JPH0441528A - 可溶性ポリイミドシロキサン - Google Patents

可溶性ポリイミドシロキサン

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JPH0441528A
JPH0441528A JP2148777A JP14877790A JPH0441528A JP H0441528 A JPH0441528 A JP H0441528A JP 2148777 A JP2148777 A JP 2148777A JP 14877790 A JP14877790 A JP 14877790A JP H0441528 A JPH0441528 A JP H0441528A
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JP
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diamino
dianhydride
diamine
mol
tetracarboxylic dianhydride
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JP2148777A
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Toshiro Takeda
敏郎 竹田
Naoji Takeda
直滋 竹田
Akira Toko
都甲 明
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、耐熱性、電気特性、機械特性が良好であり、
成形加工性、保存安定性に優れた有機溶剤可溶性のポリ
イミドシロキサンに関するものである。
[従来の技術] 従来知られている全芳香族ポリイミド樹脂は、耐熱性、
機械特性、電気特性が優れているため、エレクトロニク
ス関連の電気絶縁材料として種々の用途に幅広く用いら
れている。ところが、このような全芳香族ポリイミド樹
脂は、−船釣に有機溶剤に不溶であり、ガラス転移温度
も250°C以上と高いため、成形加工の際にはポリイ
ミド樹脂前駆体であるポリアミック酸の状態で有機溶剤
に溶解し、ワニス化して各種基板に塗布した後、溶剤の
除去とイミド環形成のた。めに加熱処理を施すのが通常
の方法である。ところが、このような従来のポリアミッ
ク酸を溶解し得る有機溶剤はN−メチル−2−ピロッド
ンのような極性が高く沸点も比較的高いものに限られる
こと、さらにこれらの有機溶媒を完全に飛散させ、イミ
ド化を完結させるためには350°C程度までの高温の
加熱処理が必要であり、必ずしも工業的に有利な方法で
はなかった。
またポリアミック酸ワニスは室温に放置されると加水分
解や部分イミド化が徐々に進行して粘度変化をもたらす
ため、4°C以下の冷蔵保存が必要であった。
一方で、これらの欠点を解決するためにこれまでも種々
の試みがなされてきており、イミド閉環した樹脂を比較
的極性が低く沸点も180°C以下のジグライム(ジエ
チレングリコールジメチルエーテル)などの溶剤に可溶
にならしめたものが報告されている(米国特許第458
6997号及び第4670497号)。これらはある種
のジエーテルニ無水物を含むポリイミドシロキサンであ
り、ジグライムに可溶性であり、テトラヒドロフランに
も僅かに溶解する。しかしながら、これらのポリイミド
シロキサンは何れも125〜150°Cの比較的低いガ
ラス転移温度を有するのみで200°C以上の高温での
使用は難しいものであった。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、このような状況に鑑み、耐熱性、機械
特性、電気特性及び他の緒特性を損うことなく、成形加
工性、作業性、保存安定性に優れた樹脂を与える可溶性
ポリイミドシロキサンを提供するにある。
[課題を解決するための手段] 本発明は、(1)ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物及び/又はその誘導体(A)を35〜95モル%と
、下記式CI)で示されるシロキサン化合M(B)を5
〜65モル%含む酸成分と、(式中、X:  j3−c
O( R□〜2二二価の、炭素数1〜4の脂肪族基及び/又は
芳香族基 R3〜8ニー価の脂肪族基及び/又は芳香族基に:1−
100の整数) 2.6−ジアミツー4−トリフルオロメチルピリジン(
C)を50〜100モル%含むアミン成分とよりなる、
イミド化率が80〜100%であることを特徴とする可
溶性ポリイミドシロキサン。
(2)シロキサン化合物(B)のYが下記式((I )
で示されることを特徴とする特許請求の1囲(1)記載
の可溶性ポリイミドシロキサンである。
[作用] 本発明者らは、充分にイミド化したポリイミドシロキサ
ンがジグライム等の比較的低極性でかつ低沸点の有機溶
剤に溶解してワニス化することが可能で、しかも得られ
た樹脂のガラス転移温度が180°C以上で長期の室温
保存可能な耐舵・性樹脂を得るべく、長年にわたって鋭
意検討を重ねてきた結果、特定の芳香族テトラカルボン
酸二無水物及び/又はその誘導体と特定のジアミノシロ
