JPH0441528A - 可溶性ポリイミドシロキサン - Google Patents
可溶性ポリイミドシロキサンInfo
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、耐熱性、電気特性、機械特性が良好であり、
成形加工性、保存安定性に優れた有機溶剤可溶性のポリ
イミドシロキサンに関するものである。
成形加工性、保存安定性に優れた有機溶剤可溶性のポリ
イミドシロキサンに関するものである。
[従来の技術]
従来知られている全芳香族ポリイミド樹脂は、耐熱性、
機械特性、電気特性が優れているため、エレクトロニク
ス関連の電気絶縁材料として種々の用途に幅広く用いら
れている。ところが、このような全芳香族ポリイミド樹
脂は、−船釣に有機溶剤に不溶であり、ガラス転移温度
も250°C以上と高いため、成形加工の際にはポリイ
ミド樹脂前駆体であるポリアミック酸の状態で有機溶剤
に溶解し、ワニス化して各種基板に塗布した後、溶剤の
除去とイミド環形成のた。めに加熱処理を施すのが通常
の方法である。ところが、このような従来のポリアミッ
ク酸を溶解し得る有機溶剤はN−メチル−2−ピロッド
ンのような極性が高く沸点も比較的高いものに限られる
こと、さらにこれらの有機溶媒を完全に飛散させ、イミ
ド化を完結させるためには350°C程度までの高温の
加熱処理が必要であり、必ずしも工業的に有利な方法で
はなかった。
機械特性、電気特性が優れているため、エレクトロニク
ス関連の電気絶縁材料として種々の用途に幅広く用いら
れている。ところが、このような全芳香族ポリイミド樹
脂は、−船釣に有機溶剤に不溶であり、ガラス転移温度
も250°C以上と高いため、成形加工の際にはポリイ
ミド樹脂前駆体であるポリアミック酸の状態で有機溶剤
に溶解し、ワニス化して各種基板に塗布した後、溶剤の
除去とイミド環形成のた。めに加熱処理を施すのが通常
の方法である。ところが、このような従来のポリアミッ
ク酸を溶解し得る有機溶剤はN−メチル−2−ピロッド
ンのような極性が高く沸点も比較的高いものに限られる
こと、さらにこれらの有機溶媒を完全に飛散させ、イミ
ド化を完結させるためには350°C程度までの高温の
加熱処理が必要であり、必ずしも工業的に有利な方法で
はなかった。
またポリアミック酸ワニスは室温に放置されると加水分
解や部分イミド化が徐々に進行して粘度変化をもたらす
ため、4°C以下の冷蔵保存が必要であった。
解や部分イミド化が徐々に進行して粘度変化をもたらす
ため、4°C以下の冷蔵保存が必要であった。
一方で、これらの欠点を解決するためにこれまでも種々
の試みがなされてきており、イミド閉環した樹脂を比較
的極性が低く沸点も180°C以下のジグライム(ジエ
チレングリコールジメチルエーテル)などの溶剤に可溶
にならしめたものが報告されている(米国特許第458
6997号及び第4670497号)。これらはある種
のジエーテルニ無水物を含むポリイミドシロキサンであ
り、ジグライムに可溶性であり、テトラヒドロフランに
も僅かに溶解する。しかしながら、これらのポリイミド
シロキサンは何れも125〜150°Cの比較的低いガ
ラス転移温度を有するのみで200°C以上の高温での
使用は難しいものであった。
の試みがなされてきており、イミド閉環した樹脂を比較
的極性が低く沸点も180°C以下のジグライム(ジエ
チレングリコールジメチルエーテル)などの溶剤に可溶
にならしめたものが報告されている(米国特許第458
6997号及び第4670497号)。これらはある種
のジエーテルニ無水物を含むポリイミドシロキサンであ
り、ジグライムに可溶性であり、テトラヒドロフランに
も僅かに溶解する。しかしながら、これらのポリイミド
シロキサンは何れも125〜150°Cの比較的低いガ
ラス転移温度を有するのみで200°C以上の高温での
使用は難しいものであった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、このような状況に鑑み、耐熱性、機械
特性、電気特性及び他の緒特性を損うことなく、成形加
工性、作業性、保存安定性に優れた樹脂を与える可溶性
ポリイミドシロキサンを提供するにある。
特性、電気特性及び他の緒特性を損うことなく、成形加
工性、作業性、保存安定性に優れた樹脂を与える可溶性
ポリイミドシロキサンを提供するにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、(1)ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物及び/又はその誘導体(A)を35〜95モル%と
、下記式CI)で示されるシロキサン化合M(B)を5
〜65モル%含む酸成分と、(式中、X: j3−c
O( R□〜2二二価の、炭素数1〜4の脂肪族基及び/又は
芳香族基 R3〜8ニー価の脂肪族基及び/又は芳香族基に:1−
100の整数) 2.6−ジアミツー4−トリフルオロメチルピリジン(
C)を50〜100モル%含むアミン成分とよりなる、
イミド化率が80〜100%であることを特徴とする可
溶性ポリイミドシロキサン。
水物及び/又はその誘導体(A)を35〜95モル%と
、下記式CI)で示されるシロキサン化合M(B)を5
〜65モル%含む酸成分と、(式中、X: j3−c
O( R□〜2二二価の、炭素数1〜4の脂肪族基及び/又は
芳香族基 R3〜8ニー価の脂肪族基及び/又は芳香族基に:1−
100の整数) 2.6−ジアミツー4−トリフルオロメチルピリジン(
C)を50〜100モル%含むアミン成分とよりなる、
イミド化率が80〜100%であることを特徴とする可
溶性ポリイミドシロキサン。
(2)シロキサン化合物(B)のYが下記式((I )
で示されることを特徴とする特許請求の1囲(1)記載
の可溶性ポリイミドシロキサンである。
で示されることを特徴とする特許請求の1囲(1)記載
の可溶性ポリイミドシロキサンである。
[作用]
本発明者らは、充分にイミド化したポリイミドシロキサ
ンがジグライム等の比較的低極性でかつ低沸点の有機溶
剤に溶解してワニス化することが可能で、しかも得られ
た樹脂のガラス転移温度が180°C以上で長期の室温
保存可能な耐舵・性樹脂を得るべく、長年にわたって鋭
意検討を重ねてきた結果、特定の芳香族テトラカルボン
酸二無水物及び/又はその誘導体と特定のジアミノシロ
