12
L]  ・ysto。
(但し、上記式中、Rはアルカリ金属イオン及び/又は
水素、Mは■族金属、希土類金属、チタン、バナジウム
、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウムからなる群か
ら選ばれた1種以上の元素イオン、a+b=1.a≧0
゜b≧0.y>11) の化学式を有する結晶性シリケートに、銅とさらに特定
の金属を共存させてなる排ガス処理触媒。
A表 〔照射は銅のKcX線〕 〔Ioは最も強いピーク強度でI/1.は相対強度〕 (2)  上記性の活性金属がマグネシウム、カルシウ
ム、バリウム、ストロンチウム、リチウム、ナトリウム
、カリウム、ホウ素、アルミニウム、リン、スズ、アン
チモン、シリコン、チタニウム、亜鉛、バナジウム、ニ
オブ、鉄、コバルト、ニッケル、マンガン、ランタン、
セリウム、プラセオジウム、ネオジウム、サマリウム、
タングステンの中から少なくとも1種以上が含まれる上
記(1)記載の排気ガス処理触媒。
である。
〔作用] 本発明で使用する触媒の作用については、イオン交換し
た銅イオンの酸化還元サイクル(Cu”−”Cu” )
が容易で、酸素を比較的低温で放出しやすく、結晶性シ
リカケート上の銅がCDやHCを活性化し、活性化した
これらのガスがNoと反応し、NOxを除去する作用が
ある。さらに銅き他の金属とを共存させることにより活
性金属(銅)の耐熱性を向上し、脱硝反応の選択性を向
上することを可能にした。
すなわち、上記金属はCuイオンのNO吸着能や酸化還
元サイクル能を維持したまま、Cuの高温でのシンタリ
ングを抑制する作用を有するものであり、マグネシウム
(Mg) 、カルシウム(Ca)バリウム(Ba)  
ストロンチウム(Sr)   リチウム(Li)  ナ
トリウム(Na)  カリウム(K)、ホウ素(B)、
アルミニウム(AI)  リン(P)、スズ(3口) 
アンチモン(Sb)  シリコン(Si)チタニウム(
Ti) 、亜鉛(Zn) 、バナジウム(v)、ニオブ
(Nb) 、鉄(pe)  :lバルト(CO)ニッケ
ル(Ni) 、マンガン(Mn)  ランタン(La)
 、セリウム(Ce)  プラセオジウム(Pr)ネオ
ジウム(Nd) 、サマリウム(Sn+)  タングス
テン(11)の中から少なくとも1種以上を含有するも
のである。
これらの金属はイオン交換法で特定の結晶構造、特定の
組成を有する結晶性シリケート上に担持させ、銅と共存
させることができる。さらに硝酸塩、塩化物、硫酸塩の
各種塩を含浸法により上記担体上に担持することもでき
る。
本発明で使用する特定の結晶性シリケートよりなる担体
上に担持される銅と他の金属の好ましい含有量は担体1
00重量部に対してCuは0.2〜30重量部好ましく
は0.4〜2O重量部、一方、他の金属として、Mg、
 Ca、 Ba、 Sr、 Li。
Na、 K 、 B 、 AI、 P 、 Si、 S
nは0.2〜8重量部、Sb、 Ti、 Zn、 V 
、 Nb、 Fe、 Co、 Ni、 Mn、 La、
 Ce。
Pr、 Nd、 Sm、―は0.1〜6重量部である。
なお本発明で使用する上記結晶性シリケートは、シリカ
の給源、■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、
クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウムの酸化物の給源
、アルミナの給源、アルカリの給源、水及び有機窒素含
有化合物を含有する反応混合物をつくり、この混合物を
結晶性シリケートが生成するのに至る時間及び温度で加
熱することにより合成される。
さらに本発明で使用する結晶性シリケートは、5102
/ Al2O3比が12以上の高シリカゼオライトまた
は、従来のゼオライトの構造中のA1の一部が■族元素
、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、
アンチモン、力゛クロムに置きかわったものであり、さ
らに5102/ (M−03+A12O3)比が12以
上であることを特徴としており、下記のモル組成の反応
混合物から製造される。
5102/ (M2O3+^12O−)   12〜3
000(好ましくは2O〜2O0) DH”’ /Si0.       0〜1.0(好ま
しくは、0.2〜0.8) H2O/5in22〜1000 (好ましくは、10〜2O0) 有機窒素含有化合物/ (LOs +A12O3)(好
ましくは、5〜50) 本発明で使用される触媒の工業的使用に際しては、適当
な形に成形して使用することが望ましい。例えば、シリ
カ、アルミナ等の無機酸化物または粘土をバインダーと
し、場合により有機物等の成型助剤を使用して球状、柱
状、ハニカム状に成形する。銅と他の金属を担持する前
の結晶性シリケートをあらかじめ成形し、その成形体を
銅イオンで交換したものでも本発明で使用する触媒とみ
なすことができる。成形体の大きさは特に制限されない
〔実施例1〕 結晶性シリケートを次のようにして合成した。
水ガラス、硫酸第二鉄、硫酸アルミニウム、水を Na2O’ (0,lFe2Oa ” 0.9A12O
3) ” 30S102・1600)+2Oのモル比に
なるように調合し、これに硫酸を適当量添加し、上記混
合物のpHが9前後になるようにした後、有機窒素含有
化合物としてプロピルアミン、臭化プロピルをpe2O
a + ^12O.の合計のモル数の2O倍加え、よく
混合し、500COのステンレス製オートクレーブには
り込んだ。
上記混合物を約50 Orpmにて攪拌しながら160
℃で3日間反応させた。冷却後、固形分をろ過し、洗浄
水のpHが約8になるまで充分水洗し、110℃で12
時間乾燥し、550℃で3時間焼成した。
この生成物の結晶粒径は、1μ前後であり、酸化物のモ
ル比で表わした組成は脱水の形態で表わして、(H,N
a) 2O ” (0,IFe、O,+ 0.9A1.