キサンの両端をベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物で封鎖した酸二無水物とを特定のジアミノピリジンを
含むジアミン成分とを反応させて充分にイミド化した溶
剤可溶性のポリイミドシロキサンが上記の条件を充分に
満たし得るものであることを見出し、本発明を完成させ
るに至ったものである。
即ち本発明において用いられるテトラカルボン酸二無水
物又はその誘導体としては、3.3’ 、4.4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体
であり、誘導体としては3.3’ 、4.4′−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物と種々のアルコール
との反応物を用いることができるが、そのアルコールの
種類については特に限定されない。
この成分は、全酸成分のうち35〜95モルであること
が望ましい。35モル%未満の場合、充分にイミド化し
た樹脂の低極性、低沸点溶媒への溶解性が発現されない
ので好ましくなく、95モル%を越えると酸二無水物で
末端封鎖されたシロキサンジアミンの成分が樹脂に酸成
分として5モル%未満導入されるだけなので、同様にジ
グライムなどの低極性、低沸点の溶剤に溶解できなくな
るので好ましくない。
本発明の酸成分のもう一つの必須成分であるジアミノシ
ロキサンを末端封鎖した酸二無水物は、全酸成分中5〜
65モル%が望ましい。5モル%未満であるとジグライ
ムのような低極性、低沸点の溶剤への溶解性が低下する
ので好ましくなく、65モル%を越えると機械強度が低
下するので好ましくない。
さらに本発明の必須の酸成分以外にも、全酸成分中60
モル%未満であれば、他の酸成分を1種類又は2種類以
上を併用して用いることができるのは言うまでもない。
このように用いられる酸成分の例を挙げると、ピロメリ
ット酸二無水物、2.2’ 、3.3′−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3.3′、4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、ナフタレン−1,2,6,7−テトラカルボン酸二
無水物、4.8−ジメチル−1,,2,3,5,6,7
−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカ
ルボン酸二無水物、4,8ジメチル−1,2,3,5,
6,7−ヘキサヒドロナフタレン2.3,6.7−テト
ラカルボン酸二無水物、2,6−シクロロナフタレンー
1. 、4 、5 、8−テトラカルボン酸二無水物、
2,7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラ
カルボン酸二無水物、2,3,6.7−チトラクロロナ
フタレンー1.,4,5.8−テトラカルボン酸二無水
物、1..4,5゜8−テトラクロロナフタレン−2,
3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、3.3′、4
.4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2
′、3.3′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,3.3’ 、4′−ジフェニルテトラカルボン酸二
無水物、3.3” 、4.4”−ρ−テルフェニルテ]
・ラカルボン醪二無水物、2.2”、3.3”−p−テ
ルフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3.3′+
’4”−P−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−プロ
パン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−プロパン二無水物、ビス(2,3−ジカルボ
キシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(2,3−
ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(2,
3−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、ビス(
3,4ジカルボキシフエニル)スルホンニ無水物、1.
1ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水
物、1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ
タンニ無水物、ペリレン−2,3,8,9−テトラカル
ボン酸二無水物、ペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボン酸二無水物、ペリレン−4,5,10,II−
テトラカルボン酸−無水物、ペリレン−5,6,1]、
12−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1
,2,7,8−テトラカルボン酸二無水物、フェナンス
レン刊、2,6.7−テトラカルボン酸二無水物、フェ
