JPH0442992B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0442992B2 JPH0442992B2 JP60013282A JP1328285A JPH0442992B2 JP H0442992 B2 JPH0442992 B2 JP H0442992B2 JP 60013282 A JP60013282 A JP 60013282A JP 1328285 A JP1328285 A JP 1328285A JP H0442992 B2 JPH0442992 B2 JP H0442992B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing
- coating
- alloy
- printing hammer
- hammer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J9/00—Hammer-impression mechanisms
- B41J9/02—Hammers; Arrangements thereof
- B41J9/133—Construction of hammer body or tip
Landscapes
- Impact Printers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はインパクトプリンタに使用される印字
ハンマに関するものである。
ハンマに関するものである。
印字ハンマはインクリボン及び用紙上を相対す
べりを行いながら印字するため、印字ハンマの印
字面には耐摩耗性を考慮した硬化処理が行われて
いる。
べりを行いながら印字するため、印字ハンマの印
字面には耐摩耗性を考慮した硬化処理が行われて
いる。
第１図に印字機構部の一例を示し、第２図に印
字ハンマ１の印字面９を拡大して示す。該印字面
９には硬化層１０が設けられている。
字ハンマ１の印字面９を拡大して示す。該印字面
９には硬化層１０が設けられている。
第３図はドツトプリンタ用印字ハンマ２０を示
し、ワイヤ２２の先端には硬化層２３が設けられ
ている。
し、ワイヤ２２の先端には硬化層２３が設けられ
ている。
第１図の活字用印字ハンマ１は、鋼材で構成さ
れ、硬化層１０としては、浸炭窒化、ガス窒化ま
たはWC溶射被覆処理したものが用いられる。ま
た第３図のドツト用印字ハンマ２０の硬化層２３
としては、比較的耐摩耗性の大きい超硬合金、焼
結合金を鋼線に接合したものからなり、かつその
先端を窒化処理、TiNの被覆処理等の表面処理
したものが用いられている。
れ、硬化層１０としては、浸炭窒化、ガス窒化ま
たはWC溶射被覆処理したものが用いられる。ま
た第３図のドツト用印字ハンマ２０の硬化層２３
としては、比較的耐摩耗性の大きい超硬合金、焼
結合金を鋼線に接合したものからなり、かつその
先端を窒化処理、TiNの被覆処理等の表面処理
したものが用いられている。
印字速度が高速になると上記した材料及び硬化
層では摩耗が著しいという問題がある。
層では摩耗が著しいという問題がある。
このため、先端に白金族系合金を接合した印字
ハンマが提案されている。該合金は焼結または溶
解にて製造されるが、偏析、巣等の欠陥を生じ易
く、靱性に乏しいため高印字速度になると動作中
に印字ハンマの先端が欠けたり折損したりするた
め印字ハンマの交換を余儀なくされている。
ハンマが提案されている。該合金は焼結または溶
解にて製造されるが、偏析、巣等の欠陥を生じ易
く、靱性に乏しいため高印字速度になると動作中
に印字ハンマの先端が欠けたり折損したりするた
め印字ハンマの交換を余儀なくされている。
研削加工においては、前記合金は硬く脆いため
研削中に欠けが発生し生産歩留りがよくない。ま
た印字面を一定の形状に研削するが、その研摩代
が多く印字ハンマに残るのは半分以下となりこの
種の金属は高価であるためコスト高となつてい
る。この合金を用いることのできる印字ハンマは
ドツト用印字ハンマ２０のように微小の印字面を
有する印字ハンマに限られており、この印字面の
100〜200倍程度ある活字用印字ハンマ１の印字面
に接合して用いることは合金の加工性、研削性、
コストの点から不適である。
研削中に欠けが発生し生産歩留りがよくない。ま
た印字面を一定の形状に研削するが、その研摩代
が多く印字ハンマに残るのは半分以下となりこの
種の金属は高価であるためコスト高となつてい
る。この合金を用いることのできる印字ハンマは
ドツト用印字ハンマ２０のように微小の印字面を
有する印字ハンマに限られており、この印字面の
100〜200倍程度ある活字用印字ハンマ１の印字面
に接合して用いることは合金の加工性、研削性、