D3) ’30S102であった。これを結晶性シリケ
ート1と称する。
この結晶性シリケート1を合成する場合、原料の中で硫
酸の代わりに塩酸などを用いても、又、硫酸第二鉄の代
わりに塩化第二鉄を用いても、又水ガラスの代わりにシ
リカゾルを用いても同様のシリケートが得られた。
又、水熱合成条件として160℃で3日間反応させる代
わりに170℃または180℃で2日間反応させても同
様のシリケートが得られた。
結晶性シリケート1の原料調合時の硫酸第二鉄と硫酸ア
ルミニウムの添加量をFezO3とAl2O3のモル比
に換算して下記のように変えた以外は、結晶性シリケー
ト1の場合と同じ操作を繰り返して結晶性シリケート2
〜4を調整した。
結晶性シリケート1の調合時において、硫酸の代わりに
塩酸を用い、また硫酸第二鉄の代わりに、塩化コバルト
、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタン、塩化
セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化クロム、
塩化アンチモン、塩化ガリウムを各々酸化物換算でPe
2Oaと同じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケー
ト1と同じ操作を繰返して結晶性シリケート5〜14を
調製した。これらの結晶性シリケートの有機窒素含有化
合物を除外した組成は、酸化物のモル比(脱水の形態)
で表わして、(H,Na)2O ” (0,1M2O3
0,9A12O3) ” 30Si02テあった。ここ
でMはCo、 Ru、 Rh、 La、 Ce、 Ti
、 V。
[:r、 Sb、 Ga (結晶性シリケート5〜14
の番号順)である。
また結晶性シリケート1において調合時の5I02/ 
(0,1Fe2O3 + 0.9A12O3)比を2O
.80とした以外は結晶性シリケート1と同じ操作を繰
り返して各々結晶性シリケー)15.16を調製した。
以上の結晶性シリケート1〜16の粉末X*回折パター
ンは表1に示すパターンを示すことが確認された。
以上の結晶性シリケート1〜16のそれぞれ10gを塩
化第二銅1gと塩化亜鉛1gを500ccの水に溶解し
た水溶液の中に入れ、室温にて12時間攪拌するイオン
交換操作を行った。このイオン交換操作を3回繰返し行
った後、水洗し、100℃で12時間乾燥し、触媒1〜
16(結晶性シリケートの番号に対応)を調製した。
さらに、結晶性シリケー)1 10gを塩化第二銅(C
uCl2 ・2H2O) 1 gと、塩化亜鉛(ZnC
1z)に代えて、塩化カルシウム(Cat:I2・H,
O) 、塩化バリウム(BaC12・2H,0)、塩化
ストロンチウム(SrC12・6H2O)、塩化ナトリ
ウム(NaC1)塩化カリウム(KCI)、ホウ酸(8
3BO,)、塩化アルミニウム(AIC1,)、塩化ス
ズ (SnC12・2H2O)四塩化ケイ素(SIC1
4)を各々1gを500 ccの水に溶解した水溶液に
入れ、室温にて12時間攪拌するイオン交換操作を行っ
た。このイオン交換操作を3回繰り返した後、水洗し、
100℃で12時間乾燥し触媒17〜25を調製した。
また、結晶性シリケー)2 10gに塩化第2銅(Cu
[:lz ・2H2O)と、塩化アンチモン(5bC1
s)、四塩化チタン(TIC14)、三塩化バナジウム
(vC13)、塩化ニオブ(NbCIS)、三塩化鉄(
Feels)、塩化コバルト([:0CI2 ・6LO
)、塩化ニッケル(NIC12・6H2O)、塩化マン
ガン(MnC12−482O) 、塩化ランタン(La
C1s)、塩化セリウム(Ce[:I3)、塩化プラセ
オジウム(PrC1+ ・7H2O) 、塩化ネオジウ
ム(NdC13)、塩化サマリウム(SmCI+)、塩
化タングステン(WCl2)の各水溶液を、上記結晶性
シリケートに対して各原子比にてCu 0.6 mmo
l/g、上記元素をQ、 4 mmol八担持へれるよ
うに含浸し、110℃にて24時間乾燥し、触媒26〜
39を調製した。
触媒1〜39を16〜32メツシユに整粒し、触媒0.
