JPH0440645A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
- Publication number
- JPH0440645A JPH0440645A JP2146307A JP14630790A JPH0440645A JP H0440645 A JPH0440645 A JP H0440645A JP 2146307 A JP2146307 A JP 2146307A JP 14630790 A JP14630790 A JP 14630790A JP H0440645 A JPH0440645 A JP H0440645A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- hygroscopic
- hygroscopic film
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- Prior art date
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- Granted
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
る。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図である。第１図
に示すように、溝幅０．６μｍ、溝深さ７００人、溝ピ
ッチ１．６μｍのスパイラル溝が形成された直径１３０
ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート（以下、ｐｃ
と略す）基板１の一方の面にＳｉｎ、。
に示すように、溝幅０．６μｍ、溝深さ７００人、溝ピ
ッチ１．６μｍのスパイラル溝が形成された直径１３０
ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート（以下、ｐｃ
と略す）基板１の一方の面にＳｉｎ、。
ＳｉＮ、などからなる厚さ０．０７μｍの干渉膜（無機
保護膜） ２ 、 ＴｂＦｅＣｏからなる厚さ０．０８
１ｔ ｒｎの光磁気記録膜３，５ｉＯｙからなる無機保
護膜４を順次スパッタ法により形成し、該無機保護膜４
の上に低吸湿性膜５と高吸湿性膜６とをそれぞれ紫外線
硬化型樹脂をスピンコード法により所定の膜厚で形成し
て片面光ディスクを作製した。
保護膜） ２ 、 ＴｂＦｅＣｏからなる厚さ０．０８
１ｔ ｒｎの光磁気記録膜３，５ｉＯｙからなる無機保
護膜４を順次スパッタ法により形成し、該無機保護膜４
の上に低吸湿性膜５と高吸湿性膜６とをそれぞれ紫外線
硬化型樹脂をスピンコード法により所定の膜厚で形成し
て片面光ディスクを作製した。
上述した低吸湿性膜５の形成材料としては、その吸水率
が０．４％未満であるものが選ばれるが、吸水率の条件
を満たす範囲で無機物、有機物のいずれも使用できる。
が０．４％未満であるものが選ばれるが、吸水率の条件
を満たす範囲で無機物、有機物のいずれも使用できる。
本実施例では紫外線硬化型樹脂を用いた。ここでの吸水
率はＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠したもので、試験対象
物の吸水前の質量と、この対象物を２３±２℃の水中に
２４±１時間浸漬して吸水させた後の質量増加分との比
の百分率である。
率はＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠したもので、試験対象
物の吸水前の質量と、この対象物を２３±２℃の水中に
２４±１時間浸漬して吸水させた後の質量増加分との比
の百分率である。
また、低吸湿性膜５に、吸水率が０．４％未満である材
料を用いたのは、基板材料として好適に用いられるＰＣ
，ＰＭＭＡ、エポキシなどの樹脂の吸水率（順に０，１
５％、０３０％、 ０．１５％）がいずれも０４％未満
であり、これらの吸水率の近傍であれば基板の両面にお
ける湿度環境をほぼ同程度に制御できるからである。
料を用いたのは、基板材料として好適に用いられるＰＣ
，ＰＭＭＡ、エポキシなどの樹脂の吸水率（順に０，１
５％、０３０％、 ０．１５％）がいずれも０４％未満
であり、これらの吸水率の近傍であれば基板の両面にお
ける湿度環境をほぼ同程度に制御できるからである。
また、高吸湿性膜６の形成材料としては、その吸水率が
０．４％以上のものが選ばれるが、吸水率の条件を満た
す範囲で無機物、有機物のいずれも使用できる。本実施
例では低吸湿性膜５と同種の紫外線硬化型樹脂を用いた
。
０．４％以上のものが選ばれるが、吸水率の条件を満た
す範囲で無機物、有機物のいずれも使用できる。本実施
例では低吸湿性膜５と同種の紫外線硬化型樹脂を用いた
。
ここで、低吸湿性膜５の上に高吸湿性膜６を設けたのは
、光デイスク周辺における湿気の大半を高吸湿性膜６に
より吸収して外部の湿気の一部のみを高吸湿性膜６を介
して低吸湿性膜５へ浸透させ、この低吸湿性膜４により
基板表面の湿度環境を所定の水準に保持するためである
。
、光デイスク周辺における湿気の大半を高吸湿性膜６に
より吸収して外部の湿気の一部のみを高吸湿性膜６を介
して低吸湿性膜５へ浸透させ、この低吸湿性膜４により
基板表面の湿度環境を所定の水準に保持するためである
。
なお、これら低吸湿性膜５および高吸湿性膜６の各膜厚
は、樹脂の塗布量、スピンコード回転数およびスピンコ
ード時間などを制御することにより任意に設定すること
が可能である。
は、樹脂の塗布量、スピンコード回転数およびスピンコ
ード時間などを制御することにより任意に設定すること
が可能である。
本実施例における低吸湿性膜上
膜６の吸水率（％）！３よび膜厚（μｆｆ１）を表１に
示した。
示した。
表 １
表１における吸水率はＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して
、２４℃の水中に２４時間浸漬し、紫外線硬化型樹脂の
元の質量と吸水前後の質量増加分との比から求めた。
、２４℃の水中に２４時間浸漬し、紫外線硬化型樹脂の
元の質量と吸水前後の質量増加分との比から求めた。
層厚は紫外線硬化型樹脂塗布前後の厚み差をマイクロゲ
ージにて測定した結果である。
ージにて測定した結果である。
このようにして作製した２枚の片面光ディスクのうち一
方を実施例とし、他方から高吸湿性膜６を除去したもの