キサンの両端をベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物で封鎖した酸二無水物とを特定のジアミノピリジンを
含むジアミン成分とを反応させて充分にイミド化した溶
剤可溶性のポリイミドシロキサンが上記の条件を充分に
満たし得るものであることを見出し、本発明を完成させ
るに至ったものである。
ンがジグライム等の比較的低極性でかつ低沸点の有機溶
剤に溶解してワニス化することが可能で、しかも得られ
た樹脂のガラス転移温度が180°C以上で長期の室温
保存可能な耐舵・性樹脂を得るべく、長年にわたって鋭
意検討を重ねてきた結果、特定の芳香族テトラカルボン
酸二無水物及び/又はその誘導体と特定のジアミノシロ
キサンの両端をベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物で封鎖した酸二無水物とを特定のジアミノピリジンを
含むジアミン成分とを反応させて充分にイミド化した溶
剤可溶性のポリイミドシロキサンが上記の条件を充分に
満たし得るものであることを見出し、本発明を完成させ
るに至ったものである。
即ち本発明において用いられるテトラカルボン酸二無水
物又はその誘導体としては、3.3’ 、4.4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体
であり、誘導体としては3.3’ 、4.4′−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物と種々のアルコール
との反応物を用いることができるが、そのアルコールの
種類については特に限定されない。
物又はその誘導体としては、3.3’ 、4.4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体
であり、誘導体としては3.3’ 、4.4′−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物と種々のアルコール
との反応物を用いることができるが、そのアルコールの
種類については特に限定されない。
この成分は、全酸成分のうち35〜95モルであること
が望ましい。35モル%未満の場合、充分にイミド化し
た樹脂の低極性、低沸点溶媒への溶解性が発現されない
ので好ましくなく、95モル%を越えると酸二無水物で
末端封鎖されたシロキサンジアミンの成分が樹脂に酸成
分として5モル%未満導入されるだけなので、同様にジ
グライムなどの低極性、低沸点の溶剤に溶解できなくな
るので好ましくない。
が望ましい。35モル%未満の場合、充分にイミド化し
た樹脂の低極性、低沸点溶媒への溶解性が発現されない
ので好ましくなく、95モル%を越えると酸二無水物で
末端封鎖されたシロキサンジアミンの成分が樹脂に酸成
分として5モル%未満導入されるだけなので、同様にジ
グライムなどの低極性、低沸点の溶剤に溶解できなくな
るので好ましくない。
本発明の酸成分のもう一つの必須成分であるジアミノシ
ロキサンを末端封鎖した酸二無水物は、全酸成分中5〜
65モル%が望ましい。5モル%未満であるとジグライ
ムのような低極性、低沸点の溶剤への溶解性が低下する
ので好ましくなく、65モル%を越えると機械強度が低
下するので好ましくない。
ロキサンを末端封鎖した酸二無水物は、全酸成分中5〜
65モル%が望ましい。5モル%未満であるとジグライ
ムのような低極性、低沸点の溶剤への溶解性が低下する
ので好ましくなく、65モル%を越えると機械強度が低
下するので好ましくない。
さらに本発明の必須の酸成分以外にも、全酸成分中60
モル%未満であれば、他の酸成分を1種類又は2種類以
上を併用して用いることができるのは言うまでもない。
モル%未満であれば、他の酸成分を1種類又は2種類以
上を併用して用いることができるのは言うまでもない。
このように用いられる酸成分の例を挙げると、ピロメリ
ット酸二無水物、2.2’ 、3.3′−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3.3′、4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、ナフタレン−1,2,6,7−テトラカルボン酸二
無水物、4.8−ジメチル−1,,2,3,5,6,7
−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカ
ルボン酸二無水物、4,8ジメチル−1,2,3,5,
6,7−ヘキサヒドロナフタレン2.3,6.7−テト
ラカルボン酸二無水物、2,6−シクロロナフタレンー
1. 、4 、5 、8−テトラカルボン酸二無水物、
2,7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラ
カルボン酸二無水物、2,3,6.7−チトラクロロナ
フタレンー1.,4,5.8−テトラカルボン酸二無水
物、1..4,5゜8−テトラクロロナフタレン−2,
3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、3.3′、4
.4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2
′、3.3′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,3.3’ 、4′−ジフェニルテトラカルボン酸二
無水物、3.3” 、4.4”−ρ−テルフェニルテ]
・ラカルボン醪二無水物、2.2”、3.3”−p−テ
ルフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3.3′+
’4”−P−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−プロ
パン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−プロパン二無水物、ビス(2,3−ジカルボ
キシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(2,3−
ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(2,
3−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、ビス(
3,4ジカルボキシフエニル)スルホンニ無水物、1.
1ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水
物、1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ
タンニ無水物、ペリレン−2,3,8,9−テトラカル
ボン酸二無水物、ペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボン酸二無水物、ペリレン−4,5,10,II−
テトラカルボン酸−無水物、ペリレン−5,6,1]、
12−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1
,2,7,8−テトラカルボン酸二無水物、フェナンス
レン刊、2,6.7−テトラカルボン酸二無水物、フェ
ナンスレン−1,2,9,10−テトラカルボン酸二無
水物、シクロペンタン−1゜234−テトラカルボン酸
二無水物、ピラジン−2,3゜5.6−テトラカルボン
酸二無水物、ピロリジン−2,34,5−テトラカルボ
ン酸二無水物、チオフェン−2,、’l。
ット酸二無水物、2.2’ 、3.3′−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3.3′、4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、ナフタレン−1,2,6,7−テトラカルボン酸二
無水物、4.8−ジメチル−1,,2,3,5,6,7
−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカ
ルボン酸二無水物、4,8ジメチル−1,2,3,5,
6,7−ヘキサヒドロナフタレン2.3,6.7−テト
ラカルボン酸二無水物、2,6−シクロロナフタレンー
1. 、4 、5 、8−テトラカルボン酸二無水物、
2,7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラ
カルボン酸二無水物、2,3,6.7−チトラクロロナ
フタレンー1.,4,5.8−テトラカルボン酸二無水
物、1..4,5゜8−テトラクロロナフタレン−2,
3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、3.3′、4
.4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2
′、3.3′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,3.3’ 、4′−ジフェニルテトラカルボン酸二
無水物、3.3” 、4.4”−ρ−テルフェニルテ]
・ラカルボン醪二無水物、2.2”、3.3”−p−テ
ルフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3.3′+
’4”−P−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−プロ
パン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−プロパン二無水物、ビス(2,3−ジカルボ
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ルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(2,3−
ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビス(2,
3−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、ビス(
3,4ジカルボキシフエニル)スルホンニ無水物、1.
1ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水
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タンニ無水物、ペリレン−2,3,8,9−テトラカル
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12−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−1
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レン刊、2,6.7−テトラカルボン酸二無水物、フェ
ナンスレン−1,2,9,10−テトラカルボン酸二無
水物、シクロペンタン−1゜234−テトラカルボン酸
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ン酸二無水物、チオフェン−2,、’l。
4.5−テトラカルボン酸二無水物などがあげられるが
、これらに限定されるものではない。
、これらに限定されるものではない。
本発明を実施するにあたって、上記(A)及び(B)を
含む酸成分と反応させるジアミン成分のうち、2.6−
ジアミツー4−トリフルオロメチルピリジンを50〜1
00モル%含むことが望ましい。50モル%未満では酸
成分と反応させた後充分にイミド化した場合ジグライム
等の比較的低極性で低沸点の有機溶剤に溶解することが
難しくなるので好ましくない。
含む酸成分と反応させるジアミン成分のうち、2.6−
ジアミツー4−トリフルオロメチルピリジンを50〜1
00モル%含むことが望ましい。50モル%未満では酸
成分と反応させた後充分にイミド化した場合ジグライム
等の比較的低極性で低沸点の有機溶剤に溶解することが
難しくなるので好ましくない。
本発明において用いられる2、6−ジアミツー4−トリ
フルオロメチルピリジン以外のジアミン化合物も全ジア
ミン成分中50モル%を越えない範囲で用いることがで