コストの点から不適である。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をな
くし、印字面の大小に関係なく適用でき、長寿命
の印字ハンマを安価に提供できるようにすること
である。
くし、印字面の大小に関係なく適用でき、長寿命
の印字ハンマを安価に提供できるようにすること
である。
本発明は、白金族系合金は高価であることに着
目し、これら合金を被覆形成することにより長寿
命の印字ハンマを安価に得られるように工夫した
ことを特徴とするものである。
目し、これら合金を被覆形成することにより長寿
命の印字ハンマを安価に得られるように工夫した
ことを特徴とするものである。
前記印字面に特定合金を被覆形成するには、イ
オンプレーテイング、スパツタリング、化学蒸着
及びプラズマ溶射等があるが、イオンプレーテイ
ング法で被覆形成する方法について説明する。
オンプレーテイング、スパツタリング、化学蒸着
及びプラズマ溶射等があるが、イオンプレーテイ
ング法で被覆形成する方法について説明する。
第４図はイオンプレーテイング装置を示す図で
ある。容器１３内の印字ハンマを取り付ける基板
１４と前記合金からなる蒸着物１６を保持するホ
ルダ１５及び電子線源１７からなり、容器１３内
の雰囲気を10-3〜10-6Torr以下の不活性ガスに
保ち、基板１４に数百〜数千ボルトの負の電圧を
印加する。この状態で蒸着物１６を蒸発させると
プラズマ中で蒸着物１６はイオン化し、イオン化
された蒸着物１６は基板１４に保持された図示し
ない印字ハンマの印字面に衝突しその被膜が形成
される。蒸着する前に不活性ガスのイオン衝撃を
加えてやると印字面がスパツタクリーニング作用
を受け被膜の密着力が向上する。このように形成
された被膜の厚さは処理時間にもよるが、0.5〜
100μmが一般的である。
ある。容器１３内の印字ハンマを取り付ける基板
１４と前記合金からなる蒸着物１６を保持するホ
ルダ１５及び電子線源１７からなり、容器１３内
の雰囲気を10-3〜10-6Torr以下の不活性ガスに
保ち、基板１４に数百〜数千ボルトの負の電圧を
印加する。この状態で蒸着物１６を蒸発させると
プラズマ中で蒸着物１６はイオン化し、イオン化
された蒸着物１６は基板１４に保持された図示し
ない印字ハンマの印字面に衝突しその被膜が形成
される。蒸着する前に不活性ガスのイオン衝撃を
加えてやると印字面がスパツタクリーニング作用
を受け被膜の密着力が向上する。このように形成
された被膜の厚さは処理時間にもよるが、0.5〜
100μmが一般的である。
印字面に前記合金の薄膜を被覆形成する以上印
字面の形状が特に大切で印字面の外周部を曲面状
にすることが必須条件である。これは被膜の剥離
を防止するためで、印字面の外周部が鋭角である
と印字時に鋭角部から剥離が生じる。また印字速
度が高速化したために印字打撃力が大きくなり、
被膜の下地（基材）の硬さも必要で、ビツカース
硬さが500以上が必要であり、これも必須条件で
ある。前記基材のビツカース硬さが500以下であ
ると、軟らかいためいくら耐摩耗性の高い被膜を
形成しても、印字面の潰れ、陥没等が起こり使用
に耐えない。
字面の形状が特に大切で印字面の外周部を曲面状
にすることが必須条件である。これは被膜の剥離
を防止するためで、印字面の外周部が鋭角である
と印字時に鋭角部から剥離が生じる。また印字速
度が高速化したために印字打撃力が大きくなり、
被膜の下地（基材）の硬さも必要で、ビツカース
硬さが500以上が必要であり、これも必須条件で
ある。前記基材のビツカース硬さが500以下であ
ると、軟らかいためいくら耐摩耗性の高い被膜を
形成しても、印字面の潰れ、陥没等が起こり使用
に耐えない。
被膜は薄膜状で形成するため被膜全体が連続と
なり常に均一になる。上記したように該被膜は印
字面の形状にならつて被膜されるため機械加工に
よる制約を受けなく、後加工は不要であるという
利点がある。
なり常に均一になる。上記したように該被膜は印
字面の形状にならつて被膜されるため機械加工に
よる制約を受けなく、後加工は不要であるという
利点がある。
本発明の特徴は、印字面の形状にならつて特定
合金の被膜を形成することができ、耐摩耗性が良
好で加工精度のわずらわしさがなく、しかも印字
面の大小と無関係に処理が可能であるため生産性
の向上及びコストダウンが図れることである。
合金の被膜を形成することができ、耐摩耗性が良
好で加工精度のわずらわしさがなく、しかも印字
面の大小と無関係に処理が可能であるため生産性
の向上及びコストダウンが図れることである。
前記特定合金は白金族金属の合金または白金族
金属と遷移金属の合金のいずれか１種である。白
金族金属はルテニウム、ロジウム、パラジウム、
オスミウム、イリジウム及び白金等である。これ
らの金属を２種以上組合わせて合金とし、印字面
に被膜として形成する。特に40重量％（以下％と
省略する）オスニウム（Os）−30％イリジウム
（Ir）−30％ルテニウム（Ru）が製作上において
も好ましく、耐摩耗性も良好である。
金属と遷移金属の合金のいずれか１種である。白
金族金属はルテニウム、ロジウム、パラジウム、
オスミウム、イリジウム及び白金等である。これ
らの金属を２種以上組合わせて合金とし、印字面
に被膜として形成する。特に40重量％（以下％と
省略する）オスニウム（Os）−30％イリジウム
（Ir）−30％ルテニウム（Ru）が製作上において
も好ましく、耐摩耗性も良好である。
これらの合金の被膜は耐摩耗性が良好である
が、その金属自体が高価であるためコストダウン
を図る目的でこの合金の一部を遷移金属で置換す
ることも可能である。被膜形成が容易な遷移金属
は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジ
ウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、
タングステン（Ｗ）、レニウム、コバルト（Co）、
ニツケル、マンガン及び鉄等である。以上の遷移
金属を１種またはそれ以上選定し、前記白金族系
合金の一部と置換する。特に遷移金属は40重量％
以下が好ましく、これ以上になると遷移金属の影
響が生じ、白金族系合金と比べ耐摩耗性及び耐食
性は悪くなる。
が、その金属自体が高価であるためコストダウン
を図る目的でこの合金の一部を遷移金属で置換す
ることも可能である。被膜形成が容易な遷移金属
は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジ
ウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、
タングステン（Ｗ）、レニウム、コバルト（Co）、
ニツケル、マンガン及び鉄等である。以上の遷移
金属を１種またはそれ以上選定し、前記白金族系
合金の一部と置換する。特に遷移金属は40重量％
以下が好ましく、これ以上になると遷移金属の影
響が生じ、白金族系合金と比べ耐摩耗性及び耐食
性は悪くなる。
本発明における被膜厚さは種々変化可能である
が、前記基材のビツカース硬さとの関係から、耐
摩耗性及び耐剥離性を考慮して5μm以上が望まし
い。また被膜は１層でも２層でもよい。更に被膜
の密着力を向上するためにNi−Ｐ、Co−Ｐ等の
メツキを施し、その上に前記特定合金の被膜を形
成してもよい。
が、前記基材のビツカース硬さとの関係から、耐
摩耗性及び耐剥離性を考慮して5μm以上が望まし
い。また被膜は１層でも２層でもよい。更に被膜
の密着力を向上するためにNi−Ｐ、Co−Ｐ等の
メツキを施し、その上に前記特定合金の被膜を形
成してもよい。
＜実施例 １＞
活字用印字ハンマ１に浸炭窒化したニツケルク
ロムモリブデン鋼（JIS規格SNCM420）で形成
し、その処理温度は800℃、処理時間は１時間で
ある。印字面のビツカース硬さが730である印字
ハンマ１を前記基板１４上にセツトし印字ハンマ
１の印字面９が蒸着物１６に対向するように保持
した。蒸着物１６には40％Os−30％Ir−30％Ru
の合金をセツトした。その後容器１３内を１×
10-5Torrとした後アルゴンガスを入れ、直流電
圧2KVを印加し、最初印字面のスパツタクリー
ニング処理を10分間行つた。
ロムモリブデン鋼（JIS規格SNCM420）で形成
し、その処理温度は800℃、処理時間は１時間で
ある。印字面のビツカース硬さが730である印字
ハンマ１を前記基板１４上にセツトし印字ハンマ
１の印字面９が蒸着物１６に対向するように保持
した。蒸着物１６には40％Os−30％Ir−30％Ru
の合金をセツトした。その後容器１３内を１×
10-5Torrとした後アルゴンガスを入れ、直流電
圧2KVを印加し、最初印字面のスパツタクリー
ニング処理を10分間行つた。
印字ハンマの温度を焼戻し温度以下の200℃に
して蒸着物１６に２時間電子ビームを照射して蒸
発させた。処理後印字ハンマを取り出し被膜厚さ
を測つたところ印字面に均一に15μmの合金の被
膜が形成されていた。該被膜のビツカース硬さは
730であつた。
して蒸着物１６に２時間電子ビームを照射して蒸
発させた。処理後印字ハンマを取り出し被膜厚さ
を測つたところ印字面に均一に15μmの合金の被
膜が形成されていた。該被膜のビツカース硬さは
730であつた。
＜実施例 ２＞
蒸着物１６を50％Os−30％Ir−30％Ｗとした
以外は実施例１と同様に処理した。その被膜は
12μmでビツカース硬さは850であつた。
以外は実施例１と同様に処理した。その被膜は
12μmでビツカース硬さは850であつた。