ナンスレン−1,2,9,10−テトラカルボン酸二無
水物、シクロペンタン−1゜234−テトラカルボン酸
二無水物、ピラジン−2,3゜5.6−テトラカルボン
酸二無水物、ピロリジン−2,34,5−テトラカルボ
ン酸二無水物、チオフェン−2,、’l。
4.5−テトラカルボン酸二無水物などがあげられるが
、これらに限定されるものではない。
本発明を実施するにあたって、上記(A)及び(B)を
含む酸成分と反応させるジアミン成分のうち、2.6−
ジアミツー4−トリフルオロメチルピリジンを50〜1
00モル%含むことが望ましい。50モル%未満では酸
成分と反応させた後充分にイミド化した場合ジグライム
等の比較的低極性で低沸点の有機溶剤に溶解することが
難しくなるので好ましくない。
本発明において用いられる2、6−ジアミツー4−トリ
フルオロメチルピリジン以外のジアミン化合物も全ジア
ミン成分中50モル%を越えない範囲で用いることがで
きる。1種類でも2種類以上を併用しても差し支えない
。例を挙げると、m−フェニレン−ジアミン、l−イソ
プロピル−2,4−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ン−ジアミン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルプロパ
ン、3,3゛−ジアミノ−ジフェニルプロパン、4,4
′−ジアミノ−ジフェニルエタン、3゜3′−ジアミノ
−ジフェニルエタン、4,4′−ジアミノ−ジフェニル
メタン、3,3′−ジアミノ−ジフェニルメタン、4,
4゛−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、3゜3′−ジ
アミノ−ジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノ−
ジフェニルスルホン、3.3′−ジアミノ−ジフェニル
スルホン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルエーテル、
3.3′−ジアミノ−ジフェニルエーテル、ベンジジン
、3,3′−ジアミノ−ビフェニル、3,3′−ジメチ
ル−4,4′−ジアミノ−ビフェニル、3,3′−ジメ
トキシ−ベンジジン、4.4″−ジアミノ−p−テルフ
ェニル、3.3″〜ジアミノ−p−テルフェニル、ビス
(p−アミノ−シクロヘキシル)メタン、ビス(p−β
−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−
β−メチル−δ−アミノペンチル)ベンゼン、p−ビス
(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン、p−
ビス(1,■−ジメチルー5−アミノーペンチル)ベン
ゼン、1.5−ジアミノ−ナフタレン、2.6−ジアミ
ツーナフタレン、2,4−ビス(β−アミノ−1−ブチ
ル)トルエン、2,4−ジアミノ−トルエン、m−キシ
レン−2,5−ジアミン、p−キシレン−2,5−ジア
ミン、m−キシリレン−ジアミン、p−キシリレン−ジ
アミン、2,6−ジアミツービリジン、2゜5−ジアミ
ノ−ピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサ
ジアゾール、1,4−ジアミノ−シクロヘキサン、ピペ
ラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジアミン、プ
ロピレン−ジアミン、2.2−ジメチル−プロピレン−
ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタメチレン
−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、2,5−ジメ
チル−へキサメチレン−ジアミン、3−メトキシ−へキ
サメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジアミン、2
,5−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、3−メチ
ル−へブタメチレン−ジアミン、4.4−ジメチル−へ
ブタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジアミン、
ノナメチレン−ジアミン、5−メチル−ノナメチレン−
ジアミン、2,5−ジメチル−ノナメチレン−ジアミン
、デカメチレン−ジアミン、l、10−ジアミノ−1,
10−ジメチル−デカン、2.11−ジアミノ−ドデカ
ン、1,12−ジアミノ−オクタデカン、2.12−ジ
アミノ−オクタデカン、2,17−ジアミツーアイコサ
ンなどがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。
本発明の可溶性ポリイミドシロキサンのイミド化率は8
0%以上であることが望ましい。ポリイミド前駆体であ
るポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びその他
の誘導体においてはイミド環を形成する際に水、アルコ
ール等が副生されるが、これらの揮散成分が最終成形加
工品においてボイド、ピンホールの原因となったり、ア
