JPH1129869A - 基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構 - Google Patents
基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構Info
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- JPH1129869A JPH1129869A JP18990997A JP18990997A JPH1129869A JP H1129869 A JPH1129869 A JP H1129869A JP 18990997 A JP18990997 A JP 18990997A JP 18990997 A JP18990997 A JP 18990997A JP H1129869 A JPH1129869 A JP H1129869A
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- gas
- load lock
- load
- chamber
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は、ロード・ロックチャンバ内を大
気圧にする際に、ベントガスの乱流を防止し、ウエーハ
にパーティクルが付着することを可及的に少なくするこ
とを目的としたものである。 【解決手段】 ロード・ロックチャンバの上部へ、ガス
導入手段を連結したガス拡散フィルターを挿入セット
し、前記ガス拡散フィルターの下部全周から、ベントガ
スを拡散させると共に、前記ロード・ロックチャンバの
隅部内壁を円滑な曲面に形成したことを特徴とする基板
処理装置のロード・ロックチャンバ機構。
気圧にする際に、ベントガスの乱流を防止し、ウエーハ
にパーティクルが付着することを可及的に少なくするこ
とを目的としたものである。 【解決手段】 ロード・ロックチャンバの上部へ、ガス
導入手段を連結したガス拡散フィルターを挿入セット
し、前記ガス拡散フィルターの下部全周から、ベントガ
スを拡散させると共に、前記ロード・ロックチャンバの
隅部内壁を円滑な曲面に形成したことを特徴とする基板
処理装置のロード・ロックチャンバ機構。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ロード・ロック
チャンバ内のベントガスの流動状態を整然かつ円滑にす
ることにより基板表面に付着するパーティクルを皆無に
することを目的とし、かつロード・ロックチャンバの上
部側壁の下端と、真空チャンバの上端との連結高さを適
宜の高さとすることにより、ロード・ロックチャンバ内
のメンテナンス、クリーニングを容易にすることを目的
とした基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構に関
する。
チャンバ内のベントガスの流動状態を整然かつ円滑にす
ることにより基板表面に付着するパーティクルを皆無に
することを目的とし、かつロード・ロックチャンバの上
部側壁の下端と、真空チャンバの上端との連結高さを適
宜の高さとすることにより、ロード・ロックチャンバ内
のメンテナンス、クリーニングを容易にすることを目的
とした基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来ロード・ロックチャンバのガス拡散
フィルターは、取付筒により整流用カバーの頂面に固定
されていたので、ベントガスは前記取付筒に設けた数個
の孔を通って拡散していた。またロード・ロックチャン
バは、筒状の真空チャンバの上端へ平面状の頂板を当接
固定していた。
フィルターは、取付筒により整流用カバーの頂面に固定
されていたので、ベントガスは前記取付筒に設けた数個
の孔を通って拡散していた。またロード・ロックチャン
バは、筒状の真空チャンバの上端へ平面状の頂板を当接
固定していた。
【０００３】
【発明により解決すべき課題】前記従来のロード・ロッ
クチャンバのガス拡散フィルターは、取付筒によって固
定されていたので、ガスは必然的に取付筒壁の孔を通過
してロード・ロックチャンバ内へ拡散されることなり、
ロード・ロックチャンバ内への均一なガス拡散を図るこ
とが困難であった。
クチャンバのガス拡散フィルターは、取付筒によって固
定されていたので、ガスは必然的に取付筒壁の孔を通過