きる。1種類でも2種類以上を併用しても差し支えない
。例を挙げると、m−フェニレン−ジアミン、l−イソ
プロピル−2,4−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ン−ジアミン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルプロパ
ン、3,3゛−ジアミノ−ジフェニルプロパン、4,4
′−ジアミノ−ジフェニルエタン、3゜3′−ジアミノ
−ジフェニルエタン、4,4′−ジアミノ−ジフェニル
メタン、3,3′−ジアミノ−ジフェニルメタン、4,
4゛−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、3゜3′−ジ
アミノ−ジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノ−
ジフェニルスルホン、3.3′−ジアミノ−ジフェニル
スルホン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルエーテル、
3.3′−ジアミノ−ジフェニルエーテル、ベンジジン
、3,3′−ジアミノ−ビフェニル、3,3′−ジメチ
ル−4,4′−ジアミノ−ビフェニル、3,3′−ジメ
トキシ−ベンジジン、4.4″−ジアミノ−p−テルフ
ェニル、3.3″〜ジアミノ−p−テルフェニル、ビス
(p−アミノ−シクロヘキシル)メタン、ビス(p−β
−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−
β−メチル−δ−アミノペンチル)ベンゼン、p−ビス
(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン、p−
ビス(1,■−ジメチルー5−アミノーペンチル)ベン
ゼン、1.5−ジアミノ−ナフタレン、2.6−ジアミ
ツーナフタレン、2,4−ビス(β−アミノ−1−ブチ
ル)トルエン、2,4−ジアミノ−トルエン、m−キシ
レン−2,5−ジアミン、p−キシレン−2,5−ジア
ミン、m−キシリレン−ジアミン、p−キシリレン−ジ
アミン、2,6−ジアミツービリジン、2゜5−ジアミ
ノ−ピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサ
ジアゾール、1,4−ジアミノ−シクロヘキサン、ピペ
ラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジアミン、プ
ロピレン−ジアミン、2.2−ジメチル−プロピレン−
ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタメチレン
−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、2,5−ジメ
チル−へキサメチレン−ジアミン、3−メトキシ−へキ
サメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジアミン、2
,5−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、3−メチ
ル−へブタメチレン−ジアミン、4.4−ジメチル−へ
ブタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジアミン、
ノナメチレン−ジアミン、5−メチル−ノナメチレン−
ジアミン、2,5−ジメチル−ノナメチレン−ジアミン
、デカメチレン−ジアミン、l、10−ジアミノ−1,
10−ジメチル−デカン、2.11−ジアミノ−ドデカ
ン、1,12−ジアミノ−オクタデカン、2.12−ジ
アミノ−オクタデカン、2,17−ジアミツーアイコサ
ンなどがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。
フルオロメチルピリジン以外のジアミン化合物も全ジア
ミン成分中50モル%を越えない範囲で用いることがで
きる。1種類でも2種類以上を併用しても差し支えない
。例を挙げると、m−フェニレン−ジアミン、l−イソ
プロピル−2,4−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ン−ジアミン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルプロパ
ン、3,3゛−ジアミノ−ジフェニルプロパン、4,4
′−ジアミノ−ジフェニルエタン、3゜3′−ジアミノ
−ジフェニルエタン、4,4′−ジアミノ−ジフェニル
メタン、3,3′−ジアミノ−ジフェニルメタン、4,
4゛−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、3゜3′−ジ
アミノ−ジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノ−
ジフェニルスルホン、3.3′−ジアミノ−ジフェニル
スルホン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルエーテル、
3.3′−ジアミノ−ジフェニルエーテル、ベンジジン
、3,3′−ジアミノ−ビフェニル、3,3′−ジメチ
ル−4,4′−ジアミノ−ビフェニル、3,3′−ジメ
トキシ−ベンジジン、4.4″−ジアミノ−p−テルフ
ェニル、3.3″〜ジアミノ−p−テルフェニル、ビス
(p−アミノ−シクロヘキシル)メタン、ビス(p−β
−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−
β−メチル−δ−アミノペンチル)ベンゼン、p−ビス
(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン、p−
ビス(1,■−ジメチルー5−アミノーペンチル)ベン
