JPH0441673A - 真空装置及び真空装置でのリーク方法 - Google Patents
真空装置及び真空装置でのリーク方法Info
- Publication number
- JPH0441673A JPH0441673A JP14634190A JP14634190A JPH0441673A JP H0441673 A JPH0441673 A JP H0441673A JP 14634190 A JP14634190 A JP 14634190A JP 14634190 A JP14634190 A JP 14634190A JP H0441673 A JPH0441673 A JP H0441673A
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- Japan
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- vacuum
- vacuum device
- leak
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
、装置内部を真空から大気圧に戻すとき、リークの流れ
により装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き上がり
を防止した真空装置及びリーク方法に関し、 装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き上がりを防止
することを目的とし、 真空装置内に挿入されたリーク用パイプの先端に、リー
クの流れを拡散させるた約の多孔質なステンレス・スチ
ールからなる拡散部材を設けるように構成する。
により装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き上がり
を防止した真空装置及びリーク方法に関し、 装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き上がりを防止
することを目的とし、 真空装置内に挿入されたリーク用パイプの先端に、リー
クの流れを拡散させるた約の多孔質なステンレス・スチ
ールからなる拡散部材を設けるように構成する。
本発明は装置内部を真空から大気圧に戻すとき、リーク
の流れにより装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き
上がりを防止した真空装置及びリーク方法に関する。
の流れにより装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き
上がりを防止した真空装置及びリーク方法に関する。
第３図は従来の真空装置の一例を示す図である。
同図において、１は例えば半導体装置製造用のＣＶＤ装
置等の真空装置であり、２はその真空排気口、３はリー
ク用パイプ、４はフィルタ、５はリーク口である。そし
てこの装置は基板等の被処理物６を装置１内に挿入して
おき、排気口２から排気した後、被処理物をＣＶＤ等の
処理を行ない、その後リーク用パイプ３から窒素ガス等
をフィルタ４を通してリーク口５から送入し、装置１内
を大気圧に戻した後、被処理物６を取り出すようになっ
ている。
置等の真空装置であり、２はその真空排気口、３はリー
ク用パイプ、４はフィルタ、５はリーク口である。そし
てこの装置は基板等の被処理物６を装置１内に挿入して
おき、排気口２から排気した後、被処理物をＣＶＤ等の
処理を行ない、その後リーク用パイプ３から窒素ガス等
をフィルタ４を通してリーク口５から送入し、装置１内
を大気圧に戻した後、被処理物６を取り出すようになっ
ている。
上記従来の真空装置では、装置１内部を大気圧に戻す場
合、清浄度の高い気体を送り込んでも、送り込まれる気
体はリーク口５から一方向へのみリークされ、その勢で
装置内部を矢印の如く循環する。このとき装置１の内部
が汚染されていると、送入された気体が汚染物質やパー
ティクルを巻き上げ被処理物６上に付着させ、被処理物
を汚染してしまうという問題があった。
合、清浄度の高い気体を送り込んでも、送り込まれる気
体はリーク口５から一方向へのみリークされ、その勢で
装置内部を矢印の如く循環する。このとき装置１の内部
が汚染されていると、送入された気体が汚染物質やパー
ティクルを巻き上げ被処理物６上に付着させ、被処理物
を汚染してしまうという問題があった。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、装置内部の汚染物及
びパーティクルの巻き上がりを防止した真空装置及び真
空装置でのリーク方法を提供することを目的とする。
びパーティクルの巻き上がりを防止した真空装置及び真
空装置でのリーク方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明の真空装置では、
真空装置１内に挿入されたリーク用パイプ３の先端に、
リークの流れを拡散させるための多孔質なステンレス・
スチールよりなる拡散部材７を設けたことを特徴とする
。
リークの流れを拡散させるための多孔質なステンレス・