ミド結合を開裂させ分子量低下の原因となるので好まし
くない。従って80%以上イミド化されているポリイミ
ドシロキサンであれば上述したような影響が少なく良好
な最終成形加工品が得られる。さらにポリイミド前駆体
はフェス状態で経時変化、特に吸湿低分子量化による粘
度低下が起こり易く、これを防ぐために室温以下、特に
5°C以下で保管されるのが一般的であるが、80%以
上イミド化されたポリイミドシロキサンではこのような
ことが殆と起こらないので室温で保存できるというメリ
ットを有している。
本発明において用いられるポリイミドシロキサンを溶解
する有機溶剤は特に限定されるものではないが、均一溶
解可能なものならば1種類或いは2種類以上を併用した
混合溶媒であっても差し支えない。この種の溶媒として
代表的なものは、べ。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルアセトアミド、N、N−ジメチルメトギシアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフオスホアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチル
スルホン、テトラメチルスルホン、ジメチルテトラメチ
レンスルホン、γ−ブチロラクトン、ジグライム、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、シクロヘ
キサノン等があり、均一に溶解できる範囲で貧溶媒を揮
散調節剤、皮膜平滑剤などとして使用することもできる
上述した各必須成分を組合せることにより得た本発明の
ポリイミドシロキサンは、ジグライム等の比較的低極性
でかつ低沸点の有機溶剤に溶解してワニス化することが
可能でしかも得られた樹脂のガラス転移温度が180°
C以上で長期の室温保存可能な耐熱性樹脂である。特に
ガラス転移温度を低下させずに低極性溶媒に溶解させる
ためには、シロキサン成分をできるだけ必要最小限に抑
えることが重要であるが、このためにはできるだけシロ
キサン成分を均一に樹脂中に導入する必要があった。こ
のために本発明者らは、ジアミノシロキサンを予め過剰
の酸二無水物と反応させ、末端を封鎖した式CI)で示
される化合物を酸成分の一部として用いると均一にシロ
キサン成分を導入できることを見出した。式CI)の化
合物を得る反応と、ポリアミック酸を得る反応は、連続
して行うことが可能である。さら2,6−ジアミツー4
−トリフルオロメチルピリジンをジアミン成分の一部に
用いるとより効果的に低極性溶媒に溶解可能なポリイミ
ドシロキサンが得られ、このことによりさらに必要なシ
ロキサン成分の菫を減らすことができ、結果的にガラス
転移温度の高い溶剤可溶性のポリイミドシロキサンを得
ることができたものである。
本発明が用いられる用途を具体的に挙げると、先ず各種
電子機材の表面を保護するコート用塗膜として、またそ
の上に多層配線を行う耐熱絶縁膜として用いられる。
例えば半導体、トランジスタ、リニアーIC、ハイブリ
ッドIC1発光ダイオード、LSI、超LSIなどの電
子回路用配線構造体である。また銀などの導電性フィラ
ーを添加して導電性ペーストとしても用いることができ
る。
その他高温用のコーティングワニスとして、電線被覆、
マグネットワイヤ、各種電気部品の浸漬コーティング、
金属部品の保護コーティングなどとして用いられると共
に、含浸ワニスとしてもガラスクロス、溶融石英クロス
、グラファイト繊維、炭素繊維やボロン繊維の含浸に使
用し、レーダードーム、プリント基板、放射性廃棄物収
納容器、タービン質、高温性能と優れた電気特性を要す
る宇宙船、その他の構造部品に使われ、またマイクロ波
、放射線の防止用としてコンピュータなどの導波管、原
子機器、レントゲン機器の内装材としても使用される。
また成形材料としても、グラファイト粉末、グラフアイ
l−仏維、二硫化モリブテンやポリ四弗化エチレンを添
加して自己潤滑性の摺動面の製作に用い、ピストンリン
グ、弁座、ベアリング、シール用などに用いられ、また
ガラス繊維、グラファイト繊維、炭素繊維、ボロン繊維
を添加して、ジェットエンジン部品、高強度の構造用成
形部品などが作られる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1 温度計、撹拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備
えた四つ口のセパラブルフラスコに3.34.4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物32.22g(
0,1モル)をN−)fルー2−ピロリドン2−10g
に溶解させ、 CH3CH3 H2N −(−(: H2)−ツーSi 〜り:(ツー
31矢E「□□−(−(:11.〕〕ヒー]−NH2C
83CH3 16−84g (0,02モル)を1時間かけて滴下ロ
ートにて滴下し、徐々に反応させ、さらにIFjlfa
l撹拌を続ける。この間ずっと乾燥窒素ガスを流してお
きさらに水浴で冷却し系を20°Cに保っておく。次い
てこの系に2,6−ジアミツー4−トリフルオロメチル
ピリジンio、63g (0,06モル) 、2.4−
ジアミノトルエン2.44g (0,02モル)を添加
