JPH0444218Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は半導体素子製造設備である薬液滴下装
置に関するものである。

従来の技術 半導体素子を作る場合に薬液処理することがあ
る。薬液処理によつて半導体素子を作る装置に
は、デイツプ式とスピンナ式とに大別され、後者
のものに薬液滴下装置が用いられる。この種薬液
滴下装置において、単に薬液の供給管路にバルブ
とフイルタを接続するのみでは、バルブ閉止後に
ノズル内の薬液がボタ落ちして、薬液の供給量が
不安定になるとともに、バルブ閉止後ノズルが移
動したり、半導体ウエーハ等のワークがすぐ移動
してしまうものでは、ボタ落ちした薬液によつ
て、付近が汚損される。

このため、薬液滴下装置においては、薬液のボ
タ落ち防止のために、種々の工夫が施されてい
る。この種のボタ落ち防止を施した従来の薬液滴
下装置の二例をを第２図及び第３図に基づいて説
明する。

第２図中、１は薬液２を貯蔵するタンク、３は
薬液２を輸送する管路、４は管路を開閉するため
の第１のバルブ、５はタンク１内の薬液２を汲み
上げたり、管路３内の薬液２を輸送するためのベ
ローポンプ、６ａは管路３を開閉するための第２
バルブ、７ａは第２のバルブ６ａを通過する薬液
２の量を調節するためのニードル弁、８ａは薬液
２内の塵埃をろ過するためのフイルター、９は管
路３の先端に付けるノズルである。管路３の一端
はタンク１内の薬液２に浸けられ、上流であるタ
ンク１側から順次、第１のバルブ４、第２のバル
ブ６ａ，フイルター８ａと直列に連結され、終端
はノズル９である。第１のバルブ４と第２のバル
ブ６ａとの間にベローポンプ５を接続する。ま
た、第２のバルブ６ａにはニードル弁７ａを並列
に接続する。

次に第２図に示した従来技術の動作について説
明する。第１の段階として、第２のバルブ６ａを
閉じ第１のバルブ４を開けた状態でベローポンプ
５を縮退状態から伸張させると、タンク１内に薬
液２が汲に上げられる。第２の段階として第１の
バルブ４を閉じ第２のバルブ６ａを開けてベロー
ポンプ５を縮退させると汲に上げられた薬液２は
第２のバルブ６ａ及びニードル弁７ａを通過した
後、フイルター８ａによつてろ過されてノズル９
から滴下される。薬液２の滴下が終了すると第３
の段階として第２のバルブ６ａを閉じ第１のバル
ブ４を開けてベローポンプ５を伸張させる。そう
すると第１の段階と同様にタンク１内の薬液２が
汲に上げられ、同時にノズル９側より薬液２がニ
ードル弁７ａを通つてベローポンプ５に引戻され
るがこの時ベローポンプ５の吸引力はフイルタ８
ａによつて遮られるためノズル９、フイルタ８ａ
間の薬液２はそのまま滞留している。

次に第３図に示した従来技術について説明す
る。

第３図中、１は薬液２を貯蔵するタンク、３は
薬液２を輸送する管路、４は管路を開閉するため
の第１のバルブ、５はタンク１内の薬液２を汲み
上げたり、管路３内の薬液２を輸送するためのベ
ローポンプ、６ｂは管路３を開閉するための第２
のバルブ、７ｂは第２のバルブ６ｂを通過する薬
液２の量を調節するためのニードル弁、８ｂは薬
液２内の塵埃をろ過するためのフイルター、９は
管路３の先端に付けるノズルである。管路３の一
端はタンク１内の薬液２に浸けられ、上流である
タンク１側から順次、第１のバルブ４、フイルタ
ー８ｂ、第２のバルブ６ｂと直列に連結され終端
はノズル９である。第１のバルブ４とフイルター
８ｂとの間にベローポンプ５を接続する。また、
フイルター８ｂと第２のバルブ６ｂの直列部と並
列にニードル弁７ｂを接続する。