スチールよりなる拡散部材７を設けたことを特徴とする
。
また本発明の真空装置でのリーク方法では、真空装置１
において、装置内部を真空から大気圧へ戻すとき、該真
空装置１内に挿入されたリーク用パイプ３の先端に取り
付けられた多孔質な拡散部材７を通してリーク用気体を
装置内に送入し、リーク用気体の流れを拡散させること
で装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き上がりを防
止することを特徴とする。
において、装置内部を真空から大気圧へ戻すとき、該真
空装置１内に挿入されたリーク用パイプ３の先端に取り
付けられた多孔質な拡散部材７を通してリーク用気体を
装置内に送入し、リーク用気体の流れを拡散させること
で装置内部の汚染物及びパーティクルの巻き上がりを防
止することを特徴とする。
真空装置１内に挿入したリーク用パイプ３の先端に多孔
質な拡散部材７を取り付け、装置内を真空状態から大気
圧に戻すときに、リーク用気体を拡散部材７を通して装
置内に送入することにより、リーク用気体は拡散部材７
で四方に拡散される。
質な拡散部材７を取り付け、装置内を真空状態から大気
圧に戻すときに、リーク用気体を拡散部材７を通して装
置内に送入することにより、リーク用気体は拡散部材７
で四方に拡散される。
従って強い一方向の流れは生じないため、装置内の汚染
物質やパーティクルを巻き上げることが少なくなり、基
板等の被処理物の汚染を防止することができる。
物質やパーティクルを巻き上げることが少なくなり、基
板等の被処理物の汚染を防止することができる。
第１図は本発明の真空装置の実施例を示す図である。
本実施例は、同図に示すように、基板等の被処理物６を
処理する真空装置１、該装置内を真空排気するための真
空排気口２、フィルタ４を通して装置内にリーク用気体
を送入するリーク用ノ々イブ３等を具備していることは
第３図で説明した従来例と同様であり、本実施例の要点
は、真空装置１内にリーク用パイプ３を挿入し、その先
端に、底部及び側壁が一単位の無数の孔を有する多孔質
なステンレス・スチールで形成された四角な箱状の拡散
部材７を設けたことである。なおこの拡散部材７の形状
は四角形とは限らず、球状又は牢球状等他の形状であっ
ても良く、要はリーク用気体を四方に拡散できる形状で
あれば良い。
処理する真空装置１、該装置内を真空排気するための真
空排気口２、フィルタ４を通して装置内にリーク用気体
を送入するリーク用ノ々イブ３等を具備していることは
第３図で説明した従来例と同様であり、本実施例の要点
は、真空装置１内にリーク用パイプ３を挿入し、その先
端に、底部及び側壁が一単位の無数の孔を有する多孔質
なステンレス・スチールで形成された四角な箱状の拡散
部材７を設けたことである。なおこの拡散部材７の形状
は四角形とは限らず、球状又は牢球状等他の形状であっ
ても良く、要はリーク用気体を四方に拡散できる形状で
あれば良い。
このように構成された本実施例を用いた真空装置のリー
ク方法を第２図により説明する。同図において第１図と
同一部分は同一符号を付して示した。
ク方法を第２図により説明する。同図において第１図と
同一部分は同一符号を付して示した。
真空装置１が真空状態で基板等の被処理物６の処理を行
なった後、処理済の被処理物６を取り出すた給に装置内
を大気圧に戻す場合は、リーク用パイプ３からフィルタ
４を通して清浄化した窒素等のリーク用気体を拡散部材
７に送ることにより、拡散部材７に送り込んだリーク用
気体を、拡散部材７の庫単位の無数の穴から矢印の如く
装置内に均一に拡散させるのである。
なった後、処理済の被処理物６を取り出すた給に装置内
を大気圧に戻す場合は、リーク用パイプ３からフィルタ
４を通して清浄化した窒素等のリーク用気体を拡散部材
７に送ることにより、拡散部材７に送り込んだリーク用
気体を、拡散部材７の庫単位の無数の穴から矢印の如く
装置内に均一に拡散させるのである。
これにより、装置内にはリーク用気体の一方向の強い気
流は生ぜず、従って装置内の汚染物やパーティクルを巻
き上げることがなく、基板等の被処理物を汚染すること
もない。
流は生ぜず、従って装置内の汚染物やパーティクルを巻
き上げることがなく、基板等の被処理物を汚染すること
もない。
以上説明した様に、本発明によれば、真空装置内に挿入
されたリーク用パイプの先端に多孔質の拡散部材を設け
ることにより、リーク時に装置内の汚染物やパーティク
ルの巻き上がりを防止して、装置内の被処理物の汚染を
防止することができ、製品の歩留り向上に寄与するとこ
ろ大である。
されたリーク用パイプの先端に多孔質の拡散部材を設け
ることにより、リーク時に装置内の汚染物やパーティク
ルの巻き上がりを防止して、装置内の被処理物の汚染を
防止することができ、製品の歩留り向上に寄与するとこ
ろ大である。
第１図は本発明の真空装置の実施例を示す図、第２図は
本発明の真空装置のリーク方法を説明するための図、 第３図は従来の真空装置の１例を示す図である。 図において、 ｌは真空装置、 ２は真空排気口、３はリーク
用パイプ、 ４はフィルタ、６は被処理物、
７は拡散部材を示す。 本発明の真空装置のリーク方法を説明するための図第２
