JPH0444640A - 固定磁気ディスクおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録を可能にする耐環境性に優れ
た磁気記録媒体薄膜材料を用いた固定磁気ディスクおよ
びその製造方法に関する。

従来の技術 磁気記録媒体は、現在、オーディオ用テープやビデオレ
コーダ用テープなどのテープ形状の媒体、あるいはフロ
ッピーディスクや固定磁気ディスクなどのディスク形状
の媒体などとして広く普及している。近年の高度な情報
処理に対応すべく記録密度を高める要求が高まっている
。特にコンピュータ周辺機器に用いられる固定磁気ディ
スク装置に限れば、年々、大容量化おともに小型化が進
み、それにつれて固定磁気ディスク装置に使われる固定
磁気ディスクも高密度化、小型化が図られてきた。高密
度化の要求から、固定磁気ディスクに用いられる記録媒
体材料も変化してきた。従来から用いられてきた磁気記
録媒体は、針状形状の磁性粉体を有機バインダと共に塗
布して作られた塗布型媒体に変って、めっき法や真空ス
パッタ法などの手段によってディスク基板上に有機バイ
ンダなしに直接的に磁性膜を形成して製造される薄膜型
媒体が登場し普及してきた。具体的には、従来のアルミ
ニウムディスク基板上にガンマ酸化鉄針状磁性粉体を塗
布した塗布型固定磁気ディスクの代りにＣｏ−Ｎｉ／Ｃ
ｒ合金薄膜の固定磁気ディスクが多く使用されるように
なってきた。ここで、現行のＣｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金Ｔｉ
１Ｗ１．を用いた固定磁気ディスクの一例として真空ス
パッタ法による薄膜固定磁気ディスクの構成とその製造
方法について述べる。まず、ディスク基板として鏡面研
磨されたアルミニウム円板が準備される。この表面にめ
っき法によって約２０μｍのＮ１−Ｐ膜が形成される。

続いて表面がボリッンユされる。この際、表面にテクス
チャをつけるや次に真空スパッタ法で、約０．１μｍの
Ｃｒｙ膜を形成し、磁性層としてＣｏ−Ｎｉ薄Ｈ（約０
．０８ｐｍ以下）を形成する。゛ここで、磁性層のＣｏ
−Ｎｉ薄膜はそのままでは酸化等の耐食性等に問題があ
るので、耐食性向上の目的で同じ真空スパッタ法でＳｔ
Ｏ□あるいはアモルファスカーボン等の保護膜Ｎ（約５
００〜８００人）を形成する。さらに、その表面に潤滑
剤の被膜層（約１００〜５００人）を形成して、Ｃｏ　
−Ｎ　ｉ　／　Ｃｒ合金薄膜の固定磁気ディスクが出来
上がる。

すなわち、Ｃｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜固定磁気ディスク
の構造は、「潤滑層／保護層／　Ｃｏ　−Ｎｊ合金磁性
層／　Ｃｒ層／　Ｎ　ｉ　−Ｐめっき層／アルミニウム
基板」の六層構造になっている。さらに、磁性層として
用いられるＣｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜においても、高密
度化に対応する短波長記録において記録信号の安定化の
ために媒体の減磁界の影響を減らす目的で、組成等を変
化することによって媒体の保磁力Ｈｃはより高くなる方
向に変わってきている。

また、固定磁気ディスク−枚での記憶容量を高くするた
めに、磁性膜から磁気ヘッドまでの距離、すなわちスペ
ーシングによるヘッド出力の損失（スペーシング損失）
を軽減する目的で、磁気ヘッドの走行高さ（フライング
ハイド）をできるだけ低くすることも極めて有効である
。フライングハイドを下げるには、磁気ヘッドのクラッ
シュを防ぐ目的で基板に優れた平滑性が要求される。従
来のディスク基板には、はとんどアルミニウム基板が使
われていた。しかし、アルミニウム基板は表面の平滑性
を得るための加工精度に限界があり、平滑性を高めるこ
とが困難とされていた。材料的な面から、より表面の加
工平滑性を得やすいガラス基板が有効であると考えられ
つつある。

一方、磁気記録方式の原理面でも高密度化にむけて研究
されてきている。従来からの方式である長手磁気記録方
式（面内磁気記録方式）では、高密度記録のため記録波
長を短くしていくと記録原理的にＫｌ界の影響で記録が
困難になってくる。