し、さらに系を20°Cに保ちながら5時間撹拌を続け
て反応を完結させる。続いてこの系にトルエン72gを
添加し、乾燥窒素ガス導入管を外して、代りにディーン
スターチ還流冷却管を取付け、水浴を外してオイルバス
で加熱して系の温度を上昇させる。イミド化に伴って生
じる水をトルエンとの共清により系外へ除去しながら加
熱を続け、140〜150 ’Cでイミド化を進めて水
が生成しなくなった5時間後に反応を終了させた。この
ポリイミドワニスを3071の純水に撹拌を加えながら
1時間かけて滴下し、樹脂を沈澱させ濾過して固形分の
みを回収した後、乾燥機中にて120°Cで3時間乾燥
させた。
このようにして得たポリイミド樹脂のFT−IRスペク
トルを測定し、1650cm−1に現れるイミド化前の
ポリアミック酸のアミド結合に基づく吸収と、1780
cm−’に現れるイミド環に基づく吸収からイミド化率
を求めたところ、100%イミド化されていることを確
認した。また樹脂分濃度20%となるようにジグライム
(ジエチレングリコールジメチルエーテル)に溶解した
ところ、均一に溶解し、不溶物は認められなかった。溶
液粘度はB型回転粘度計により25°Cで測定したとこ
ろ120ボイズであった。このポリイミドワニスをアプ
リケータを用いてガラス板に塗布し80°C、150°
C,200°Cでそれぞれ30分間加熱処理を施して最
終100μm厚さのフィルムをガラスから剥がして得た
。このフィルムを顕微鏡で観察したところ、ピンホール
、ボイド等は認められなかった。また引張り試験を実施
したところ、強度は10.0kg/mm2、伸び率は8
0%、弾性率は180kg/mm2であった。熱重量分
析を毎分5°C/l1inで昇温して実施したところ、
熱分解開始温度は400°Cであった。ガラス転移温度
を測定したところ250°Cであった。また3力月室温
保存後、ワニスの溶液粘度を測定したところ122ボイ
ズで、変化率は+1.67%であり、殆ど粘度変化は認
められなかった。
実施例2〜3及び比較例1〜5 原料組成、反応順序を除いて他は全て実施例1同様の方
法でポリイミドワニスを得て第1表の結果を得た。
実施例1並びに第1表の実施例2〜3の結果から明らか
なように、特定の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び
/又はその誘導体と特定のジアミノシロキサンの両端を
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物で封鎖した酸
二無水物とを特定のアルキル置換芳香族ジアミンを含む
ジアミン成分とを反応させて充分にイミド化した溶剤可
溶性のポリイミドシロキサンは、ジグライム等の比較的
低極性でかつ低沸点の有機溶剤に溶解してワニス化する
ことが可能で、しかも得られた樹脂のガラス転移温度が
180°C以上でかつ長期の室温保存可能な耐熱性樹脂
である。
比較例1のように、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物を用いずにジアミノシロキサンを末端封鎖しても
得られる樹脂の溶解性に乏しく、比較例2のように末端
封鎖せずにジアミノシロキサンを用いたり、比較例3の
ように特定のジアミノピリジンを用いなかったり、比較
例4のように全くジアミノシロキサンを用いなかったり
すると、ジグライムへの溶解が困難となるので好ましく
ない。また比較例5のようにイミド化が不充分の場合、
長期の室温保存中にゲル化してしまうので好ましくない
[発明の効果] 本発明によれば、低極性溶媒に溶解し、室温で長期保存
できるポリイミドシロキサンワニスが(すられ、しかも
耐熱性、機械特性等の良好な成形加工物を得ることがで
きる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物及び/
    又はその誘導体(A)を35〜95モル%と、下記式〔
    I 〕で示されるシロキサン化合物(B)を5〜65モ
    ル%含む酸成分と、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・〔 I 〕 (式中、X:▲数式、化学式、表等があります▼ Y: R_1〜_2:二価の、炭素数1〜4の脂肪族基及び/
    又は芳香族基 R_3〜_6:一価の脂肪族基及び/又は芳香族基k:
    1〜100の整数) 2,6−ジアミノ−4−トリフルオロメチルピリジン(
    C)を50〜100モル%含むアミン成分とよりなる、
    イミド化率が80〜100%であることを特徴とする可
    溶性ポリイミドシロキサン。
  2. (2)シロキサン化合物(B)のYが下記式〔II〕▲数
    式、化学式、表等があります▼・・〔II〕 (k:8〜11) で示されることを特徴とする特許請求の範囲(1)記載
    の可溶性ポリイミドシロキサン。
JP2148777A 1990-05-10 1990-06-08 可溶性ポリイミドシロキサン Pending JPH0441528A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
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