JPH0442909Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、例えばフオトレジスト液や、表面保
護剤などの表面処理液を濾過した後、半導体基板
の表面に供給する装置に関するものである。

〔従来技術およびその課題〕

半導体基板やフオトマスク基板の表面処理工程
においては、スピンナー塗布機の回転台上に載置
した基板に対し、表面処理液を滴下して基板の表
面処理を行うが、かかる表面処理に際し、所定量
の処理液を完全に滴下した後に、回転台を回転さ
せるようにしなければ基板上の膜厚が変動した
り、回転途中で処理液が滴すると塗布ムラが生じ
る、という問題がある。かかる問題を解消するた
め、表面処理液を所定量滴下し、回転台を回転し
始めると、その表面処理液が再度滴下するのを防
止する装置が知られている。

一方、近年、半導体基板のパターンが高密度化
したため、基板の表面処理に際して、処理液中の
微細な異物（例えば、0.5μ径前後のゴミ）の存在
が問題となつている。

かかる問題を解決するため、前述の再度滴下を
防ぐ装置に、濾過器を付設した装置が実開昭58−
98641号公報としてすでに提案されている。当該
装置は、濾過器を迂回した逆流専用のバイパス管
を設け、ノズル内に残留した処理液を吸戻し機能
を備えた液供給ポンプにより、引き戻す装置であ
るが、かかる装置の場合、ノズルと液供給ポンプ
との間にバイパス管を設けたことにより、液供給
ポンプと濾過器との間に逆流防止弁（同公報中、
符号17）を介在させることとなり、したがつて、
濾過器の入口側に残留している処理液の圧力を低
下できず、処理液の供給を停止してノズルの配管
内の処理液を、前記液供給ポンプの吸戻しにより
一定量引き戻した後でも、濾過器入口側の残留液
の圧力で、処理液は、徐々に濾過器出口側へ流出
し、ついにはノズルから滴下するという不都合が
ある。殊に、最近濾過器は超微粒子を濾過する構
造となり、かつ、処理液の粘度は高く、その上、
かかる装置の場合、バイパスと液供給ポンプとの
間には流量調節ネジ（同公報中、符号24）で引戻
し量を微量に制限していることから、濾過器近傍
（たとえ、出口側でも）の残留液の圧力は低下せ
ず（仮に、液供給ポンプで濾過器入口側の残留液
をバイパスを介して引戻ししようとしても、ノズ
ルから空気が逆流し、濾過器入口側は依然とし
て、圧力低下はしない。）、この残留液が徐々に流
出し、ついにはノズルから滴下するのである。

〔課題を解決するための手段〕

本考案は、かかる従来装置における不都合を全
面的に解消しようとするもので、その要旨とする
ところは、高粘度の処理液が貯留された液貯留槽
１に、第１の逆流防止手段１３、吸戻し機能を備
えた液供給手段１４、および濾過器７が付設され
た配管５，５′を接続し、前記液供給手段１４に
より所定量の処理液を被処理基板１０上に、該被
処理基板１０に臨設したノズル９を介して供給す
る基板表面処理液供給装置において、前記液供給
手段１４とノズル９との間に、超微粒子を濾過す
るための濾過器７、該濾過器７から出た処理液が
液供給手段１４の方向へ逆流するのを防止する第
２の逆流防止手段１５、および前記液供給手段１
４に比べ微小容量の残留液引戻し手段８をそれぞ
れ付設し、前記液供給手段１４からノズル９まで
の間を、これらの濾過器７、第２の逆流防止手段
１５、および残留液引戻し手段８の当該順序で、
単一の配管５′にて直列状に接続したことを特徴
とする、基板表面処理液供給装置にある。

〔実施例〕

本考案の構成を添付図面に示す実施例にもとづ
いて詳細に説明する。

第１図は本実施例の系統図を示すもので、液貯
留槽１に貯留された処理液２は、スピンナー１１
上に載置された被処理基板１０の表面にノズル９
によつて供給される。この処理液２の供給手段と
しては、往復動ポンプ１４を使用し、このポンプ
１４の吐出側に濾過器７および残留液引戻しポン
プ８を設けている。

往復動ポンプ１４は、ベローズ型またはダイヤ
フラム型等のポンプとし、その吸込側に逆止弁１
３を、吐出側に設けた限外濾過器（ウルトラフイ
ルター）７の出口側に逆止弁１５をそれぞれ介在
している。そして、この往復動ポンプ１４の駆動
は、エア圧力の作用で往復動するピストン１７に
より行われる。なお、図中の１６，１６′はエア
供給用の配管を示し、その供給に対する開閉は図
示しないが自動弁による。

残留液引戻しポンプ８は、前記往復動ポンプ１
４と同様のポンプでもよいが、図示のものは、ダ
イヤフラム１９をピストン１８で往復動させ、ノ
ズル９内の残留液を一定量引き戻すようになつて
いる。なお、図中の１２，１２′はエア供給用の
配管を示す。