この欠点を改善した高密度記録方式として垂直磁気記録
方式が生まれてきた。このような背景から今日、最も高
密度記録に対応できる磁気記録媒体として薄膜型垂直磁
気記録媒体が注目され出した。

この種の媒体として、磁気ヘッドが浮上走行する固定磁
気ディスク対応ではなく、磁気へ、ドと媒体が接触状態
で記録する方式が、現在のところ。

ｃｏ−Ｃｒ合金薄膜の垂直磁気記録媒体で盛んに研究さ
れている。

上記のように、高密度記録対応の固定磁気ディスクとし
て、アルミニウム基板のＣｏ−Ｎｉ／ｃｒ合金薄膜固定
磁気ディスクが製造され、普及してきている。そして、
固定磁気ディスクはさらに高密度記録を可能にするため
に、ヘッド出力のスペーシング損失を減らす目的で磁気
ヘッドのフライングハイドは、ますます小さくなってき
ている。最近では、０．０５〜０．１μｍ（５００〜１
０００人）程度のフライングハイド量でのヘッド走行も
必要とされている。

発明が解決しよ：ｌとする課題 しかしながら、」−記のディスクの磁性層はＣＯＮ＋、
’Ｑｒ台金薄膜であるので、酸化などによる変質の問題
があり、耐食性を高めるＩＪ的ご１、必３′保護膜層が
必要であった。ごのよ・うに保護膜層が設Ｌ：ｌら才）
ると、フライ〉・グハイトが小さくなってきても、磁気
的には磁気記録媒体（磁性層）と磁気ヘッドの間隔は、
保護層の■７み分（約５００〜８００人）だけ広いこと
になり、その分、スペーシング損失が増えて、高密度化
−・の対応を阻んでいた。また１−述したように、Ｃｏ
−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜固定磁気プ゛イスクは保護膜層が
必要であることも原因して多層構造であるため、製造ユ
程も複雑化し、′ｃおり、歩留まり向上などの血がら、
簡単な１程での固定磁気ディスクの製造が望まれていた
。

一力、さらに高い記録密度に対応できる材料として注目
されている垂直磁気記録ツノ式のＣ○Ｃｒ含Ｃｒ気記録
媒体材料を用いた固定磁気ディスクも、今後イｊ望と考
えられる。しかしながら、１−記のＣｏ−Ｃｒ合金薄膜
媒体は１．磁気ヘッドの摺動りこ対して傷がつきや薯い
とい・う欠点があった。

また、Ｃ，ｏ−Ｃｒ合金薄膜はＣｏ　　Ｎｉ／Ｃｒ合金
薄膜と同様、金属系薄膜であるので酸化などに対する耐
食性にも問題があり、（、’：　ｏ−（−、、、ｒ合金
薄膜媒体には、バスウェア耐久性や耐食性の向上など信
頼性の確保とい・う大きな課題があった。

この課題の解決のため種々の工夫がなされた。

一つには、Ｃｏ−Ｃｒ薄膜表面Ｃごア化ルファスカーボ
ンの保ｒｋ：ＪＷを設ける方法が考え出された（佐野邦
彦他、電子情報通信学会側Ｍ７０周年記念総合全国Ｊ会
講演予講集、昭和６２年ｐｐｌへ・２４８）。またＣ　
ｏ　−Ｃｒ薄膜表面にコバルト酸化物の保護層を設ける
方法も丸えられている。

このように、Ｃｏ−Ｃｒ合金薄膜媒体表面に被膜をつく
ることでバスウェア耐久性や耐食性の信頼性向上を行な
う努力がなされている。し７かしながら、前述のＣｏ−
Ｎｉ／Ｃｒ合金ｙｉ膜奸体の場合と同様に■３気記録的
には　磁気記録媒体と磁気ヘッドの間Ｃご、保護膜層が
入るため、フライングハ１”ト・が小さくなっ−でも磁
気−・・、ノドき媒体の実際の間隔が広がるため、必ず
しも、高密度記録対応に対しごＪマい方法とは５い難い
。また、保護膜の形成が、媒体の製造１程を増やし、複
雑化し′こＵまうという課題もあ、、た。