ゼン、1.5−ジアミノ−ナフタレン、2.6−ジアミ
ツーナフタレン、2,4−ビス(β−アミノ−1−ブチ
ル)トルエン、2,4−ジアミノ−トルエン、m−キシ
レン−2,5−ジアミン、p−キシレン−2,5−ジア
ミン、m−キシリレン−ジアミン、p−キシリレン−ジ
アミン、2,6−ジアミツービリジン、2゜5−ジアミ
ノ−ピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサ
ジアゾール、1,4−ジアミノ−シクロヘキサン、ピペ
ラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジアミン、プ
ロピレン−ジアミン、2.2−ジメチル−プロピレン−
ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタメチレン
−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、2,5−ジメ
チル−へキサメチレン−ジアミン、3−メトキシ−へキ
サメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジアミン、2
,5−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、3−メチ
ル−へブタメチレン−ジアミン、4.4−ジメチル−へ
ブタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジアミン、
ノナメチレン−ジアミン、5−メチル−ノナメチレン−
ジアミン、2,5−ジメチル−ノナメチレン−ジアミン
、デカメチレン−ジアミン、l、10−ジアミノ−1,
10−ジメチル−デカン、2.11−ジアミノ−ドデカ
ン、1,12−ジアミノ−オクタデカン、2.12−ジ
アミノ−オクタデカン、2,17−ジアミツーアイコサ
ンなどがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。
本発明の可溶性ポリイミドシロキサンのイミド化率は8
0%以上であることが望ましい。ポリイミド前駆体であ
るポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びその他
の誘導体においてはイミド環を形成する際に水、アルコ
ール等が副生されるが、これらの揮散成分が最終成形加
工品においてボイド、ピンホールの原因となったり、ア
ミド結合を開裂させ分子量低下の原因となるので好まし
くない。従って80%以上イミド化されているポリイミ
ドシロキサンであれば上述したような影響が少なく良好
な最終成形加工品が得られる。さらにポリイミド前駆体
はフェス状態で経時変化、特に吸湿低分子量化による粘
度低下が起こり易く、これを防ぐために室温以下、特に
5°C以下で保管されるのが一般的であるが、80%以
上イミド化されたポリイミドシロキサンではこのような
ことが殆と起こらないので室温で保存できるというメリ
ットを有している。
0%以上であることが望ましい。ポリイミド前駆体であ
るポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びその他
の誘導体においてはイミド環を形成する際に水、アルコ
ール等が副生されるが、これらの揮散成分が最終成形加
工品においてボイド、ピンホールの原因となったり、ア
ミド結合を開裂させ分子量低下の原因となるので好まし
くない。従って80%以上イミド化されているポリイミ
ドシロキサンであれば上述したような影響が少なく良好
な最終成形加工品が得られる。さらにポリイミド前駆体
はフェス状態で経時変化、特に吸湿低分子量化による粘
度低下が起こり易く、これを防ぐために室温以下、特に
5°C以下で保管されるのが一般的であるが、80%以
上イミド化されたポリイミドシロキサンではこのような
ことが殆と起こらないので室温で保存できるというメリ
ットを有している。
本発明において用いられるポリイミドシロキサンを溶解
する有機溶剤は特に限定されるものではないが、均一溶
解可能なものならば1種類或いは2種類以上を併用した
混合溶媒であっても差し支えない。この種の溶媒として
代表的なものは、べ。
する有機溶剤は特に限定されるものではないが、均一溶
解可能なものならば1種類或いは2種類以上を併用した
混合溶媒であっても差し支えない。この種の溶媒として
代表的なものは、べ。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルアセトアミド、N、N−ジメチルメトギシアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフオスホアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチル
スルホン、テトラメチルスルホン、ジメチルテトラメチ
レンスルホン、γ−ブチロラクトン、ジグライム、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、シクロヘ
キサノン等があり、均一に溶解できる範囲で貧溶媒を揮
散調節剤、皮膜平滑剤などとして使用することもできる
。
ミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルアセトアミド、N、N−ジメチルメトギシアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフオスホアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチル
スルホン、テトラメチルスルホン、ジメチルテトラメチ
レンスルホン、γ−ブチロラクトン、ジグライム、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、シクロヘ