してロード・ロックチャンバ内へ拡散されることなり、
ロード・ロックチャンバ内への均一なガス拡散を図るこ
とが困難であった。
【０００４】またロード・ロックチャンバの頂板は平板
状であるから、ロード・ロックチャンバの上端開口部に
は、平板状の頂板が固定され、これによってロード・ロ
ックチャンバの上端開口部と頂板との成す角度が直角乃
至はほぼ直角となって、ガスの流動を円滑にすることが
困難であった。更に、直角乃至はほぼ直角なロード・ロ
ックチャンバの各隅部には、パーテクル発塵源が堆積し
やすく、これが前記不均一なガス流動によって巻き上げ
られ、基板表面に付着する原因になるという問題点もあ
った。
状であるから、ロード・ロックチャンバの上端開口部に
は、平板状の頂板が固定され、これによってロード・ロ
ックチャンバの上端開口部と頂板との成す角度が直角乃
至はほぼ直角となって、ガスの流動を円滑にすることが
困難であった。更に、直角乃至はほぼ直角なロード・ロ
ックチャンバの各隅部には、パーテクル発塵源が堆積し
やすく、これが前記不均一なガス流動によって巻き上げ
られ、基板表面に付着する原因になるという問題点もあ
った。
【０００５】また真空チャンバの上端開口部の位置が高
い場合には、前記頂板を取外した後のメンテナンスに際
し、内側に手が届かない、十分にクリーニングできない
という問題点もあった。
い場合には、前記頂板を取外した後のメンテナンスに際
し、内側に手が届かない、十分にクリーニングできない
という問題点もあった。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】然るにこの発明は、ガス拡
散フィルターの下部全周から、ガスを拡散させるように
構成すると共に、ロード・ロックチャンバの隅部内壁を
円滑な曲面に形成することにより、前記従来の問題点を
解決したのである。
散フィルターの下部全周から、ガスを拡散させるように
構成すると共に、ロード・ロックチャンバの隅部内壁を
円滑な曲面に形成することにより、前記従来の問題点を
解決したのである。
【０００７】またロード・ロックチャンバの側壁を構成
するに際し、真空チャンバの上端の接続部を比較的低く
することにより、メンテナンスにおける作業性を改善し
たのである。
するに際し、真空チャンバの上端の接続部を比較的低く
することにより、メンテナンスにおける作業性を改善し
たのである。
【０００８】即ちこの発明は、ロード・ロックチャンバ
の頂板内側にガス流動間隙を介在させて固定されている
ガス整流用カバーの上面に、ガス拡散フィルターの下端
を固定し、該ガス拡散フィルターの上端側をロード・ロ
ックチャンバの頂板を介してガス導入手段に接続すると
共に、前記ロード・ロックチャンバの隅部内壁を円滑な
曲面に形成したことを特徴とする基板処理装置のロード
・ロックチャンバ機構である。また、他の発明は、ロー
ド・ロックチャンバの頂板内側にガス流動間隙を介在さ
せて固定されているガス整流用カバーの上面に、ガス拡
散フィルターの下端を固定し、該ガス拡散フィルターの
上端側をロード・ロックチャンバの頂板を介してガス導
入手段に接続すると共に、前記ロード・ロックチャンバ
の隅部内壁を円滑な曲面に形成し、前記ロード・ロック
チャンバの上部側壁の下端部を、真空チャンバの上端部
へ当接固定したことを特徴とする基板処理装置のロード
・ロックチャンバ機構である。
の頂板内側にガス流動間隙を介在させて固定されている
ガス整流用カバーの上面に、ガス拡散フィルターの下端
を固定し、該ガス拡散フィルターの上端側をロード・ロ
ックチャンバの頂板を介してガス導入手段に接続すると
共に、前記ロード・ロックチャンバの隅部内壁を円滑な
曲面に形成したことを特徴とする基板処理装置のロード
・ロックチャンバ機構である。また、他の発明は、ロー
ド・ロックチャンバの頂板内側にガス流動間隙を介在さ
せて固定されているガス整流用カバーの上面に、ガス拡
散フィルターの下端を固定し、該ガス拡散フィルターの
上端側をロード・ロックチャンバの頂板を介してガス導
入手段に接続すると共に、前記ロード・ロックチャンバ
の隅部内壁を円滑な曲面に形成し、前記ロード・ロック
チャンバの上部側壁の下端部を、真空チャンバの上端部
へ当接固定したことを特徴とする基板処理装置のロード
・ロックチャンバ機構である。
【０００９】前記のような構成を採用することによっ
て、本発明のロード・ロックチャンバ機構においては、