本発明はこのような従坐の課題を解決Ａるもので、保護
膜層のない固定磁気ディスクおよびその製造り法の提供
を目的とする。

課題を解決するだめの一丁段 」−記ト」的を達成するために本発明は、従来の保護膜
層が必要である合金糸（金属系）磁性薄膜媒体材１から
なるディスクではなく、高密度磁気記録対応力悄ｉ１能
になる垂直磁気記録成分を持ち、打状構造をし５、スピ
ネル型結晶構造の酸化物のｈからなり、鉄とコバルトを
化学組成に含む酸化物薄膜磁気記録媒体材＄１を用い、
その媒体薄膜がガラス基板−１−に形成され、かつその
表面に潤滑層を形成した膜構造の固定磁気ディスクとし
、その固定磁気テ′イスクは、ガラス材料を加熱し５ブ
レス成型し“で行なわれるガラスディスク基板作製Ｊ程
、ブラズー７励起Ｍ　Ｏ−ＣＶ　Ｄ法による酸化物磁気
記録材料のｙｉ膜形成王程および潤滑剤層−７ｉりによ
る潤滑膜層形成■７程を通って製造される。

作用 本発明者らは、これまで鉄やコバルトなどの金属のアセ
デルアセトナ−Ｆなどのβ〜ジケトン系錯体を代表とす
るＭＯ原料（有機金属原料）を用いて、ブフズマ励起Ｍ
Ｏ−ＣＶ　Ｄ法を用いて、−ト地基板に対して微細な柱
状粒子が密に成長した形状のスピネル型酸化物磁性体の
みからなる垂直磁化Ｔｉ１ＶＩＩＪ、が得られることを
見い出した（藤ガ映志他日本応用磁気学会ｕ゛、第１２
巻、３３９ページ（１９８８年）および特開昭６３−１
８１３０５号公報）。

こうして得られた腰材料は、一般にフェライトと呼ばれ
る磁性セラミック材料と同じスピネル型結晶構造をもつ
酸化物材料である。フェライトは酸化物セラミックスで
あるため、耐酸化性に優れていることはもちろんのこと
、耐環境性にも優れた材料であり、また硬度も高い材料
であるため、本発明に用いるスピネル型酸化物の磁気記
録媒体薄膜も耐酸化性、耐環境性および耐摩耗性に優れ
た特性をもった磁気記録媒体薄膜になっている。

したがって、固定磁気ディスクにした場合に膜構成の点
で従来の合金系磁気記録媒体薄膜材料が必要としていた
磁性薄膜の保護の目的の保護膜層を必要としないため、
高密度記録対応のためにフライングハイドを小さくする
ことで、直接的かつ有効に走行磁気ヘッドを磁気記録媒
体薄膜との間隔（スペーシング）を小さくすることがで
きるので、スペーシングによるヘッド出力の損失（スペ
ーシング損失）が大幅に軽減されることになり、より大
容量の固定磁気ディスクにできることになる。

また固定磁気ディスクの膜構造も簡単になる。

また本発明に用いる磁気記録媒体薄膜は、垂直磁化成分
をもっているので、高密度記録のための短波長記録に対
しても減磁界の影響を軽減できることになる。

またプラズマ励起ＭＯ−ＣＶＤ法という手段を用いると
、下地基板の種類に関係なく、上記の酸化物磁性薄膜を
形成できるので、ガラス製ディスク基板上にも直接上記
の酸化物薄膜の形成が容易に行なえる。したがって前述
したように複雑な膜構造（六層構造）の従来の合金磁性
材料の固定磁気ディスクに比べ、格段に単純な膜構造の
「潤滑層／酸化物磁性薄膜層／ガラス基板」の三層構造
の磁気ディスクとすることになる。

また本発明者らは、以前ガラス材料塊状物を一対の押し
型を用いて、加熱しながらプレス成型することによって
ディスク形状のガラス基板を作製する方法を見い出した
（例えば、特開昭６２−１００４２９号公報）１本発明
の固定磁気ディスクに用いるガラスディスク基板を、ガ
ラス材料塊状物を加熱し、一対の押し型を用いて、加熱
しながらプレス成型する方法で作製し、そのまま作製さ
れたディスク基板上にプラズマ励起ＭＯ−ＣＶＤ法で上
記の磁性薄膜を形成し、さらにその表面に潤滑剤を塗布
して潤滑層を形成するプロセスを用いることによって、
従来のＣｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金磁気ディスクを代表とする
合金磁性材料の固定磁気ディスクの製造方法に比べ、格
段に省工程の製造方法となる。