キサノン等があり、均一に溶解できる範囲で貧溶媒を揮
散調節剤、皮膜平滑剤などとして使用することもできる
。
上述した各必須成分を組合せることにより得た本発明の
ポリイミドシロキサンは、ジグライム等の比較的低極性
でかつ低沸点の有機溶剤に溶解してワニス化することが
可能でしかも得られた樹脂のガラス転移温度が180°
C以上で長期の室温保存可能な耐熱性樹脂である。特に
ガラス転移温度を低下させずに低極性溶媒に溶解させる
ためには、シロキサン成分をできるだけ必要最小限に抑
えることが重要であるが、このためにはできるだけシロ
キサン成分を均一に樹脂中に導入する必要があった。こ
のために本発明者らは、ジアミノシロキサンを予め過剰
の酸二無水物と反応させ、末端を封鎖した式CI)で示
される化合物を酸成分の一部として用いると均一にシロ
キサン成分を導入できることを見出した。式CI)の化
合物を得る反応と、ポリアミック酸を得る反応は、連続
して行うことが可能である。さら2,6−ジアミツー4
−トリフルオロメチルピリジンをジアミン成分の一部に
用いるとより効果的に低極性溶媒に溶解可能なポリイミ
ドシロキサンが得られ、このことによりさらに必要なシ
ロキサン成分の菫を減らすことができ、結果的にガラス
転移温度の高い溶剤可溶性のポリイミドシロキサンを得
ることができたものである。
ポリイミドシロキサンは、ジグライム等の比較的低極性
でかつ低沸点の有機溶剤に溶解してワニス化することが
可能でしかも得られた樹脂のガラス転移温度が180°
C以上で長期の室温保存可能な耐熱性樹脂である。特に
ガラス転移温度を低下させずに低極性溶媒に溶解させる
ためには、シロキサン成分をできるだけ必要最小限に抑
えることが重要であるが、このためにはできるだけシロ
キサン成分を均一に樹脂中に導入する必要があった。こ
のために本発明者らは、ジアミノシロキサンを予め過剰
の酸二無水物と反応させ、末端を封鎖した式CI)で示
される化合物を酸成分の一部として用いると均一にシロ
キサン成分を導入できることを見出した。式CI)の化
合物を得る反応と、ポリアミック酸を得る反応は、連続
して行うことが可能である。さら2,6−ジアミツー4
−トリフルオロメチルピリジンをジアミン成分の一部に
用いるとより効果的に低極性溶媒に溶解可能なポリイミ
ドシロキサンが得られ、このことによりさらに必要なシ
ロキサン成分の菫を減らすことができ、結果的にガラス
転移温度の高い溶剤可溶性のポリイミドシロキサンを得
ることができたものである。
本発明が用いられる用途を具体的に挙げると、先ず各種
電子機材の表面を保護するコート用塗膜として、またそ
の上に多層配線を行う耐熱絶縁膜として用いられる。
電子機材の表面を保護するコート用塗膜として、またそ
の上に多層配線を行う耐熱絶縁膜として用いられる。
例えば半導体、トランジスタ、リニアーIC、ハイブリ
ッドIC1発光ダイオード、LSI、超LSIなどの電
子回路用配線構造体である。また銀などの導電性フィラ
ーを添加して導電性ペーストとしても用いることができ
る。
ッドIC1発光ダイオード、LSI、超LSIなどの電
子回路用配線構造体である。また銀などの導電性フィラ
ーを添加して導電性ペーストとしても用いることができ
る。
その他高温用のコーティングワニスとして、電線被覆、
マグネットワイヤ、各種電気部品の浸漬コーティング、
金属部品の保護コーティングなどとして用いられると共
に、含浸ワニスとしてもガラスクロス、溶融石英クロス
、グラファイト繊維、炭素繊維やボロン繊維の含浸に使
用し、レーダードーム、プリント基板、放射性廃棄物収
納容器、タービン質、高温性能と優れた電気特性を要す
る宇宙船、その他の構造部品に使われ、またマイクロ波
、放射線の防止用としてコンピュータなどの導波管、原
子機器、レントゲン機器の内装材としても使用される。
マグネットワイヤ、各種電気部品の浸漬コーティング、
金属部品の保護コーティングなどとして用いられると共
に、含浸ワニスとしてもガラスクロス、溶融石英クロス
、グラファイト繊維、炭素繊維やボロン繊維の含浸に使
用し、レーダードーム、プリント基板、放射性廃棄物収
納容器、タービン質、高温性能と優れた電気特性を要す
る宇宙船、その他の構造部品に使われ、またマイクロ波
、放射線の防止用としてコンピュータなどの導波管、原
子機器、レントゲン機器の内装材としても使用される。
また成形材料としても、グラファイト粉末、グラフアイ
l−仏維、二硫化モリブテンやポリ四弗化エチレンを添
加して自己潤滑性の摺動面の製作に用い、ピストンリン
グ、弁座、ベアリング、シール用などに用いられ、また
ガラス繊維、グラファイト繊維、炭素繊維、ボロン繊維
を添加して、ジェットエンジン部品、高強度の構造用成
形部品などが作られる。
l−仏維、二硫化モリブテンやポリ四弗化エチレンを添
加して自己潤滑性の摺動面の製作に用い、ピストンリン
グ、弁座、ベアリング、シール用などに用いられ、また
ガラス繊維、グラファイト繊維、炭素繊維、ボロン繊維
を添加して、ジェットエンジン部品、高強度の構造用成
形部品などが作られる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1
温度計、撹拌機、原料投入口、乾燥窒素ガス導入管を備
えた四つ口のセパラブルフラスコに3.34.4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物32.22g(
0,1モル)をN−)fルー2−ピロリドン2−10g
に溶解させ、 CH3CH3 H2N −(−(: H2)−ツーSi 〜り:(ツー
31矢E「□□−(−(:11.〕〕ヒー]−NH2C
83CH3 16−84g (0,02モル)を1時間かけて滴下ロ
ートにて滴下し、徐々に反応させ、さらにIFjlfa
l撹拌を続ける。この間ずっと乾燥窒素ガスを流してお
きさらに水浴で冷却し系を20°Cに保っておく。次い