ガス拡散フィルターの下端とガス整流用カバーの上面と
の間に取付筒が介在されていない。これによって、ガス
拡散フィルターの下端からのガスの拡散は、ロード・ロ
ックチャンバの全周囲に対して均一に行われることにな
る。また、ロード・ロックチャンバの隅部内壁を円滑な
曲面に形成しているので、各隅部においてガスの円滑な
流れが乱される事はなく、各隅部にパーテクル発塵源が
堆積することも防止できる。
て、本発明のロード・ロックチャンバ機構においては、
ガス拡散フィルターの下端とガス整流用カバーの上面と
の間に取付筒が介在されていない。これによって、ガス
拡散フィルターの下端からのガスの拡散は、ロード・ロ
ックチャンバの全周囲に対して均一に行われることにな
る。また、ロード・ロックチャンバの隅部内壁を円滑な
曲面に形成しているので、各隅部においてガスの円滑な
流れが乱される事はなく、各隅部にパーテクル発塵源が
堆積することも防止できる。
【００１０】これらの構成によって、ベント時における
ベントガスの流れを均一かつスムーズに行わせる事がで
き、ロード・ロックチャンバ内における真空から大気圧
またはその逆の圧力変化時にガスの乱れた流れが生じな
いので、チャンバ内に存在するパーテクル発塵源が巻き
上げられ、基板表面にパーティクルが付着する事を防止
できる。
ベントガスの流れを均一かつスムーズに行わせる事がで
き、ロード・ロックチャンバ内における真空から大気圧
またはその逆の圧力変化時にガスの乱れた流れが生じな
いので、チャンバ内に存在するパーテクル発塵源が巻き
上げられ、基板表面にパーティクルが付着する事を防止
できる。
【００１１】更に、ロード・ロックチャンバの上部側壁
の下端部を、真空チャンバの上端部へ当接固定したこと
によって、メンテナンスあるいはクリーニング時におけ
る作業性を改善する事ができる。
の下端部を、真空チャンバの上端部へ当接固定したこと
によって、メンテナンスあるいはクリーニング時におけ
る作業性を改善する事ができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】この発明は、ロード・ロックチャ
ンバの頂板内側にガス流動間隙を介在させて固定されて
いるガス整流用カバーの上面に、ガス拡散フィルターの
下端を固定し、該ガス拡散フィルターの上端側をロード
・ロックチャンバの頂板を介してガス導入手段に接続す
ると共に、前記ロード・ロックチャンバの隅部内壁を円
滑な曲面に形成して、ベントガスの円滑な流動を促進し
たものである。
ンバの頂板内側にガス流動間隙を介在させて固定されて
いるガス整流用カバーの上面に、ガス拡散フィルターの
下端を固定し、該ガス拡散フィルターの上端側をロード
・ロックチャンバの頂板を介してガス導入手段に接続す
ると共に、前記ロード・ロックチャンバの隅部内壁を円
滑な曲面に形成して、ベントガスの円滑な流動を促進し
たものである。
【００１３】またロード・ロックチャンバの側壁におけ
る真空チャンバの上端の接続高さを適宜に定めることに
より、開口して行うメンテナンスに際し、作業性を改善
したものである。
る真空チャンバの上端の接続高さを適宜に定めることに
より、開口して行うメンテナンスに際し、作業性を改善
したものである。
【００１４】
【実施例１】この発明の実施例を図１、図２に基づいて
説明する。図２は従来のロード・ロックチャンバを示す
ものであり、図１図示の本発明の好ましい実施例を説明
するにあたり、従来例との対比を容易にすべく、図２の
従来例と同一の作用を行う部分については、同一の名称
を用いて説明する。
説明する。図２は従来のロード・ロックチャンバを示す
ものであり、図１図示の本発明の好ましい実施例を説明
するにあたり、従来例との対比を容易にすべく、図２の
従来例と同一の作用を行う部分については、同一の名称
を用いて説明する。
【００１５】頂板１ａと上側壁１ｂとを一体的に形成し
た帽状体１の側壁下端部と筒状の真空チャンバ２の上端
部とを当接固定してロード・ロックチャンバ３を構成
し、前記帽状体１の頂板１ａの中央部にフィルター孔４
を設けて、該フィルター孔４へ環状間隙６を介してガス
拡散フィルター５を挿入し、その下端を整流用カバー７
に固定してある。前記整流用カバー７は帽状体１の内側
へ所定大きさのベントガス流動間隙を介して、前記帽状
体１の内壁に固定してある。前記ロード・ロックチャン
バ３の帽状体１の隅部Ａ、Ｂは比較的大きく湾曲させ