＜実施例 ３＞
蒸着物１６を60％Ru−25％Ｗ−15％Coとした
以外は実施例１と同様に処理した。その被膜は
20μmでビツカース硬さは780であつた。
以外は実施例１と同様に処理した。その被膜は
20μmでビツカース硬さは780であつた。
＜比較例 １＞
活字用印字ハンマ１に浸炭窒化した前記ニツケ
ルクロムモリブデン鋼を用い、その処理温度は
800℃、処理時間１時間である。焼戻し温度は240
℃とした。その時に印字面のビツカース硬さは70
であつた。
ルクロムモリブデン鋼を用い、その処理温度は
800℃、処理時間１時間である。焼戻し温度は240
℃とした。その時に印字面のビツカース硬さは70
であつた。
＜比較例 ２＞
活字用印字ハンマ１の焼入焼戻したクロムモリ
ブデン鋼（JIS規格SCM435）を用い、その印字
面にWC溶射層を25μ被覆処理した。そのビツカ
ース硬さは1280であつた。
ブデン鋼（JIS規格SCM435）を用い、その印字
面にWC溶射層を25μ被覆処理した。そのビツカ
ース硬さは1280であつた。
以上の５種類の活字用印字ハンマを２×108回
連続打撃させてその印字面の摩耗寸法を調査し
た。その結果を第５図に示す。図より明らかなよ
うに本発明品は耐摩耗性が良好で、浸炭窒化品の
約1/4、WC溶射層の約1/3の摩耗寸法であつた。
本発明の被膜は印字中に欠けや剥離は認められず
常に鮮明な印字を確保していた。
連続打撃させてその印字面の摩耗寸法を調査し
た。その結果を第５図に示す。図より明らかなよ
うに本発明品は耐摩耗性が良好で、浸炭窒化品の
約1/4、WC溶射層の約1/3の摩耗寸法であつた。
本発明の被膜は印字中に欠けや剥離は認められず
常に鮮明な印字を確保していた。
＜実施例 ４＞
ドツト用印字ハンマ２０に炭素工具鋼（JIS規
格SK5）を用い、印字面のビツカース硬さを、
300，430，550，780の４種類とした。これを容器
１３内の基板１４上にセツトし、また蒸着物１６
には50％Os−40％Ir−10％Ruの合金をセツトし
た。その後容器１３内を１×10-5Torrとした後
アルゴンガスを入れ直流電圧1.5KVを印加し、最
初印字面のスパツタクリーニング処理を７分間行
つた。印字ハンマを120℃にし、蒸着物１６に３
時間電子ビームを照射して蒸発させた。処理後印
字ハンマを取り出し被膜厚さを測つたところ被膜
面厚さは印字面に均一に30μmでビツカース硬さ
は770であつた。
格SK5）を用い、印字面のビツカース硬さを、
300，430，550，780の４種類とした。これを容器
１３内の基板１４上にセツトし、また蒸着物１６
には50％Os−40％Ir−10％Ruの合金をセツトし
た。その後容器１３内を１×10-5Torrとした後
アルゴンガスを入れ直流電圧1.5KVを印加し、最
初印字面のスパツタクリーニング処理を７分間行
つた。印字ハンマを120℃にし、蒸着物１６に３
時間電子ビームを照射して蒸発させた。処理後印
字ハンマを取り出し被膜厚さを測つたところ被膜
面厚さは印字面に均一に30μmでビツカース硬さ
は770であつた。
以上４種類のドツト用印字ハンマ２３を３×
108回連続して打撃させて印字面の摩耗寸法を調
査した。その結果を第６図に示す。被膜下地のビ
ツカース硬さが500以上であると、摩耗寸法は
20μm以下となり高耐摩耗性を示し、まだ印字面
には10数μm残つていることが分かる。また下地
のビツカース硬さが300のものは30μmの合金被膜
層が早期に摩耗し、しかも印字面が潰れているの
が観察された。またビツカース硬さが430のもの
は被膜の厚さ分だけ摩耗し、これ以上打撃回数が
増すと下地のビツカース硬さが300のものと同じ
傾向を示すことが予想される。以上から下地のビ
ツカース硬さは500以上が好ましい。
108回連続して打撃させて印字面の摩耗寸法を調
査した。その結果を第６図に示す。被膜下地のビ
ツカース硬さが500以上であると、摩耗寸法は
20μm以下となり高耐摩耗性を示し、まだ印字面
には10数μm残つていることが分かる。また下地
のビツカース硬さが300のものは30μmの合金被膜
層が早期に摩耗し、しかも印字面が潰れているの
が観察された。またビツカース硬さが430のもの
は被膜の厚さ分だけ摩耗し、これ以上打撃回数が
増すと下地のビツカース硬さが300のものと同じ
傾向を示すことが予想される。以上から下地のビ
ツカース硬さは500以上が好ましい。
以上のように本発明は、印字面に耐摩耗性の高
い合金の被膜を形成することにより高速化に対し
ても寿命が飛躍的に伸び、しかも印字面の大小に
関係なく処理できることや機械加工による制約を
受けないために製作が容易で生産歩留りの向上及
びコストダウンを図れる印字ハンマを提供するこ
とができる。