てこの系に2,6−ジアミツー4−トリフルオロメチル
ピリジンio、63g (0,06モル) 、2.4−
ジアミノトルエン2.44g (0,02モル)を添加
し、さらに系を20°Cに保ちながら5時間撹拌を続け
て反応を完結させる。続いてこの系にトルエン72gを
添加し、乾燥窒素ガス導入管を外して、代りにディーン
スターチ還流冷却管を取付け、水浴を外してオイルバス
で加熱して系の温度を上昇させる。イミド化に伴って生
じる水をトルエンとの共清により系外へ除去しながら加
熱を続け、140〜150 ’Cでイミド化を進めて水
が生成しなくなった5時間後に反応を終了させた。この
ポリイミドワニスを3071の純水に撹拌を加えながら
1時間かけて滴下し、樹脂を沈澱させ濾過して固形分の
みを回収した後、乾燥機中にて120°Cで3時間乾燥
させた。
えた四つ口のセパラブルフラスコに3.34.4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物32.22g(
0,1モル)をN−)fルー2−ピロリドン2−10g
に溶解させ、 CH3CH3 H2N −(−(: H2)−ツーSi 〜り:(ツー
31矢E「□□−(−(:11.〕〕ヒー]−NH2C
83CH3 16−84g (0,02モル)を1時間かけて滴下ロ
ートにて滴下し、徐々に反応させ、さらにIFjlfa
l撹拌を続ける。この間ずっと乾燥窒素ガスを流してお
きさらに水浴で冷却し系を20°Cに保っておく。次い
てこの系に2,6−ジアミツー4−トリフルオロメチル
ピリジンio、63g (0,06モル) 、2.4−
ジアミノトルエン2.44g (0,02モル)を添加
し、さらに系を20°Cに保ちながら5時間撹拌を続け
て反応を完結させる。続いてこの系にトルエン72gを
添加し、乾燥窒素ガス導入管を外して、代りにディーン
スターチ還流冷却管を取付け、水浴を外してオイルバス
で加熱して系の温度を上昇させる。イミド化に伴って生
じる水をトルエンとの共清により系外へ除去しながら加
熱を続け、140〜150 ’Cでイミド化を進めて水
が生成しなくなった5時間後に反応を終了させた。この
ポリイミドワニスを3071の純水に撹拌を加えながら
1時間かけて滴下し、樹脂を沈澱させ濾過して固形分の
みを回収した後、乾燥機中にて120°Cで3時間乾燥
させた。
このようにして得たポリイミド樹脂のFT−IRスペク
トルを測定し、1650cm−1に現れるイミド化前の
ポリアミック酸のアミド結合に基づく吸収と、1780
cm−’に現れるイミド環に基づく吸収からイミド化率
を求めたところ、100%イミド化されていることを確
認した。また樹脂分濃度20%となるようにジグライム
(ジエチレングリコールジメチルエーテル)に溶解した
ところ、均一に溶解し、不溶物は認められなかった。溶
液粘度はB型回転粘度計により25°Cで測定したとこ
ろ120ボイズであった。このポリイミドワニスをアプ
リケータを用いてガラス板に塗布し80°C、150°
C,200°Cでそれぞれ30分間加熱処理を施して最
終100μm厚さのフィルムをガラスから剥がして得た
。このフィルムを顕微鏡で観察したところ、ピンホール
、ボイド等は認められなかった。また引張り試験を実施
したところ、強度は10.0kg/mm2、伸び率は8
0%、弾性率は180kg/mm2であった。熱重量分
析を毎分5°C/l1inで昇温して実施したところ、
熱分解開始温度は400°Cであった。ガラス転移温度
を測定したところ250°Cであった。また3力月室温
保存後、ワニスの溶液粘度を測定したところ122ボイ
ズで、変化率は+1.67%であり、殆ど粘度変化は認
められなかった。
トルを測定し、1650cm−1に現れるイミド化前の
ポリアミック酸のアミド結合に基づく吸収と、1780
cm−’に現れるイミド環に基づく吸収からイミド化率
を求めたところ、100%イミド化されていることを確
認した。また樹脂分濃度20%となるようにジグライム
(ジエチレングリコールジメチルエーテル)に溶解した
ところ、均一に溶解し、不溶物は認められなかった。溶
液粘度はB型回転粘度計により25°Cで測定したとこ
ろ120ボイズであった。このポリイミドワニスをアプ
リケータを用いてガラス板に塗布し80°C、150°
C,200°Cでそれぞれ30分間加熱処理を施して最
終100μm厚さのフィルムをガラスから剥がして得た
。このフィルムを顕微鏡で観察したところ、ピンホール
、ボイド等は認められなかった。また引張り試験を実施
したところ、強度は10.0kg/mm2、伸び率は8
0%、弾性率は180kg/mm2であった。熱重量分
析を毎分5°C/l1inで昇温して実施したところ、
熱分解開始温度は400°Cであった。ガラス転移温度
を測定したところ250°Cであった。また3力月室温
保存後、ワニスの溶液粘度を測定したところ122ボイ
ズで、変化率は+1.67%であり、殆ど粘度変化は認
められなかった。
実施例2〜3及び比較例1〜5
原料組成、反応順序を除いて他は全て実施例1同様の方
法でポリイミドワニスを得て第1表の結果を得た。
法でポリイミドワニスを得て第1表の結果を得た。
実施例1並びに第1表の実施例2〜3の結果から明らか
なように、特定の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び
/又はその誘導体と特定のジアミノシロキサンの両端を
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物で封鎖した酸
二無水物とを特定のアルキル置換芳香族ジアミンを含む
ジアミン成分とを反応させて充分にイミド化した溶剤可
溶性のポリイミドシロキサンは、ジグライム等の比較的
低極性でかつ低沸点の有機溶剤に溶解してワニス化する
ことが可能で、しかも得られた樹脂のガラス転移温度が
180°C以上でかつ長期の室温保存可能な耐熱性樹脂
である。