て、ベントガスが矢示１６、１７のように円滑に流れる
ようにしてある。図中８はベントガス導入管、９、１０
は大小のガス導入バルブ、１１は排気ポンプ、１２は排
気バルブ、１３はウエーハ、１４はウエーハカセット、
１５はガス拡散フィルターのカバーである。
た帽状体１の側壁下端部と筒状の真空チャンバ２の上端
部とを当接固定してロード・ロックチャンバ３を構成
し、前記帽状体１の頂板１ａの中央部にフィルター孔４
を設けて、該フィルター孔４へ環状間隙６を介してガス
拡散フィルター５を挿入し、その下端を整流用カバー７
に固定してある。前記整流用カバー７は帽状体１の内側
へ所定大きさのベントガス流動間隙を介して、前記帽状
体１の内壁に固定してある。前記ロード・ロックチャン
バ３の帽状体１の隅部Ａ、Ｂは比較的大きく湾曲させ
て、ベントガスが矢示１６、１７のように円滑に流れる
ようにしてある。図中８はベントガス導入管、９、１０
は大小のガス導入バルブ、１１は排気ポンプ、１２は排
気バルブ、１３はウエーハ、１４はウエーハカセット、
１５はガス拡散フィルターのカバーである。
【００１６】図２は現に使用されているロード・ロック
チャンバ２３である。このロード・ロックチャンバ２３
は、平板状の頂板２４を筒状の真空チャンバ２５上へ固
定すると共に、頂板２４の中央部へ、ガス拡散フィルタ
ー２６を挿入し、その下端は取付筒２７を介して整流用
カバー２８に固定したものである。このロード・ロック
チャンバ２３によれば、ベントガスは矢示２９、３０の
ように流動すると共に、矢示３１、３２のように乱流を
生じ、隅部ａ、ｂにたまったごみ、又はウエーハ３３の
裏面に付着しているごみを舞い上げてウエーハ３３の表
面に付着させるので、パーテイクルが発生することにな
る。従ってパーテイクルを皆無にする為にはベントガス
の流入時に乱流を生じないことが必要な条件である。図
中８はベントガス導入管、２２は排気ポンプである。
チャンバ２３である。このロード・ロックチャンバ２３
は、平板状の頂板２４を筒状の真空チャンバ２５上へ固
定すると共に、頂板２４の中央部へ、ガス拡散フィルタ
ー２６を挿入し、その下端は取付筒２７を介して整流用
カバー２８に固定したものである。このロード・ロック
チャンバ２３によれば、ベントガスは矢示２９、３０の
ように流動すると共に、矢示３１、３２のように乱流を
生じ、隅部ａ、ｂにたまったごみ、又はウエーハ３３の
裏面に付着しているごみを舞い上げてウエーハ３３の表
面に付着させるので、パーテイクルが発生することにな
る。従ってパーテイクルを皆無にする為にはベントガス
の流入時に乱流を生じないことが必要な条件である。図
中８はベントガス導入管、２２は排気ポンプである。
【００１７】前記図１の実施例において、ロード・ロッ
クチャンバ３は、オートローダ内のカセットにあるウエ
ーハを大気状態でオートローダ搬送ロボットで移送す
る。その後ロード・ロックチャンバを排気ポンプにより
真空とし、ＳＥＰチャンバ内にある搬送ロボットにより
１枚づつ取り出して処理チャンバへ搬送する。処理チャ
ンバでの処理が完了したならば、ロード・ロックチャン
バへすべての基板を回収する。その後ロード・ロックチ
ャンバを大気圧とし、大気圧になったならば、オートロ
ーダー内の搬送ロボットでロード・ロックチャンバにあ
る基板をカセットへ移送し処理が完了する。
クチャンバ３は、オートローダ内のカセットにあるウエ
ーハを大気状態でオートローダ搬送ロボットで移送す
る。その後ロード・ロックチャンバを排気ポンプにより
真空とし、ＳＥＰチャンバ内にある搬送ロボットにより
１枚づつ取り出して処理チャンバへ搬送する。処理チャ
ンバでの処理が完了したならば、ロード・ロックチャン
バへすべての基板を回収する。その後ロード・ロックチ
ャンバを大気圧とし、大気圧になったならば、オートロ
ーダー内の搬送ロボットでロード・ロックチャンバにあ
る基板をカセットへ移送し処理が完了する。
【００１８】前記において、ロード・ロックチャンバを
大気圧にするには、先づカセット１４を矢示１９のよう
に上限２１まで上昇させた後、排気ポンプ１１のバルブ
１２を閉じる。ついで小さい方のガス導入バルブ９を開
いてガスを矢示１８のように少量宛導入し、ついで適正
時間（約３０秒〜６０秒）経過後、大きい方のガス導入
バルブ１０を開きガスを導入する。
大気圧にするには、先づカセット１４を矢示１９のよう
に上限２１まで上昇させた後、排気ポンプ１１のバルブ
１２を閉じる。ついで小さい方のガス導入バルブ９を開
いてガスを矢示１８のように少量宛導入し、ついで適正
時間（約３０秒〜６０秒）経過後、大きい方のガス導入
バルブ１０を開きガスを導入する。
【００１９】前記において、ベントガスを急激に導入す
ると、ベントガスに乱流を生じ、ロード・ロックチャン
バ内に付着したごみが舞い上るおそれがある為に、ガス
の導入は緩徐に行う。
ると、ベントガスに乱流を生じ、ロード・ロックチャン
バ内に付着したごみが舞い上るおそれがある為に、ガス
の導入は緩徐に行う。
【００２０】この発明においては、急激なガスの導入が
なければ、ベントガスは矢示１６、１７のように整流と
なって円滑に流入するので、ウエーハ１３にごみが付く
おそれがない。実験の結果によれば、サイズ０．１ｍｍ
〜０．３ｍｍ以上でパーテイクルの数が１ヶ以下という
厳しい条件でも十分達成することができる。ロード・ロ
ックチャンバ３内が大気圧に達したならば、カセット１
４は矢示２０のように下降させる。
なければ、ベントガスは矢示１６、１７のように整流と
なって円滑に流入するので、ウエーハ１３にごみが付く
おそれがない。実験の結果によれば、サイズ０．１ｍｍ
〜０．３ｍｍ以上でパーテイクルの数が１ヶ以下という
厳しい条件でも十分達成することができる。ロード・ロ
ックチャンバ３内が大気圧に達したならば、カセット１
４は矢示２０のように下降させる。
【００２１】以上、本発明の好ましい実施例を説明した
が、ここで説明した構成部品の寸法、材質、形状、その
相対配置などは、特定的な記載がない限り、本発明の範
囲をそれらに限定する趣旨のものではなく、単なる一実
施例として説明したものにすぎない。すなわち、本発明
は、前記実施例に限定されず、この明細書で開示した発
明の技術的範囲に於て種々に変更可能である。
が、ここで説明した構成部品の寸法、材質、形状、その
相対配置などは、特定的な記載がない限り、本発明の範
囲をそれらに限定する趣旨のものではなく、単なる一実
施例として説明したものにすぎない。すなわち、本発明
は、前記実施例に限定されず、この明細書で開示した発
明の技術的範囲に於て種々に変更可能である。
【００２２】
【発明の効果】この発明によれば、ガス拡散フィルター
の四周からガスを拡散させると共に、ロード・ロックチ
ャンバ内の隅部は比較的大きな湾曲面を形成し、ベント
ガスの乱流を防止しているので、ガス導入時にロード・
ロックチャンバ内のごみが舞い上ったり、ウエーハに付
着するおそれはないなどの諸効果がある。
の四周からガスを拡散させると共に、ロード・ロックチ
ャンバ内の隅部は比較的大きな湾曲面を形成し、ベント
ガスの乱流を防止しているので、ガス導入時にロード・
ロックチャンバ内のごみが舞い上ったり、ウエーハに付
着するおそれはないなどの諸効果がある。
【００２３】またロード・ロックチャンバの上部側壁の
下端部と、真空チャンバの上端部との当接部を比較的低
くすることにより、真空チャンバ内の清掃などメンテナ
ンス作業を合理化し得る効果がある。
下端部と、真空チャンバの上端部との当接部を比較的低
くすることにより、真空チャンバ内の清掃などメンテナ
ンス作業を合理化し得る効果がある。
【図１】この発明の実施例の一部を省略した断面図。
【図２】同じく従来のロード・ロックチャンバの一部を
省略した断面図。
省略した断面図。
１ 帽状体 ２ 真空チャンバ ３ ロード・ロックチャンバ ４ フィルター孔 ５ ガス拡散フィルター ６ 環状間隙 ７ 整流用カバー ８ ベントガス導入管 ９、１０ ガス導入バルブ １１ 排気ポンプ １２ 排気バルブ １３ ウエーハ １４ ウエーハカセット １５ ガス拡散フィルターのカバ
Claims (2)
- 【請求項１】 ロード・ロックチャンバの頂板内側にガ
ス流動間隙を介在させて固定されているガス整流用カバ
ーの上面に、ガス拡散フィルターの下端を固定し、該ガ
ス拡散フィルターの上端側をロード・ロックチャンバの
頂板を介してガス導入手段に接続すると共に、前記ロー
ド・ロックチャンバの隅部内壁を円滑な曲面に形成した
ことを特徴とする基板処理装置のロード・ロックチャン
バ機構。 - 【請求項２】 ロード・ロックチャンバの頂板内側にガ
ス流動間隙を介在させて固定されているガス整流用カバ
ーの上面に、ガス拡散フィルターの下端を固定し、該ガ
ス拡散フィルターの上端側をロード・ロックチャンバの
頂板を介してガス導入手段に接続すると共に、前記ロー
ド・ロックチャンバの隅部内壁を円滑な曲面に形成し、
前記ロード・ロックチャンバの上部側壁の下端部を、真
空チャンバの上端部へ当接固定したことを特徴とする基
板処理装置のロード・ロックチャンバ機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18990997A JP4029188B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18990997A JP4029188B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129869A true JPH1129869A (ja) | 1999-02-02 |
| JP4029188B2 JP4029188B2 (ja) | 2008-01-09 |
Family
ID=16249244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18990997A Expired - Lifetime JP4029188B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 基板処理装置のロード・ロックチャンバ機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4029188B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002097870A3 (en) * | 2001-03-29 | 2003-04-10 | Lam Res Corp | Diffuser and rapid cycle chamber |
| CN105097600A (zh) * | 2014-04-15 | 2015-11-25 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种真空锁定腔室 |
| JP2024060790A (ja) * | 2022-10-20 | 2024-05-07 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置 |
| US12538738B2 (en) * | 2023-03-01 | 2026-01-27 | United Semiconductor (Xiamen) Co., Ltd. | Semiconductor process machine and operation method thereof |
-
1997
- 1997-07-15 JP JP18990997A patent/JP4029188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002097870A3 (en) * | 2001-03-29 | 2003-04-10 | Lam Res Corp | Diffuser and rapid cycle chamber |
| KR100928193B1 (ko) | 2001-03-29 | 2009-11-25 | 램 리써치 코포레이션 | 확산기 및 급속순환챔버 |
| CN105097600A (zh) * | 2014-04-15 | 2015-11-25 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种真空锁定腔室 |
| JP2024060790A (ja) * | 2022-10-20 | 2024-05-07 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置 |
| US12538738B2 (en) * | 2023-03-01 | 2026-01-27 | United Semiconductor (Xiamen) Co., Ltd. | Semiconductor process machine and operation method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4029188B2 (ja) | 2008-01-09 |
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