次に第３図に示した従来技術の動作について説
明する。

第１の段階として、第２のバルブ６ｂを閉じ
て、第１のバルブ４を開けた状態でベローポンプ
５を伸張させるとタンク１内の薬液２が汲み上げ
られる。第２の段階として、第１のバルブ４を閉
じ、第２のバルブ６ｂを開けた状態でベローポン
プ５を縮退させると汲み上げられた薬液２はフイ
ルター８ｂによつてろ過された後、第２のバルブ
６ｂを通過して、又はフイルター８ｂを透過しな
いでニードル弁８ｂを通過して、ノズル９から滴
下される。薬液２の滴下が終了すると、第３の段
階として、第２のバルブ６ｂを閉じ第１のバルブ
４を開けてベローポンプ５を伸張させる。そうす
ると、第１の段階と同様にタンク１内の薬液２が
汲み上げられるとともに、さらにノズル９付近の
薬液２はノードル弁７ｂを通過して引き戻されノ
ズル９に滞留しない。

考案が解決しようとする問題点 半導体素子を製造する際に、薬液滴下装置を用
いる場合は、汚染されていない薬液が決まつた量
だけ滴下されることが望ましい。

しかし、第２図に示した従来技術では、薬液滴
下が終了しても、フイルター８ａの１次側と２次
側に圧力差が生じるため、フイルター８ａ付近の
薬液が引き戻されず、薬液のボタ落ちを完全に防
止できず、所定量以上の薬液が滴下されたり、ノ
ズルａが移動するものでは、滴下された薬液によ
り付近が汚損されるという問題があつた。

第３図に示した従来技術では、ノズル９付近の
薬液は引き戻されるが、薬液がフイルター８ｂを
透過した後にバルブ６ｂを通過するため、バルブ
６ｂで発生するゴミを除去できず、しかも、フイ
ルター８ｂに並列にニードル弁７ｂが接続されて
いるので、一部の薬液がフイルター８ｂを透過し
ないでニードル弁７ｂを通過するため、汚染され
た薬液が滴下されるという問題があつた。

問題点を解決するための手段 そこで本考案は、上記問題点を解決するため、
薬液貯蔵タンクと、一端にノズルを有し他端を上
記タンクに浸した管路と、上記タンクとノズルの
間で上記管路に取付けられたベローポンプと、ベ
ローポンプとタンクの間に設けた第１のバルブと
からなり、ベローポンプの縮退、伸長動作によつ
て薬液をタンクより汲み上げ、かつ、ノズルより
滴下させる薬液滴下装置において、上記ノズルと
ベローポンプの間を、第２のバルブとニードル弁
とを並列接続したものと、これらに直列接続した
フイルターとからなり、フイルターをノズル側に
配置した第１の直列管路で接続し、かつ、第３の
バルブと第２のニードル弁とを直列接続して形成
した第２の直列管路を上記第１の直列管路に並列
に接続する。

作 用 第２のバルブの開閉と第１のニードル弁の調整
によりフイルターの残圧を逃し、薬液の引き戻し
がうまく行われるようにする。

第３のバルブと第２のニードル弁の調整により
引き戻される薬液の量を調整する。

また、滴下される薬液は全てフイルターを透過
するため、薬液は汚染されない。

実施例 本考案にかかる実施例を第１図に基づいて説明
すると、１は薬液２を貯蔵するタンク、３は薬液
２を輸送する管路であり、途中第１の直列管路Ａ
と第２の直列管路Ｂとが並列に連結される。４，
６ｃ，６ｄは管路３を開閉するための第１、第
２、第３のバルブ、５はタンク１内の薬液２を汲
み上げたり、管路３内の薬液２を輸送するための
ベローポンプ、７ｃ，７ｄは管路３内を輸送され
る薬液２の量を調節するための第１、第２のニー
ドル弁、８ｃはフイルター、９は管路３の先端に
付けるノズルである。管路３の一端はタンク１内
の薬液２に浸けられ、上流であるタンク１側から
順次、第１のバルブ４、次に第１の直列管路Ａと
第２の直列管路Ｂの並列連結部、次にノズル９が
接続される。第１の直列管路Ａと第２の直列管路
Ｂの上流側の連結部にベローポンプ５を接続す
る。第１の直列管路Ａは、第２のバルブ６ｃを上
流側に、フイルター８ｃを下流側に直列連結し、
さらに第２のバルブ６ｃに第１のニードル弁７ｃ
を並列に接続する。第２の直列管路Ｂは、第２の
ニードル弁７ｄを上流側に、第３のバルブ６ｄを
下流側に直列連結する。