い合金の被膜を形成することにより高速化に対し
ても寿命が飛躍的に伸び、しかも印字面の大小に
関係なく処理できることや機械加工による制約を
受けないために製作が容易で生産歩留りの向上及
びコストダウンを図れる印字ハンマを提供するこ
とができる。
第１図は活字用印字ハンマを用いる印字機構部
を示す側面図、第２図は第１図の印字ハンマの印
字面を拡大して示す斜視図、第３図はドツト用印
字ハンマの一例を示す斜視図、第４図はイオンプ
レーテイング装置の一例を示す側面図、第５図は
本発明印字ハンマと従来の印字ハンマの実機によ
る摩耗試験結果を示す比較図、第６図は本発明に
よる被膜の下地のビツカース硬さと摩耗寸法を示
す比較図である。 図において、１，２０は印字ハンマ、２は回転
軸、３はアマチユア、４はアクチユエータ、５は
電磁石、６は活字搬送体、７はインクリボン、８
は用紙、９は印字面、１０，２３は硬化層、２１
は板バネ、２２はワイヤである。
を示す側面図、第２図は第１図の印字ハンマの印
字面を拡大して示す斜視図、第３図はドツト用印
字ハンマの一例を示す斜視図、第４図はイオンプ
レーテイング装置の一例を示す側面図、第５図は
本発明印字ハンマと従来の印字ハンマの実機によ
る摩耗試験結果を示す比較図、第６図は本発明に
よる被膜の下地のビツカース硬さと摩耗寸法を示
す比較図である。 図において、１，２０は印字ハンマ、２は回転
軸、３はアマチユア、４はアクチユエータ、５は
電磁石、６は活字搬送体、７はインクリボン、８
は用紙、９は印字面、１０，２３は硬化層、２１
は板バネ、２２はワイヤである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ビツカース硬さが500以上の材料で構成され、
外周部が曲面に形成された印字面に白金族金属ま
たは白金族金属と遷移金属の合金のいずれか１種
を被覆形成したことを特徴とする印字ハンマ。 ２ 前記合金の被覆厚さを5μm以上としたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の印字ハン
マ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1328285A JPS61172760A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 印字ハンマ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1328285A JPS61172760A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 印字ハンマ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61172760A JPS61172760A (ja) | 1986-08-04 |
| JPH0442992B2 true JPH0442992B2 (ja) | 1992-07-15 |
Family
ID=11828843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1328285A Granted JPS61172760A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 印字ハンマ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61172760A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11267253A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-05 | Mizuno Corp | ゴルフクラブヘッド |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6028680B2 (ja) * | 1977-08-26 | 1985-07-05 | 株式会社パイロット | ペンの製造方法 |
| JPS58193166A (ja) * | 1982-04-01 | 1983-11-10 | Hitachi Metals Ltd | ドツトプリンタ−用ワイヤ− |
-
1985
- 1985-01-25 JP JP1328285A patent/JPS61172760A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61172760A (ja) | 1986-08-04 |
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