実施例 以下、本発明について実施例を用いて詳しく説明する。

まず、最初にプレス成型法によって、次のようにして磁
気ディスク用のガラスディスク基板を作製した。

！径９８ｍで高さ３０ｍｍのタングステンカーバイド（
ＷＣ）［組成；ＷＣ／Ｃｏ／Ｃｒ８ｃ２＝９１／８／１
（ｗｔ％）〕の稠密な焼結体の円柱を準備し、一方の底
面を鏡面研磨した後、高周波スパッタ装置を用いて厚み
３μｍの白金−イリジウム合金膜を形成した０合金膜形
成後、スパッタ膜表面を鏡面加工した。このようにして
作製した鏡面加工面をもつ白金−イリジウム合金コーテ
ィングタングステンカーバイド焼結体ブロックを２個準
備した。鏡面加工面をもつ白金−イリジウム合金コーテ
ィングタングステンカーバイド焼結体ブロック２個から
なる一対の押し型を作製した。

この一対の押し型１．２を、第１図に示すプレスマシン
にセットして、あらかしめ、６００°Ｃに加熱した組成
がＳｉｎ２６８ｗｔ％、に２０８ｗｔ％Ｂ２０．］　１
１ｗｔ％、Ｂａ０２ｗｔ％。

Ｎａ２０１０ｗｔ％の原料光学ガラス円板（直径９５．
０園、厚み１．２１ａｍの円板形状で、中心部分に直径
２５．０＋ｍ＋の円板孔をもつ）３を７００°Ｃに加熱
した一対の型の間に配置し、圧力２ｋｇ−ｃｍ−”で上
下に位置した一対の型のすきまが１，２０−になるよう
にして２分間保持したのち、円板形状ガラス材を型には
さんだまま４５０°Ｃまで１０分間で冷却して、成形後
のガラス円板を取り出した。

第１図において、４，５は押し型１．２の加熱用ヒータ
、６は原料ガラス円板供給治具、７は上型用ピストンシ
リンダー、８は下型用ピストンシリンダー、９は原料ガ
ラス円板予備加熱トンネル炉、１０は成形ディスク取り
出し口である。このようにして、中心部に回転軸取り付
は孔のあるドーナツ型状のガラスディスク基板を作製し
た。

作製したガラスディスク基板の片面に、次のように５２
でゴンズマ励起ＭＯ−ＣｖＩ〕法で酸化物の磁気記録媒
体ｆ１３竹薄瞠を２５００人厚みに形成した。

第２図は、膜形成乙こ用いたプラズマ励起ＭＯＣＶＤ装
置の構成図を小寸。このプラズマ励起Ｍ　Ｏ−ＣＶ　Ｄ
装置は、真空チャンバー１７内に平行に配置したアース
側電極１４とＲＦ側電極１５の一つの電極間に高周波に
よってプラズマを発生させ、その中で有機金属の原料ガ
スを分解して基板Ｊ−に化学参看（ＣＶｌ、））するこ
とでＦｊｌ膜を形成する装置である。作製しまたガウス
ディスク基板１１は、アース側電極１４に片面を密着し
て保持し、基板加熱し一タ１２によ−、゛ζあらかしめ
４００°Ｃの温度に加熱保持しておいた。　”力、原ｔ
１気化容器２０　２０’にそれぞれ鉄（１’ｔ’）アセ
チルアセｌｌ−一〜＝１・２４とコバル）、（Ｉ［ｌ＞
アセチルアセトナート２５を入れ、オイルハス１９．１
９’を用いてぞれぞれ１３５°Ｃを１２５°Ｃに加熱し
、た。

加熱すること（、ご、■、って気化したそれぞれの７セ
ヂルアセトナ一ト鉗体のガス、キャリアガス（窒素）１
８．１８’　　（それぞれｌ０ｒｎｆｆｉ／ｍ１ｎ）４
用いて、真空ヂャ：／バー１７′内へ流ｊ２、込んだ。