5gを常圧固定床流通式反応器に充填し、次の反応条件
下で活性評価試験を行った。その結果を表2に併せて示
す。
ガス組成: NO: 500ppm、 C3H6: 5
00ppm、 CO:0.5%、0.:2%、  He
バランスガス流量:2Nlh、  反応温度:500℃
〔比較例1〕 実施例1に記す結晶性シリケート1を10g用いて塩化
第2銅1gを500 ccの水に溶解した水溶液に入れ
、室温にて12時間攪拌を3回繰り返すイオン交換操作
を行った。イオン交換後、水洗し100℃で12時間乾
燥し、触媒40を調製した。
この触媒40を実施例1に示した条件と同一条件にて活
性評価試験を実施した。結果を表2に併せて示す。
〔実施例2〕 実施例1の触媒1と比較例1の触媒40を0.5g、常
圧固定床流通式反応器に充填し、反応条件を変えて活性
評価試験を行った。その結果を表3に示す。
なお、表3に示す100時間後・の活性評価結果は73
0℃X100時間(ガス組成雰囲気)強制加熱試験後に
実施した活性評価結果である。
以上のように本発明で使用される触媒は、SO3が含有
したガスを用いても活性が高いこと、また活性の経時変
化が少ないことがわかった。
〔実施例3〕 実施例1の結晶性シリケート1の原料調合時の硫酸第二
鉄の代わりに塩化第二鉄と塩化クロムの混合物を用い、
NazO・(0,09Fez03・0.01Cr2L 
・0.9^1.0.) −30Si02−1600H,
0のモル比になるように調合した点以外は、結晶性シリ
ケート1と同じ方法で結晶性シリケートを得、同じ方法
でCuとZnの共イオン交換を実施し触媒41を得た。
また結晶性シリケート1を用いて実施例1と同じ方法で
Cuと2nとMgの3種金属の共イオン交換を実施し、
触媒42を得た。実施例1と同じ活性評価を行った結果
を表2に併せて示す。
〔発明の効果〕
以上、実施例に示したように、本発明において特定の結
晶構造と特定の組成を有する結晶性シリケートに銅とさ
らに特定の金属を共合させた触媒を用いることにより、
NOx 、 Co 、 HCを含有する排ガス中のNO
X 、 CO、HCを低減させることが可能となる。
なお、本実施例では本触媒を粒状にて活性評価試験を行
っているが、コーデイユライト等1のハニカム基材に本
触媒をコーティングし、/’tニカム形状においても有
効な作用を有することは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は自動車排ガスの組成(触媒なし)図表、第2図
は三元触媒を用した場合の排ガス組成図表である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記A表で示されるX線回折特性を有し、脱水さ
    れた状態において酸化物のモル比で表わして、 (1.0±0.8)R_2O・〔aM_2O_3・bA
    l_2O_3〕・ySiO_2(但し、上記式中、Rは
    アルカリ金属イオン及び/又は水素、MはVIII族金属、
    希土類金属、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、ア
    ンチモン、ガリウムからなる群から選ばれた1種以上の
    元素イオン、a+b=1,a≧0,b≧0,y>11) の化学式を有する結晶性シリケートに、銅とさらに特定
    の金属を共存させてなることを特徴とする排ガス処理触
    媒。 A表 ▲数式、化学式、表等があります▼ W:弱 M:中級 S:強 VS:非常に強 〔照射は銅のKα線〕 〔I_0は最も強いピーク強度でI/I_0は相対強度
  2. (2)上記他の活性金属がマグネシウム、カルシウム、
    バリウム、ストロンチウム、リチウム、ナトリウム、カ
    リウム、ホウ素、アルミニウム、リン、スズ、アンチモ
    ン、シリコン、チタニウム、亜鉛、バナジウム、ニオブ
    、鉄、コバルト、ニッケル、マンガン、ランタン、セリ
    ウム、プラセオジウム、ネオジウム、サマリウム、タン
    グステンの中から少なくとも1種以上が含まれる特許請
    求の範囲第1項記載の排気ガス処理触媒。
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