を比較例とし、これらに対してそれぞれ温湿度ジャンプ
試験を施した。
方を実施例とし、他方から高吸湿性膜６を除去したもの
を比較例とし、これらに対してそれぞれ温湿度ジャンプ
試験を施した。
この温湿度ジャンプ試験はまず光ディスクを３５℃、８
０％ＲＨ雰囲気中に５０時間放置し、その後、５０℃、
５０％ＲＨ雰囲気に移したときの傾き角［ｍｒａｄ］の
経時変化を測定するものである。傾き角の測定はＩＳＯ
規格ＤＰ−１００８９に準拠した評価装置により行なっ
た。
０％ＲＨ雰囲気中に５０時間放置し、その後、５０℃、
５０％ＲＨ雰囲気に移したときの傾き角［ｍｒａｄ］の
経時変化を測定するものである。傾き角の測定はＩＳＯ
規格ＤＰ−１００８９に準拠した評価装置により行なっ
た。
測定結果を第２図に示す。
第２図より、比較例では環境の変化に伴い、初期の傾き
角１．８ｍｒａｄからの変化量が約５．０ｍｒａｄと非
常に大きく、一方、実施例では初期の傾き角２、６ｍｒ
ａｄからの傾き角の変化が約１．５ｍｒａｄと小さいこ
とがよくわかる。
角１．８ｍｒａｄからの変化量が約５．０ｍｒａｄと非
常に大きく、一方、実施例では初期の傾き角２、６ｍｒ
ａｄからの傾き角の変化が約１．５ｍｒａｄと小さいこ
とがよくわかる。
これは、比較例では光磁気記録膜と反対側のＰＣ基板表
面の吸湿−脱湿による応力によりディスクが可逆的に太
き（変化してしまうが、実施例ではＰＣ基板の両面にお
いて湿度環境のバランスが保たれているためと考えられ
る。
面の吸湿−脱湿による応力によりディスクが可逆的に太
き（変化してしまうが、実施例ではＰＣ基板の両面にお
いて湿度環境のバランスが保たれているためと考えられ
る。
なお、上述した実施例では、プラスチック基板としてポ
リカーボネート（ｐｃ）を用いたが、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡＩ、エポキシなどの透明樹脂も基
板材料に好適であり、これらの樹脂を用いた場合でもこ
れらの樹脂からなる基板上の光磁気記録膜（情報記録層
）上に吸湿性膜を設けることにより環境変化に耐え得る
光ディスクを得ることができる。
リカーボネート（ｐｃ）を用いたが、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡＩ、エポキシなどの透明樹脂も基
板材料に好適であり、これらの樹脂を用いた場合でもこ
れらの樹脂からなる基板上の光磁気記録膜（情報記録層
）上に吸湿性膜を設けることにより環境変化に耐え得る
光ディスクを得ることができる。
また、上述した低吸湿性膜５および高吸湿性膜６を設け
た２枚の片面光ディスクの基板同士を貼り合わせて作製
した両面ディスクにおいても、吸湿性膜により基板周囲
の湿度環境をバランスよく維持できるので、基板の反り
、変形等がなく記録膜の剥離、クラックの発生が少ない
高耐久性、高信頼性のものとなる。
た２枚の片面光ディスクの基板同士を貼り合わせて作製
した両面ディスクにおいても、吸湿性膜により基板周囲
の湿度環境をバランスよく維持できるので、基板の反り
、変形等がなく記録膜の剥離、クラックの発生が少ない
高耐久性、高信頼性のものとなる。
［発明の効果１
以上説明したように、本発明によれば吸湿性のあるプラ
スチック基板上に設けられた情報記録層側に低吸湿性膜
および高吸湿性膜を設けたので、両吸湿性膜により基板
の反り量変化を小さ（抑えることができ、長寿命、高信
頼性の光ディスクを提供することができる。
スチック基板上に設けられた情報記録層側に低吸湿性膜
および高吸湿性膜を設けたので、両吸湿性膜により基板
の反り量変化を小さ（抑えることができ、長寿命、高信
頼性の光ディスクを提供することができる。
３・・・光磁気記録膜、
４・・・無機保護膜、
５・・・低吸湿性膜、
６・・・高吸湿性膜。
第１図は、本発明の一実施例を示す概略断面図、
第２図は、本発明の一実施例に対して温湿度ジャンプ試
験を行なったときの傾き角［ｍｒａｄ］の経時変化を示
すグラフである。 １・・・プラスチック基板、 ２・・・干渉膜、
験を行なったときの傾き角［ｍｒａｄ］の経時変化を示
すグラフである。 １・・・プラスチック基板、 ２・・・干渉膜、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）プラスチック基板の一面に情報記録層が形成された
光ディスクにおいて、前記情報記録層上に低吸湿性膜が
形成され、さらに該低吸湿性膜上に高吸湿性膜が形成さ
れたことを特徴とする光ディスク。 ２）前記低吸湿性膜の吸水率は前記プラスチック基板の
吸水率の近傍であることを特徴とする請求項１記載の光
ディスク。 ３）前記低吸湿性膜の吸水率が０．４％未満であり、前
記高吸湿性膜の吸水率が０．４％以上であることを特徴
とする請求項１記載の光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146307A JP2971519B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146307A JP2971519B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0440645A true JPH0440645A (ja) | 1992-02-12 |
| JP2971519B2 JP2971519B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=15404717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2146307A Expired - Fee Related JP2971519B2 (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2971519B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-06 JP JP2146307A patent/JP2971519B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2971519B2 (ja) | 1999-11-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |