JPH0442101A - カラーフィルターおよびその製造方法 - Google Patents
カラーフィルターおよびその製造方法Info
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- JPH0442101A JPH0442101A JP2149588A JP14958890A JPH0442101A JP H0442101 A JPH0442101 A JP H0442101A JP 2149588 A JP2149588 A JP 2149588A JP 14958890 A JP14958890 A JP 14958890A JP H0442101 A JPH0442101 A JP H0442101A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、カラー液晶表示装置、カラービデオカメラ、
カラーセンサー、カラーイメージセンサ−等、カラー画
像の入出力装置に使用するカラーフィルターの構造とそ
の製造方法に関する。
カラーセンサー、カラーイメージセンサ−等、カラー画
像の入出力装置に使用するカラーフィルターの構造とそ
の製造方法に関する。
カラー液晶表示装置において表示品質の低下を防止する
ため、対向して設けられる透明なガラス基板の一方の内
面に着色部が透光可能に形成されている。 従来、この着色部を形成する一般的な方法としては、重
クロム酸塩により感光性を持たせたゼラチン、グリユー
、カゼイン、ポリビニルアルコール等の親水性樹脂溶液
をガラスなどの透明基板に回転塗布法等により全面塗膜
し、次いでマスク露光法により所定のパターンを転写・
現像してレリーフパターンを形成し、これを所望の色の
酸性染料にて染色、しかる後にタンニン酸水溶液と吐酒
石水溶液にて防染処理を施す工程を、所望の色数（通常
はレッド、グリーン、ブルーの三色）だけ繰り返し行っ
て形成する方法がある。 また、必要に応じて各色の境界部に遮光性のブラックマ
トリックスパターンを形成し、色の滲み、白抜は等をな
くして表示品質の向上を図ることも行われている。この
ブラックマトリックスノぐターンの形成も、一般には透
光可能な着色部と同様、写真製版技術を用いてパターン
を転写したのち、黒色染料で染色して形成されている。 上記着色部の形成方法においてはレッド、グリーン、ブ
ルー、ブラック等の着色部全てが写真製版技術と、染色
・防染処理によって形成されているため、工数が多くな
り、生産性が上がらないと云う問題点があった。このた
め、顔料を分散含有した光硬化性ホトレジストを用いる
ことにより、染色・防染工程を減らし、生産性を向上さ
せる新しい技術が提案されている。
ため、対向して設けられる透明なガラス基板の一方の内
面に着色部が透光可能に形成されている。 従来、この着色部を形成する一般的な方法としては、重
クロム酸塩により感光性を持たせたゼラチン、グリユー
、カゼイン、ポリビニルアルコール等の親水性樹脂溶液
をガラスなどの透明基板に回転塗布法等により全面塗膜
し、次いでマスク露光法により所定のパターンを転写・
現像してレリーフパターンを形成し、これを所望の色の
酸性染料にて染色、しかる後にタンニン酸水溶液と吐酒
石水溶液にて防染処理を施す工程を、所望の色数（通常
はレッド、グリーン、ブルーの三色）だけ繰り返し行っ
て形成する方法がある。 また、必要に応じて各色の境界部に遮光性のブラックマ
トリックスパターンを形成し、色の滲み、白抜は等をな
くして表示品質の向上を図ることも行われている。この
ブラックマトリックスノぐターンの形成も、一般には透
光可能な着色部と同様、写真製版技術を用いてパターン
を転写したのち、黒色染料で染色して形成されている。 上記着色部の形成方法においてはレッド、グリーン、ブ
ルー、ブラック等の着色部全てが写真製版技術と、染色
・防染処理によって形成されているため、工数が多くな
り、生産性が上がらないと云う問題点があった。このた
め、顔料を分散含有した光硬化性ホトレジストを用いる
ことにより、染色・防染工程を減らし、生産性を向上さ
せる新しい技術が提案されている。
しかしながら５．顔料を分散含をした光硬化性ホトレジ
ストを用いて着色部を形成する方法においては、明暗を
調節することは可能であるが、色調を調節することが出
来ないと云う問題点があった。すなわち、基板に塗膜す
るホトレジストの膜厚を変えると、透過する光量は増減
するのでその明暗は調節出来るが、光吸収特性には全く
変化がナイタめ色調は変わらない。このことは品質ノ安
定化を図る上で有利となる一方、液晶表示装置等のアッ
センブリメーカーに部品として供給する際には、メーカ
ーによって組合せるノイツクライトの色が微妙に異なる
ため、同じカラーフィルターを納入してもＡ社では奇麗
なレッド、グリーン、ブルーが得られるが、Ｂ社では希
望の色を出すことができないと云う問題点があった。こ
のため、需要家ごとに一々顔料を調合しなければならず
、手間が掛かる上に、多量に調合しておくと残肉が多く
出ると云う問題点があった。
ストを用いて着色部を形成する方法においては、明暗を
調節することは可能であるが、色調を調節することが出
来ないと云う問題点があった。すなわち、基板に塗膜す
るホトレジストの膜厚を変えると、透過する光量は増減
するのでその明暗は調節出来るが、光吸収特性には全く
変化がナイタめ色調は変わらない。このことは品質ノ安
定化を図る上で有利となる一方、液晶表示装置等のアッ
センブリメーカーに部品として供給する際には、メーカ
ーによって組合せるノイツクライトの色が微妙に異なる
ため、同じカラーフィルターを納入してもＡ社では奇麗
なレッド、グリーン、ブルーが得られるが、Ｂ社では希
望の色を出すことができないと云う問題点があった。こ
のため、需要家ごとに一々顔料を調合しなければならず
、手間が掛かる上に、多量に調合しておくと残肉が多く
出ると云う問題点があった。
本発明は上記した従来技術の課題を解決するためになさ
れたもので、パターン状に形成された着色部が、顔料を
分散含有したホトレジストと、前記ホトレジストの色を
補正するための補色用顔料を分散含有したホトレジスト
との積層体からなることを特徴とするカラーフィルター
であり、着色部を写真製版技術を用いて形成するカラー
フィルターの製造方法であって、顔料を分散含有した光
硬化性ホトレジストを透明基板上にパターン状に順次残
存形成し、該ホトレジストの一部、または全部それぞれ
に前記ホトレジストの色を補正するための補色用顔料を
分散含有した光硬化性ホトレジストを順次積層して前記
着色部を形成することを特徴とするカラーフィルターの
製造方法を提供するものである。
れたもので、パターン状に形成された着色部が、顔料を
分散含有したホトレジストと、前記ホトレジストの色を
補正するための補色用顔料を分散含有したホトレジスト
との積層体からなることを特徴とするカラーフィルター
であり、着色部を写真製版技術を用いて形成するカラー
フィルターの製造方法であって、顔料を分散含有した光
硬化性ホトレジストを透明基板上にパターン状に順次残
存形成し、該ホトレジストの一部、または全部それぞれ
に前記ホトレジストの色を補正するための補色用顔料を
分散含有した光硬化性ホトレジストを順次積層して前記
着色部を形成することを特徴とするカラーフィルターの
製造方法を提供するものである。
本発明になるカラーフィルターの製造方法は、透明なガ
ラスなどの基板に色純度の高い顔料を含有した高純度ホ
トレジストと、色純度の低い補色用顔料を分散含有した
低純度ホトレジストとを積層して着色部を形成するため
、色純度の異なる二種類のホトレジストの積層比を変え
ることにより、前記着色部を透過する光の吸収特性が自
在に変えられる。
ラスなどの基板に色純度の高い顔料を含有した高純度ホ
トレジストと、色純度の低い補色用顔料を分散含有した
低純度ホトレジストとを積層して着色部を形成するため
、色純度の異なる二種類のホトレジストの積層比を変え
ることにより、前記着色部を透過する光の吸収特性が自
在に変えられる。
つぎに本発明を図面°に基づいてさらに詳細に説明する
。 第１図は透明なガラス製の基板１の片面に光硬化性ホト
レジストが固着形成されてレッド、グリーン、ブルーの
三色の着色部Ｒ１ＧおよびＢがパターン状に繰り返し形
成された本発明になるカラーフィルターの一例であって
、レッド着色部Ｒは色純度の高い赤色顔料、例えばレー
キレッド等を分散含有したジアゾ系の光硬化性高純度ホ
トレジストＲ２が１．０〜３．０μＩ形成され、さらに
この上に色純度が低い１１７７５色の顔料を分散含有し
た、低純度ホトレジストｒ２が高純度ホトレジストＲ２
の色を補正するために０．２〜１．ｏｊｍ積層された構
成であり、同様にグリーン着色部Ｇは色純度の高い緑色
顔料を分散含有するジアゾ系の高純度ホトレジストＧ２
、１．０〜３．０ａｍの上に色純度が低いイエローの顔
料を含有する、低純度ホトレジストｇ２が０．２〜１．
０μ厘積層された構成であり、ブルー着色部Ｂは色純度
の高い青色顔料、例えばメチレブルを含有するジアゾ系
の高純度ホトレジストＢ２．１．０〜３．０μ霧の上に
色純度が低いパイオッレトの顔料を含有する、低純度ホ
トレジストｂ２が０．２〜１．０＋ｉ＋積層された構成
である。 そして、レッド着色部Ｒ１グリーン着色部Ｇ１ブルー着
色部Ｂそれぞれの境界部には遮光性を持つ光吸収性に優
れたブラックマトリックスパターン１１が形成されてい
る。 上記構成のレッド着色部Ｒ１グリーン着色部Ｇおよびブ
ルー着色部Ｂそれぞれの透過光は、−例を第３図に示す
様に、ホトレジストＲ２、Ｇ２、Ｂ２単独の波長（破線
）に対して所定の補正が出来、必要とする波長（実線）
が得られた。 なお、本発明において補色用顔料とは、補色関係にある
色のことを意味するものではなく、単に色調を補正ある
いは補充するための顔料を意味している。 上記構成のカラーフィルターを製造する本発明の製造方
法を説明すると、基板１の片面に赤色の顔料が分散剤（
界面活性剤）と共に２０〜４０％配合添加された光硬化
性を持つジアゾ系（アクリル系樹脂、フェノール系樹脂
の添加可能）の高純度ホトレジス）Ｒ１を適宜の方法、
例えば回転塗布法によって均一に塗膜して乾燥させ、し
かる後に例えばクロム蒸着層によって所望のパターン２
１が片面に形成されたホトマスク２を、前記高純度ホト
レジストＲ１とパターン２１とを対峙させて重ね合わせ
、ホトマスク２側から紫外線または遠紫外線を照射して
、高純度ホトレジストＲ１を部分露光させる。所定時間
露光させてホトマスク２のパターン２１を高純度ホトレ
ジストＲ１に転写したのちアルカリ液により現像し、露
光により変性硬化した部分（Ｒ２）を選択残存させ、露
光されなかったために硬化することのなかった高純度ホ
トレジストＲ１を除去すると、パターン２１に対応する
高純度ホトレジス）Ｒ２のパターンが基板１の上に固着
形成される。 続いて、緑色の顔料が分散剤（界面活性剤）と共に２０
〜４０％配合添加された、ジアゾ系（アクリル系樹脂、
フェノール系樹脂の添加可能）の光硬化性高純度ホトレ
ジストＧ１を塗膜したのち、ホトマスク２と基板１との
相対位置を移動して同様に部分露光させ、前工程で固着
形成した高純度ホトレジス）Ｒ２の片側に隣接して変性
硬化した高純度ホトレジストＧ２を固着形成させる。た
だしブラックマトリックスパターン１１を形成する場合
には適宜な間隙だけ離間させる。さらに、青色の顔料が
分散剤（界面活性剤）と共に２０〜４０％配合添加され
たジアゾ系（アクリル系樹脂、フェノール系樹脂の添加
可能）の光硬化性高純度ホトレジス）Ｂｌを塗膜し、前
記変性硬化した高純度ホトレジストＲ２と高純度ホトレ
ジストＧ２の間にそれぞれ適宜の間隙を保って変性硬化
した高純度ホトレジストＢ２を固着形成させると、基板
１にはレッド、グリーン、ブルーそれぞれの顔料を分散
含有した高純度ホトレジストＲ２、Ｇ２、Ｂ２がストラ
イプ状に連続的に繰り返し形成される。 続いて、オレンジの顔料が分散剤（界面活性剤）と共に
２０〜４０％配合添加されたアクリル樹脂系の光硬化性
低純度ホトレジス）ｒｌを塗膜し、前記ホトマスク２を
最初の位置に戻して部分露光させることにより、変性硬
化した低純度ホトレジス）ｒ２を既に固着形成した高純
度ホトレジストＲ２上に選択残存させて積層する。以下
同様にして、高純度ホトレジストＧ２の上にイエローの
低純度ホトレジストｇ２を、高純度ホトレジストＢ２の
上にバイオレットの低純度ホトレジストｂ２をそれぞれ
残存形成させると、本発明になるカラーフィルターの構
成となる。続いて、着色部Ｒ１ＧおよびＢの境界部を明
瞭にするため、黒色の顔料を含有したジアゾ系の光硬化
性ホトレジストを用いたり、従来周知の染色法を用いた
りしてブラックマトリックスパターン１１を形成する。 なお、本発明に使用される着色顔料は、従来公知のもの
を使用することが可能である。 上記工程によって形成されるレッド、グリーン、ブルー
それぞれの着色部Ｒ％ＧおよびＢは、適宜の樹脂（例え
ばメラミン−エポキシ樹脂など）をトップコートして使
用される。 なお、色補正を必要としない高純度ホトレジストについ
ては低純度ホトレジストを積層しなくてもよいし、積層
順についても高純度ホトレジストの固着形成を全て終了
したあとで低純度ホトレジストを順次積層しても良いし
、高純度ホトレジストの固着形成と補正用の低純度ホト
レジストの積層を繰り返し行う方法の何れであっても構
わない。ブラックマトリックスパターン１１は、着色部
の固着形成の前後何れの工程で形成しても構わない。
。 第１図は透明なガラス製の基板１の片面に光硬化性ホト
レジストが固着形成されてレッド、グリーン、ブルーの
三色の着色部Ｒ１ＧおよびＢがパターン状に繰り返し形
成された本発明になるカラーフィルターの一例であって
、レッド着色部Ｒは色純度の高い赤色顔料、例えばレー
キレッド等を分散含有したジアゾ系の光硬化性高純度ホ
トレジストＲ２が１．０〜３．０μＩ形成され、さらに
この上に色純度が低い１１７７５色の顔料を分散含有し
た、低純度ホトレジストｒ２が高純度ホトレジストＲ２
の色を補正するために０．２〜１．ｏｊｍ積層された構
成であり、同様にグリーン着色部Ｇは色純度の高い緑色
顔料を分散含有するジアゾ系の高純度ホトレジストＧ２
、１．０〜３．０ａｍの上に色純度が低いイエローの顔
料を含有する、低純度ホトレジストｇ２が０．２〜１．
０μ厘積層された構成であり、ブルー着色部Ｂは色純度
の高い青色顔料、例えばメチレブルを含有するジアゾ系
の高純度ホトレジストＢ２．１．０〜３．０μ霧の上に
色純度が低いパイオッレトの顔料を含有する、低純度ホ
トレジストｂ２が０．２〜１．０＋ｉ＋積層された構成
である。 そして、レッド着色部Ｒ１グリーン着色部Ｇ１ブルー着
色部Ｂそれぞれの境界部には遮光性を持つ光吸収性に優
れたブラックマトリックスパターン１１が形成されてい
る。 上記構成のレッド着色部Ｒ１グリーン着色部Ｇおよびブ
ルー着色部Ｂそれぞれの透過光は、−例を第３図に示す
様に、ホトレジストＲ２、Ｇ２、Ｂ２単独の波長（破線
）に対して所定の補正が出来、必要とする波長（実線）
が得られた。 なお、本発明において補色用顔料とは、補色関係にある
色のことを意味するものではなく、単に色調を補正ある
いは補充するための顔料を意味している。 上記構成のカラーフィルターを製造する本発明の製造方
法を説明すると、基板１の片面に赤色の顔料が分散剤（
界面活性剤）と共に２０〜４０％配合添加された光硬化
性を持つジアゾ系（アクリル系樹脂、フェノール系樹脂
の添加可能）の高純度ホトレジス）Ｒ１を適宜の方法、
例えば回転塗布法によって均一に塗膜して乾燥させ、し
かる後に例えばクロム蒸着層によって所望のパターン２
１が片面に形成されたホトマスク２を、前記高純度ホト
レジストＲ１とパターン２１とを対峙させて重ね合わせ
、ホトマスク２側から紫外線または遠紫外線を照射して
、高純度ホトレジストＲ１を部分露光させる。所定時間
露光させてホトマスク２のパターン２１を高純度ホトレ
ジストＲ１に転写したのちアルカリ液により現像し、露
光により変性硬化した部分（Ｒ２）を選択残存させ、露
光されなかったために硬化することのなかった高純度ホ
トレジストＲ１を除去すると、パターン２１に対応する
高純度ホトレジス）Ｒ２のパターンが基板１の上に固着
形成される。 続いて、緑色の顔料が分散剤（界面活性剤）と共に２０
〜４０％配合添加された、ジアゾ系（アクリル系樹脂、
フェノール系樹脂の添加可能）の光硬化性高純度ホトレ
ジストＧ１を塗膜したのち、ホトマスク２と基板１との
相対位置を移動して同様に部分露光させ、前工程で固着
形成した高純度ホトレジス）Ｒ２の片側に隣接して変性
硬化した高純度ホトレジストＧ２を固着形成させる。た
だしブラックマトリックスパターン１１を形成する場合
には適宜な間隙だけ離間させる。さらに、青色の顔料が
分散剤（界面活性剤）と共に２０〜４０％配合添加され
たジアゾ系（アクリル系樹脂、フェノール系樹脂の添加
可能）の光硬化性高純度ホトレジス）Ｂｌを塗膜し、前
記変性硬化した高純度ホトレジストＲ２と高純度ホトレ
ジストＧ２の間にそれぞれ適宜の間隙を保って変性硬化
した高純度ホトレジストＢ２を固着形成させると、基板
１にはレッド、グリーン、ブルーそれぞれの顔料を分散
含有した高純度ホトレジストＲ２、Ｇ２、Ｂ２がストラ
イプ状に連続的に繰り返し形成される。 続いて、オレンジの顔料が分散剤（界面活性剤）と共に
２０〜４０％配合添加されたアクリル樹脂系の光硬化性
低純度ホトレジス）ｒｌを塗膜し、前記ホトマスク２を
最初の位置に戻して部分露光させることにより、変性硬
化した低純度ホトレジス）ｒ２を既に固着形成した高純
度ホトレジストＲ２上に選択残存させて積層する。以下
同様にして、高純度ホトレジストＧ２の上にイエローの
低純度ホトレジストｇ２を、高純度ホトレジストＢ２の
上にバイオレットの低純度ホトレジストｂ２をそれぞれ
残存形成させると、本発明になるカラーフィルターの構
成となる。続いて、着色部Ｒ１ＧおよびＢの境界部を明
瞭にするため、黒色の顔料を含有したジアゾ系の光硬化
性ホトレジストを用いたり、従来周知の染色法を用いた
りしてブラックマトリックスパターン１１を形成する。 なお、本発明に使用される着色顔料は、従来公知のもの
を使用することが可能である。 上記工程によって形成されるレッド、グリーン、ブルー
それぞれの着色部Ｒ％ＧおよびＢは、適宜の樹脂（例え
ばメラミン−エポキシ樹脂など）をトップコートして使
用される。 なお、色補正を必要としない高純度ホトレジストについ
ては低純度ホトレジストを積層しなくてもよいし、積層
順についても高純度ホトレジストの固着形成を全て終了
したあとで低純度ホトレジストを順次積層しても良いし
、高純度ホトレジストの固着形成と補正用の低純度ホト
レジストの積層を繰り返し行う方法の何れであっても構
わない。ブラックマトリックスパターン１１は、着色部
の固着形成の前後何れの工程で形成しても構わない。
以上説明した様に本発明になるカラーフィルターの製造
方法によれば、基本となる色純度の高い高純度ホトレジ
ストと補色用の低純度ホトレジストとを揃えておけば、
需要家によって希望の色調が微妙に異なっていても、低
純度ホトレジストの厚みを適宜変えることにより容易に
その要求に応えることが出来る。したがって、需要家ご
とにホトレジストを調合をする必要がなくなったため、
工数が省略出来ると共に、保管スペースも狭くすること
が出来る。また、残肉量の減少と、品種変更に伴う塗膜
装置の洗浄回数の減少などによりコストダウンが図れる
。
方法によれば、基本となる色純度の高い高純度ホトレジ
ストと補色用の低純度ホトレジストとを揃えておけば、
需要家によって希望の色調が微妙に異なっていても、低
純度ホトレジストの厚みを適宜変えることにより容易に
その要求に応えることが出来る。したがって、需要家ご
とにホトレジストを調合をする必要がなくなったため、
工数が省略出来ると共に、保管スペースも狭くすること
が出来る。また、残肉量の減少と、品種変更に伴う塗膜
装置の洗浄回数の減少などによりコストダウンが図れる
。
第１図は本発明になるカラーフィルターの説明図、第２
図はその製造方法を工程順に示す説明図、第３図は着色
部の光透過率を示す説明図である。 １・・・基板、 １１・・・ブラックマトリックスパターン、２・・・ホ
トマスク、 ２１・・・パターン、 ＲｌＧ、Ｂ・・・着色部、 Ｒ１，Ｇ１．ＢＩ・・・高純度ホトレジスト、Ｒ２，Ｇ
２．Ｂ２・・・（変性硬化）高純度ホトレノスト、ｒｌ
、ｇｌ、ｂｌ・・・低純度ホトレジスト、ｒ２．ｇ２．
ｂ２・・・（変性硬化）低純度ホトレノスト。 区 （’Ｊ 派 ＝◇ ＝５ ＝） ＝◇ ＝■ ：）
図はその製造方法を工程順に示す説明図、第３図は着色
部の光透過率を示す説明図である。 １・・・基板、 １１・・・ブラックマトリックスパターン、２・・・ホ
トマスク、 ２１・・・パターン、 ＲｌＧ、Ｂ・・・着色部、 Ｒ１，Ｇ１．ＢＩ・・・高純度ホトレジスト、Ｒ２，Ｇ
２．Ｂ２・・・（変性硬化）高純度ホトレノスト、ｒｌ
、ｇｌ、ｂｌ・・・低純度ホトレジスト、ｒ２．ｇ２．
ｂ２・・・（変性硬化）低純度ホトレノスト。 区 （’Ｊ 派 ＝◇ ＝５ ＝） ＝◇ ＝■ ：）
Claims (2)
- （１）パターン状に形成された着色部が、顔料を分散含
有したホトレジストと、前記ホトレジストの色を補正す
るための補色用顔料を分散含有したホトレジストとの積
層体からなることを特徴とするカラーフィルター。 - （２）着色部を写真製版技術を用いて形成するカラーフ
ィルターの製造方法であって、顔料を分散含有した光硬
化性ホトレジストを透明基板上にパターン状に順次残存
形成し、該ホトレジストの一部、または全部それぞれに
前記ホトレジストの色を補正するための補色用顔料を分
散含有した光硬化性ホトレジストを順次積層して前記着
色部を形成することを特徴とするカラーフィルターの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2149588A JPH0442101A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | カラーフィルターおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2149588A JPH0442101A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | カラーフィルターおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442101A true JPH0442101A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15478488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2149588A Pending JPH0442101A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | カラーフィルターおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442101A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008039802A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びそれを用いた液晶表示装置 |
-
1990
- 1990-06-07 JP JP2149588A patent/JPH0442101A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008039802A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びそれを用いた液晶表示装置 |
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