図 １・・・真空装置 ４・・・フィルタ ６・・・被処理物 ７・・・拡散部材 本発明の真空装置の実施例を示す図 第１図 ７・・・真空装置 ２・・・真空排気口 ３・・・リーク用パイプ ４・・・フィルタ ６・・・被処理物 ７・・・拡散部材 従来の真空装置の１例を示す図 第３図
本発明の真空装置のリーク方法を説明するための図、 第３図は従来の真空装置の１例を示す図である。 図において、 ｌは真空装置、 ２は真空排気口、３はリーク
用パイプ、 ４はフィルタ、６は被処理物、
７は拡散部材を示す。 本発明の真空装置のリーク方法を説明するための図第２
図 １・・・真空装置 ４・・・フィルタ ６・・・被処理物 ７・・・拡散部材 本発明の真空装置の実施例を示す図 第１図 ７・・・真空装置 ２・・・真空排気口 ３・・・リーク用パイプ ４・・・フィルタ ６・・・被処理物 ７・・・拡散部材 従来の真空装置の１例を示す図 第３図
Claims (2)
- １．真空装置（１）内に挿入されたリーク用パイプ（３
）の先端に、リークの流れを拡散させるための多孔質な
ステンレス・スチールよりなる拡散部材（７）を設けた
ことを特徴とする真空装置。 - ２．真空装置（１）において、装置内部を真空から大気
圧へ戻すとき、該真空装置（１）内に挿入されたリーク
用パイプ（３）の先端に取り付けられた多孔質な拡散部
材（７）を通してリーク用気体を装置内に送入し、リー
ク用気体の流れを拡散させることで装置内部の汚染物及
びパーティクルの巻き上がりを防止することを特徴とす
る真空装置でのリーク方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14634190A JPH0441673A (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 真空装置及び真空装置でのリーク方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14634190A JPH0441673A (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 真空装置及び真空装置でのリーク方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0441673A true JPH0441673A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15405512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14634190A Pending JPH0441673A (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | 真空装置及び真空装置でのリーク方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0441673A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019161120A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Ｅｆｅｍ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60253225A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-13 | Hitachi Ltd | 真空処理装置 |
| JPS6367241B2 (ja) * | 1981-12-17 | 1988-12-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd |
-
1990
- 1990-06-06 JP JP14634190A patent/JPH0441673A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6367241B2 (ja) * | 1981-12-17 | 1988-12-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
| JPS60253225A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-13 | Hitachi Ltd | 真空処理装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019161120A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Ｅｆｅｍ |
| JP2022162003A (ja) * | 2018-03-15 | 2022-10-21 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Ｅｆｅｍ |
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