次に、その作用を説明する。残留液引戻しポン
プ８内のダイヤフラム１９は常時、第１図の点線
で示すように、ピストン１８で押しつけられてい
る。ここにおいて、ピストン１７を往復動させる
と、ベローズが伸縮し、液貯留槽１の処理液２は
ノズル９を経て、被処理基板１０上に供給され
る。所定量の処理液２が供給されると、ノズル９
より余分な残留液が被処理基板１０に再度滴下し
ないように、残留液引戻しポンプ８のピストン１
８および往復動ポンプ１４のピストン１７を略同
時に図示するごとくシリンダの左側に移動させ
て、残留液引戻しポンプ８のダイヤフラム１９を
図示の点線状の位置から実線の位置に移し、か
つ、往復動ポンプ１４を吸引状態とする。

一方、濾過器７は、例えば、0.2μ径以上のゴミ
を濾過するためのもので、しかも、濾過すべき処
理液２の粘度は一般的に高いので、この濾過器７
に処理液２を、特に急速に通過させるには、極め
て大きな抵抗を生じる。そのため、濾過器７の出
口側からノズル９間の配管５′の残留液を、残留
液引戻しポンプ８により一定量引き戻し、同時
に、往復動ポンプ１４により、濾過器７の入口側
から、液貯留槽１までの配管５内、および液貯留
槽１の処理液２を吸引した場合、残留液引戻しポ
ンプ８により残留液引き戻し量に比べ、往復動ポ
ンプ１４による吸引量がはるかに、大きいため
（例えば前者が１サイクルにつき２／1000c.c.、後
者が１サイクルにつき５c.c.）、残留液引戻しポン
プ８の作動により、濾過器７の入口側の処理液２
が、その出口側に流出することは阻止され、余分
な処理液２をノズル９から滴下することはない。

〔考案の効果〕

本考案によれば、 吸戻し機能を備えた液供給手段１４からノズ
ル９に至る単一の配管５′に、濾過器７、第２
の逆流防止手段１５、および残留液引戻し手段
８をこの順序で設けたので、ノズル９に最も近
い残留液引戻し手段８によりノズル９の残留液
を直接、引戻すことができ、したがつて、確実
な引戻しができる。

濾過器７の出口側も含め、その近傍の残留液
は、第２の逆流防止手段１５を付設したことに
より、吸戻し機能を備えた液供給手段１４によ
つてその残圧を低下させることができ、したが
つて、濾過器７における濾過抵抗のため高めら
れた濾過器７の入口側の残圧によつて残留液が
経時後に（スピンナー塗布中に）、徐々にノズ
ル９へ流出し再度ノズル９から滴下するという
ことは、防止できる。

残留液引戻し手段８は、液供給手段１４に比
べ小容量としているので、残留液引戻し手段８
が動作する場合には、より以上の吸引力で液供
給手段１４が吸戻し作用をしていることから、
第２の逆流防止手段１５は閉塞し、残留液引戻
し手段８によりこれを超えて残留液を引戻すこ
とはなく、したがつて、残留液引戻し手段８
は、他の部分の残留液を引戻しせず、ノズル９
内の残留液のみを確実に引戻すことができる。

かなりの量の処理液がノズル９と液供給手段
１４との間に介在していて、液供給手段１４に
よる送液の遅延を生じさせる傾向にあるが、前
記によりノズル９内の残留液のみを引戻して
いるので、その引戻し作用や次回の送液の伝達
が迅速にできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例の系統図である。 １……液貯留槽、２……処理液、５，５′……
配管、７……濾過器、８……残留液引戻しポン
プ、９……ノズル、１１……スピンナー、１４…
…往復動ポンプ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 高粘度の処理液が貯留された液貯留槽１に、第
   １の逆流防止手段１３、吸戻し機能を備えた液供
   給手段１４、および濾過器７が付設された配管
   ５，５′を接続し、前記液供給手段１４により所
   定量の処理液を被処理基板１０上に、該被処理基
   板１０に臨設したノズル９を介して供給する基板
   表面処理液供給装置において、 前記液供給手段１４とノズル９との間に、超微
   粒子を濾過するための濾過器７、該濾過器７から
   出た処理液が液供給手段１４の方向へ逆流するの
   を防止する第２の逆流防止手段１５、および前記
   液供給手段１４に比べ微小容量の残留液引戻し手
   段８をそれぞれ付設し、前記液供給手段１４から
   ノズル９までの間を、これらの濾過器７、第２の
   逆流防止手段１５、および残留液戻し手段８の当
   該順序で、単一の配管５′にて直列状に接続した
   ことを特徴とする、基板表面処理液供給装置。