一方、反応ガスとして酸素ガス２１も１５ｍ７！／＋ｎ
ｉｎ途中“で゛混ぜ−１哀空チ士ンハー川７内へ吹き出
り。

ノズル２３から流し、入れた。この際、真空（ヤンハー
１７内は排気Ｌ］２２から真空摺気づ゛るＪとで０．０
５ｒｎＴｏｒｒの真空度に保持した。次に１、マグネソ
）　Ｉ　Ｇでアース側電極１４とＲＦ側電掻１５間に磁
場を形成し、ＲＦ側電極１５に１３．５６ＭＩセで４０
０Ｗの高周波各ε（分間印加４゛るごとによっ、て、ア
ース側電極１４との間でプラズマを発生させ、ガラスデ
ィスクＭｉｌ＋の表面上に酸化物の磁性薄膜を形成しま
た。成膜中は、ガラスディスク基板１１は基板回転モー
ター１３を用いて１２０ｒｐｍの速度で回転した。

磁性ｆ＃膜を形成し５たガラスディスク基板は、真空チ
ャンバ・−内から取り出し２、裏のガラス面にも同様の
方法でプラズマ励起Ｍ　Ｏ−ＣＶ　Ｄによって同じ磁性
薄膜を形成して、両面に磁性薄膜面をもつディスクを作
製した。

次に　このディスクをソノ累系有機物の潤滑剤の入った
液槽ζこ沈めで潤ａ剤を塗布゛することによ−・）て酸
化物磁気記Ｕ媒体薄膜材料を用いたβ）電磁気ディスク
を作製した。

作製した本発明の固定磁気ディスクは、ギセンブ長（、
Ｇ　Ｌ　）が（１１，２５μｍ１１、トラフ・り輻（Ｔ
％Ｖ）が１８７７ｍ、＋ヤンプデブス（ＧＤ）が３．Ｏ
ｌｔｍでコイル巻数３０ターンのＭＩＧヘット′を用い
こ、５０ｍＡｃ７）・・ノド電流値を選λ、で電磁変換
特性の評価を行な、）だ。固定磁気ディスクは３６００
ｒｐｍの速度で回転さセ、ディスクの中心から２５．０
ｍｍの円１’６Ｔ　）　五−ノクで評価を行なった。こ
のとき、固定磁気ディスクと磁気へンｔ゛の相対速度は
９．４ｍ／秒であり１．磁気へノドのフライングハイ１
は０．１０μｍであった。この評価によって得られた本
発明の固定磁気ディスクの再生出力と記録周波数の関係
イー第３図に示す。なお、この固定磁気ディスクの５０
（３ｋｌ（、−での記録信号の再生波形をオソｔ７スコ
ープで観察すると、垂直磁気記ｄ成分を含むことの特徴
であるダイパルス波形を小していた。

本発明の固定磁気ディスクは、電磁変換特性測定後、ア
セトンとエチルエーテルを用いて潤滑膜層を取り除き、
磁気測定とＸ線回折による結晶構造の解析をｊ）ない、
さらに回ディスクを破壊しで、高分解能の、、８査型電
７−顕微鏡を用いて、磁性薄膜の表面および破断面を観
察した。また化学分析乙ごよって、磁性ａ４膜の化学組
成を解析し、た。磁気測定の結果から、本発明の固定磁
気ディスクは垂直磁化成分の保持力Ｈｃ　　が１２００
０ｅであり、面内磁化成分の保持力Ｈｃ　　が８０００
ｅであった。また飽和磁化ＩＭｓが２５０ｅｍｕ／ｅｃ
であった。Ｘ線回折によって、磁性薄膜はスピネル型結
晶構造の鉄系の酸化物のみからなることを示していた。

また化学分析の結Ｖから、鉄とコハル１のモル比が、Ｆ
ｅ：Ｃｏ−・９３ニアであることがわかった。すなわち
、破性Ｆｉｌ膜はスピネル型結晶構造のＦ　ｅｚ、ｑｔ
ｌｃ　Ｏｏ、ｏｚＯａなる組成の酸化物のみかｌ）なる
ことがわが１．た。また、走査型電７−顕＠鏡の観察か
ら、磁性Ｔｉｌ胛は、直径が３００・〜６００人の柱状
粒子がガラスディスク基板に対して立って密に集まった
柱状構造膜になっていることがわかった。

比較のために、保持力Ｈｃが１２０００ｅで、飽和磁化
Ｍｓが８００ｅｍｕ／ｃｃの磁性膜厚が８００人（０，
０８μｍ）、その上に保護層としてカーボン膜を６００
人形成し、本発明と同様の潤滑剤被膜層を設けた従来の
Ｃｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜の固定磁気ディスク（アルミ
ニウム基板で面内に磁化配向している）を準備し、本発
明の固定磁気ディスクと同じ条件で同じ電磁変換特性の
評価を行なった。この評価によって得られた上記のＣｏ
　−Ｎ　ｉ　／　Ｃｒ合金′ｒｌｌ膜の固定磁気ディス
クの再生出力と記録周波数の関係を第３図に示した。