なように、特定の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び
/又はその誘導体と特定のジアミノシロキサンの両端を
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物で封鎖した酸
二無水物とを特定のアルキル置換芳香族ジアミンを含む
ジアミン成分とを反応させて充分にイミド化した溶剤可
溶性のポリイミドシロキサンは、ジグライム等の比較的
低極性でかつ低沸点の有機溶剤に溶解してワニス化する
ことが可能で、しかも得られた樹脂のガラス転移温度が
180°C以上でかつ長期の室温保存可能な耐熱性樹脂
である。
比較例1のように、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物を用いずにジアミノシロキサンを末端封鎖しても
得られる樹脂の溶解性に乏しく、比較例2のように末端
封鎖せずにジアミノシロキサンを用いたり、比較例3の
ように特定のジアミノピリジンを用いなかったり、比較
例4のように全くジアミノシロキサンを用いなかったり
すると、ジグライムへの溶解が困難となるので好ましく
ない。また比較例5のようにイミド化が不充分の場合、
長期の室温保存中にゲル化してしまうので好ましくない
。
無水物を用いずにジアミノシロキサンを末端封鎖しても
得られる樹脂の溶解性に乏しく、比較例2のように末端
封鎖せずにジアミノシロキサンを用いたり、比較例3の
ように特定のジアミノピリジンを用いなかったり、比較
例4のように全くジアミノシロキサンを用いなかったり
すると、ジグライムへの溶解が困難となるので好ましく
ない。また比較例5のようにイミド化が不充分の場合、
長期の室温保存中にゲル化してしまうので好ましくない
。
[発明の効果]
本発明によれば、低極性溶媒に溶解し、室温で長期保存
できるポリイミドシロキサンワニスが(すられ、しかも
耐熱性、機械特性等の良好な成形加工物を得ることがで
きる。
できるポリイミドシロキサンワニスが(すられ、しかも
耐熱性、機械特性等の良好な成形加工物を得ることがで
きる。
Claims (2)
- (1)ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物及び/
又はその誘導体(A)を35〜95モル%と、下記式〔
I 〕で示されるシロキサン化合物(B)を5〜65モ
ル%含む酸成分と、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・〔 I 〕 (式中、X:▲数式、化学式、表等があります▼ Y: R_1〜_2:二価の、炭素数1〜4の脂肪族基及び/
又は芳香族基 R_3〜_6:一価の脂肪族基及び/又は芳香族基k:
1〜100の整数) 2,6−ジアミノ−4−トリフルオロメチルピリジン(
C)を50〜100モル%含むアミン成分とよりなる、
イミド化率が80〜100%であることを特徴とする可
溶性ポリイミドシロキサン。 - (2)シロキサン化合物(B)のYが下記式〔II〕▲数
式、化学式、表等があります▼・・〔II〕 (k:8〜11) で示されることを特徴とする特許請求の範囲(1)記載
の可溶性ポリイミドシロキサン。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2148777A JPH0441528A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 可溶性ポリイミドシロキサン |
| US07/696,647 US5206337A (en) | 1990-05-10 | 1991-05-07 | Solvent-soluble polyimidesiloxane oligomer and process for producing the same |
| EP91304228A EP0456512B1 (en) | 1990-05-10 | 1991-05-10 | Polyimidesiloxane oligomer |
| KR1019910007589A KR0183989B1 (ko) | 1990-05-10 | 1991-05-10 | 용매-가용성 폴리이미드실록산 올리고머 및 그의 제조방법 |
| DE69123078T DE69123078T2 (de) | 1990-05-10 | 1991-05-10 | Polyimidsiloxanoligomer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2148777A JPH0441528A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 可溶性ポリイミドシロキサン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0441528A true JPH0441528A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15460436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2148777A Pending JPH0441528A (ja) | 1990-05-10 | 1990-06-08 | 可溶性ポリイミドシロキサン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0441528A (ja) |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP2148777A patent/JPH0441528A/ja active Pending
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