JPH0443844Y2 - - Google Patents

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JPH0443844Y2
JPH0443844Y2 JP1987161831U JP16183187U JPH0443844Y2 JP H0443844 Y2 JPH0443844 Y2 JP H0443844Y2 JP 1987161831 U JP1987161831 U JP 1987161831U JP 16183187 U JP16183187 U JP 16183187U JP H0443844 Y2 JPH0443844 Y2 JP H0443844Y2
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JP
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optical fiber
radius
curvature
substrate
substrates
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JP1987161831U
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JPH0167606U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本考案は光フアイバを用いて構成した研磨型光
フアイバカプラに関する。
<従来の技術> 第4図は従来用いられている光フアイバカプラ
の斜視図を示すものである。図において1は例え
ば溶融シリカガラス等からなる一対の基板であ
り、それぞれの基板にはクラツドおよびコアから
なる光フアイバ2が埋め込まれ、例えばa側から
入射した光がb,c側に所定の分岐比で分岐され
る。
第5図a〜cは上記光フアイバカプラの概略製
作工程を示す図で、aは基板1に曲率半径rで溝
8を形成し、この溝の曲面に沿つて光フアイバ2
を埋設/固定した状態を示す斜視図である。な
お、溝8の幅は光フアイバ2の外径と同様かわず
かに大きく、深さは溝8に沿つて埋め込んだ光フ
アイバのクラツド3の頂部が基板1の表面よりわ
ずかに低い程度に加工する。bは基板1の表面の
点線で示す部分を研磨した状態を示す斜視図であ
る。研磨は光フアイバのクラツド3とコア4の距
離が数μmとなるまで行う(なお、この距離は実
際には測定困難であるので最終的な研磨量の決定
は透過光量を測定しながら行なう。cは上記a,
bの工程で製作した2つの基板を固定する前の状
態を示す斜視図である。この場合、基板は研磨し
たクラツド3のeで示す部分が密着するように重
ねて固定する。
上記構成によれば2つのコアが数μmの所まで
接近した状態で固定されることになる。このよう
にコア同士が接近すると、光はそれぞれのコアを
独立に伝搬せず互いに光パワーの授受を行いなが
ら伝搬する。このため、一方のコアに光を入射す
ると、その光は他方のコアに結合する。従つて2
本のコア間の距離と結合部分の長さを調整するこ
とにより必要な分岐比を得ることが出来る。
<考案が解決しようとする問題点> ところで、上記構成の光フアイバカプラが理想
的に作成された場合、aから入射した光はb,c
にある分岐比に分れて出射する。すなわちaから
の光パワーをPa,b,c側の出射光の光パワー
をそれぞれPb,Pcとするとこれらの間には Pa=Pb+Pc ……(1) の関係が成立する。しかしながら、現実には基板
の研磨面の凹凸や第6図に示す様に基板間に微小
な異物5などが入り込み、基板間に非常に薄い空
気層6が出来る。この空気層と基板との境界面で
反射や散乱が発生し光の損失が生じる。このため
(1)式は Pa>Pb+Pc……(2)となる。この光の損失は
過剰損失Pzと呼ばれ Pz=−10log{(Pb+Pc)/Pa}(dB)
……(3) で表わされる。
本考案は上記従来技術における過剰損失のない
光フアイバカプラを提供することを目的とする。
<問題点を解決するための手段> 上記問題点を解決するための本考案の構成は、
クラツドとコア部からなる光フアイバと、 クラツドとコア部からなる光フアイバと、 基板表面の深さ方向に所定の曲率半径rで形成
された前記光フアイバ埋設用溝を有する基板から
なり、前記曲率半径rを有する溝は光フアイバを
埋設/固定したとき曲面に沿つたクラツドの頂部
が基板の表面よりわずかに低い程度の深さとさ
れ、前記光フアイバを埋設した側の表面を前記ク
ラツドとともに研磨して前記コアが露出する数
μm手前まで除去し、前記基板の2枚を一組とし、
研磨した側のクラツド同士を接触させて固定した
光フアイバカプラにおいて、前記基板の少なくと
も一枚を前記溝の曲率半径より大きな曲率半径R
を有する凸球面状に形成したことを特徴とするも
のである。
<実施例> 以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明
する。第3図は基板の研磨状態を示す断面図であ
り、曲率半径rの溝を形成し、クラツド3および
コア4を埋設/固定するまでは従来例と同様であ
る。本考案においては、従来、基板の表面を水平
に研磨し、2枚を一組として固定していたもの
を、少なくとも一方の基板は溝の曲率半径よりも
大きな半径Rを有する球面状に形成する。なお、
球面加工は一般の凸レンズ加工と同様に球面状の
凹部が形成された型で砥粒を用いて研磨すること
が出来る。
第1図a,bは光フアイバカプラの一実施例を
示す断面図で、この例では一方の基板は平らに研
磨したものを、他方の基板は表面を球面に加工し
たものを用いている。なお、b図はa図の−
断面図である。
第2図a,bは他の実施例を示す断面図であ
る。なお、第1図と同様b図はa図の−断面
図である。この実施例では両方の基板を球形に加
工したものを用いている。なお、光フアイバカプ
ラの大きさは縦横10mm、長さ50mm程度であり、曲
率半径rは数mm〜数十mm、Rは数十cm程度であ
る。一般に球面部を密着した場合、その接触面は
点接触となるように考えられるが、クラツドが研
磨された部分の面積は非常に小さいことと、基板
自身が完全な剛体でなく多少の弾力性を持つてい
るので、2つの基板を接着材で固定するときに加
える力や、例えばボルト等を用いて固定すると変
形して、面の状態で密着する。
<考案の効果> 以上、実施例とともに具体的に説明したように
本考案によれば、基板の表面を凸球面に研磨して
その研磨面を密着させ、空気層の出来にくい構成
としたので、空気層が存在することに起因する過
剰損失を小さくすることが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す断面図、第2
図は他の実施例を示す断面図、第3図は溝の曲率
半径と球面の曲率半径の関係を示す断面図、第4
図は従来例を示す斜視図、第5図は従来の概略製
作工程を示す斜視図、第6図は基板間に微小な異
物が入込んだ従来例を示す図である。 1……基板(溶融石英ガラス等)、2……光フ
アイバ、3……クラツド、4……コア、8……
溝。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. クラツドとコア部からなる光フアイバと、基板
    表面の深さ方向に所定の曲率半径rで形成された
    前記光フアイバ埋設用溝を有する基板からなり、
    前記曲率半径を有する溝は光フアイバを埋設固定
    したとき曲面に沿つたクラツドの頂部が基板の表
    面よりわずかに低い程度の深さとされ、前記光フ
    アイバを埋設した側の表面を前記クラツドととも
    に研磨して前記コアが露出する数μm手前まで除
    去し、前記基板の2枚を一組とし、研磨した側の
    クラツド同士を接触させて固定した光フアイバカ
    プラにおいて、前記基板の少なくとも一枚を前記
    光フアイバ埋設用溝の曲率半径rより大きな曲率
    半径Rを有する凸球面状に形状したことを特徴と
    する光フアイバカプラ。
JP1987161831U 1987-10-22 1987-10-22 Expired JPH0443844Y2 (ja)

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JP1987161831U JPH0443844Y2 (ja) 1987-10-22 1987-10-22

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JPH0167606U JPH0167606U (ja) 1989-05-01
JPH0443844Y2 true JPH0443844Y2 (ja) 1992-10-16

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4511207A (en) * 1981-11-19 1985-04-16 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Fiber optic data distributor

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JPH0167606U (ja) 1989-05-01

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