本実施例は以上の構成から成り、次にその動作
について説明する。

管路３に一切、薬液２が吸入されていない第１
の段階において、第２のバルブ６ｃと第３のバル
ブ６ｄは閉じて、第１のバルブ４のみ開ける。こ
の状態でベローポンプ５を伸張させるとタンク１
内に薬液２は汲み上げられる。次の第２の段階で
は第１のバルブ４を閉じ、第３のバルブ６ｄは閉
じたままにし、第２のバルブ６ｃを開ける。この
状態でベローポンプ５を伸長させると汲み上げら
れた薬液２は、第２のバルブ６ｃ又は第１のニー
ドル弁７ｃを通過した後、フイルター８ｃによつ
てろ過されてノズル９から滴下する。

薬液２の滴下が終了した後の第３の段階では、
第２のバルブ６ｃを閉じ、第１のバルブ４と第３
のバルブ６ｄを開けた状態でベローポンプ５を伸
張させる。この動作によつて、タンク１内の薬液
２が汲み上げられると同時に、ノズル９付近の薬
液２は第３のバルブ６ｄを経て、さらに第２のニ
ードル弁７ｄを通過して引き戻され、ノズル９か
らの薬液のボタ落ちを防止する。

次の段階として半導体素子〔図示せず〕に薬液
２を滴下するときは、上記第２の段階と同様に第
１のバルブ４と第３のバルブ６ｄを共に閉じて、
第２のバルブ６ｃのみを開ける。この状態でベロ
ーポンプ５を縮退させると、薬液２は全てフイル
ター８ｃを透過するため、清浄な薬液が半導体素
子〔図示せず〕に滴下される。

以上、第１の段階から第３の段階を繰り返すこ
とによつて半導体素子が順次薬液処理される。

考案の効果 本考案によれば、ノズルから滴下される薬液
は、全てフイルターによつてろ過されるため、清
浄である。また滴下終了後、薬液がノズル付近か
ら引き戻されるためボタ落ちも防止できる。従つ
て、清浄な薬液が最適量滴下されるための良質の
半導体素子を製造できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案にかかる薬液滴下装置の実施例
を示す概略図、第２図及び第３図は従来技術を示
す概略図である。 １……タンク、２……薬液、３……管路、４…
…第１のバルブ、５……ベローポンプ、６ｃ……
第２のバルブ、６ｄ……第３のバルブ、７ｃ……
第１のニードル弁、７ｄ……第２のニードル弁、
８ｃ……フイルター、９……ノズル、Ａ……第１
の直列管路、Ｂ……第２の直列管路。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 薬液貯蔵タンク１と、一端にノズル９を有し他
   端を上記タンク１に浸した管路３と、上記タンク
   １とノズル９の間で上記管路３に取り付けられた
   ベローポンプ５と、ベローポンプ５とタンク１の
   間に設けた第１のバルブ４とからなり、ベローポ
   ンプ５の縮退、伸縮動作によつて薬液２をタンク
   １より汲み上げ、かつ、ノズル９より滴下させる
   薬液滴下装置において、 上記ノズル９とベローポンプ５の間を、第１の
   ニードル弁７Ｃと第２のバルブ６Ｃとを並列に接
   続したものに、フイルタ８Ｃを直列接続した第１
   の直列管路Ａで接続し、 かつ、第３のバルブ６ｄと第２のニードル弁７
   ｄとを直列接続してなる第２の直列管路Ｂを上記
   第１の直列管路Ａに並列に接続したことを特徴と
   する薬液滴下装置。