また、このディスクの５００　ｋＨｚでの記録信号の再
生波形を観察した。本発明のディスクと異なり、グイパ
ルス波形は全く見られず、このＣｏ−Ｎｉ／　Ｃｒ合金
薄膜の固定磁気ディスクは面内磁気記録成分のろからな
るディスクであることが確認できた。

第３図から、本発明の固定磁気ディスクは、磁性薄膜の
飽和磁化の値がＣｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜に比べて小さ
い値であるにもかかわらず、再生出力はほぼ同等の値を
示しており、かつより短波長域の高記録密度側ではＣｏ
−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜のディスクに比べて再生出力が高
い値を示すことがわかる。すなわち、本発明の固定磁気
ディスクは高密度記録化対応が可能であることがわかっ
た。なお、上記実施例ではディスクに用いる磁性薄膜と
して、鉄とコバルトのみからなるスピネル型結晶構造の
磁性酸化物の柱状構造薄膜について示したが、当然、同
じ形態で同様の磁気特性を示す薄膜で各種添加イオンを
含む鉄−コハルト系のスピネル型酸化物薄膜であれば、
固定磁気ディスクとして同様の特性が期待できる。

発明の効果 以上に述べてきたように、本発明の膜構造の固定磁気デ
ィスクは、磁気ヘッドの浮上走行高さ（フライングハイ
ド）が低くなった場合、従来の合金系固定磁気ディスク
に比べ、短波長域でも、裔いヘッド出力が得られること
になり、固定磁気ディスク装置の高密度記録化、大容量
化に対応できることになる。また膜構造が三層と、従来
の六層構造に比べて簡単であり、本発明の製造方法によ
れば、製造工程も大幅に短縮できることになる。

すなわち、省工程で製造できることから、従来に比べて
高密度記録に対応できる固定磁気ディスクを低コストで
供給できることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例で用いたガラスのプレスマシン
の概略構成図、第２図は磁性酸化物Ｅｌ膜の製造に用い
たプラズマ励起ＭＯ−ＣＶＤ装置の概略断面正面図、第
３図は本発明と比較用の固定磁気ディスクの磁気ヘッド
による再生出力特性の比較図である。 １．２・・・・・・押し型、３・・・・・・原料光学ガ
ラス円板、４．５・・・・・・押し型の加熱用ヒータ、
７・・自・・上型用ピストンシリンダー、８・・・・・
・下型用ピストンシリンダー、１１・・・・・・ガラス
ディスク基板、１２・・自・・基板加熱ヒータ、１４・
・・・・・アース側電極、１５・・・・・・ＲＦ（Ｉｊ
電極、 ・・・酸素ガス、２ 鉄アセチルアセ チルアセトナ−

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラスディスク基板の上に柱状形状の粒子が前記
   ガラスディスク基板表面に対して垂直に立ち、密に集合
   して膜を形成した柱状構造膜を成しＸ線回折的にスピネ
   ル型結晶構造の鉄とコバルトを含む酸化物からなる磁性
   酸化物薄膜を形成し、その磁性酸化物薄膜の上に潤滑剤
   を塗布して潤滑薄膜層を形成した固定磁気ディスク。
2. （２）磁性酸化物薄膜が、有機金属化合物の蒸気と酸素
   の混合ガスをプラズマ中で化学蒸着して成膜するプラズ
   マ励起ＭＯ−ＣＶＤ法によって形成された薄膜である請
   求項（１）記載の固定磁気ディスク。
3. （３）ガラスディスク基板が、ガラス材料を加熱してプ
   レス成型によって製造されたディスク形状のガラス基板
   である請求項（１）記載の固定磁気ディスク。
4. （４）ガラスプレス成型方法によるガラスディスク基板
   の作製工程に続き、プラズマ励起ＭＯ−ＣＶＤ法による
   磁性酸化物薄膜形成の工程、続いて潤滑薄膜層形成工程
   を経て固定磁気ディスクを製造することを特徴とする固
   定磁気ディスクの製造方法。