JPH0444922B2 - - Google Patents
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- JPH0444922B2 JPH0444922B2 JP59072380A JP7238084A JPH0444922B2 JP H0444922 B2 JPH0444922 B2 JP H0444922B2 JP 59072380 A JP59072380 A JP 59072380A JP 7238084 A JP7238084 A JP 7238084A JP H0444922 B2 JPH0444922 B2 JP H0444922B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- beam splitter
- polarizing beam
- target
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/70—Using polarization in the interferometer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、光の干渉を利用して変位量、変位速
度、振動数等の機械量を知るようにした光学式機
械量測定装置に関するものである。
度、振動数等の機械量を知るようにした光学式機
械量測定装置に関するものである。
（従来技術）
従来より光信号を利用して２次元の機械量を知
るものはあるが、３次元の機械量を高精度かつ高
分解能で測定するものはなかつた。
るものはあるが、３次元の機械量を高精度かつ高
分解能で測定するものはなかつた。
（本発明の目的）
本発明の目的は、被測定物体とは非接触で３次
元の各種機械量を高精度で、かつ高分解能で測定
することのできる構造の簡単な、この種の装置を
実現しようとするものである。
元の各種機械量を高精度で、かつ高分解能で測定
することのできる構造の簡単な、この種の装置を
実現しようとするものである。
また、本発明の他の目的は、被測定機械量が与
えられるターゲツトの種類に応じて、光学系を調
整することが容易な機械量測定装置を提供するこ
とにある。
えられるターゲツトの種類に応じて、光学系を調
整することが容易な機械量測定装置を提供するこ
とにある。
（本発明の概要）
本発明に係る装置は、光源からの可干渉な光を
被測定機械量が与えられている可動拡散面に照射
し、そこから得られるスペツクルパターンを径の
大きい第１のピンホールと径の小さな第２のピン
ホールを通し、第１のピンホールを通つた光を利
用して２次元の機械量を測定するとともに、第２
のピンホールを通つた光に光源からの光を参照光
として照射し、その結果得られる干渉縞のパター
ンを利用して可動拡散板の前記２次元の軸と直交
する軸方向の変位等の機械量を測定するようにし
た点に構成上の特徴がある。
被測定機械量が与えられている可動拡散面に照射
し、そこから得られるスペツクルパターンを径の
大きい第１のピンホールと径の小さな第２のピン
ホールを通し、第１のピンホールを通つた光を利
用して２次元の機械量を測定するとともに、第２
のピンホールを通つた光に光源からの光を参照光
として照射し、その結果得られる干渉縞のパター
ンを利用して可動拡散板の前記２次元の軸と直交
する軸方向の変位等の機械量を測定するようにし
た点に構成上の特徴がある。
（実施例）
第１は本発明に係る装置の一例を示す構成説明
図である。図において、１は光源で、例えば
HeNeレーザ光源が使用され、ここから可干渉な
光が出射される。１１，１２はレンズで、光源１
から出射した光を拡げて平行光とするビームエク
スパンダBXを構成している。２１は第１の偏光
ビームスプリツタ（以下PBSと略す）、２２は第
２のPBS，２３は第３のPBS，２４は第４の
PBSである。各PBSは、入射する光ビームを２
方向に分割する役目をなし、入射光線と入射面に
たてた法線が作る入射面に垂直方向に振動する光
成分（Ｓ波）と、平行に振動する光成分（Ｐ波）
に分かれる。第１のPBSにおいて、Ｐ波はこの
PBSを通過し、ミラー３１で反射し、λ／２板
４１を通つてミラー３２で反射し、第４のPBS
２４に入つてＺ系の参照光となる。また、第１の
PBS２１において、Ｓ波はこのPBSで反射され、
λ／４板４２を通つて、ターゲツト５の拡散面５
０に照射される。このターゲツト５には、図示す
るように測定すべき３次元の機械量Ｘ，Ｙ，Ｚが
与えられている。
図である。図において、１は光源で、例えば
HeNeレーザ光源が使用され、ここから可干渉な
光が出射される。１１，１２はレンズで、光源１
から出射した光を拡げて平行光とするビームエク
スパンダBXを構成している。２１は第１の偏光
ビームスプリツタ（以下PBSと略す）、２２は第
２のPBS，２３は第３のPBS，２４は第４の
PBSである。各PBSは、入射する光ビームを２
方向に分割する役目をなし、入射光線と入射面に
たてた法線が作る入射面に垂直方向に振動する光
成分（Ｓ波）と、平行に振動する光成分（Ｐ波）
に分かれる。第１のPBSにおいて、Ｐ波はこの
PBSを通過し、ミラー３１で反射し、λ／２板
４１を通つてミラー３２で反射し、第４のPBS
２４に入つてＺ系の参照光となる。また、第１の
PBS２１において、Ｓ波はこのPBSで反射され、
λ／４板４２を通つて、ターゲツト５の拡散面５
０に照射される。このターゲツト５には、図示す
るように測定すべき３次元の機械量Ｘ，Ｙ，Ｚが
与えられている。
ターゲツト５の拡散した光（反射光）は、λ／
４板４２を通つてPBS２１に戻り、ここを通過
後、レンズ１３（焦点f0）、第１のピンホール６
０を有した絞り６及び、この絞り６に近接して設
置した第２のピンホール４０を有するλ／２板４
３をそれぞれ通つてPBS２２に入り、ここで、
第２のピンホール４０を通つた光は、Ｚ系の光成
分（直進する光）として、第１のピンホール６０
を通つた光は、Ｘ，Ｙ系の光成分（反射する光）
としてそれぞれ分けられる。なお、絞り６に設け
られているピンホール６０の径は、λ／２板４３
に設けられているピンホール４０の径より大きく
選定されている。XY系の光成分は、ミラー３３
で反射し、レンズ１４（焦点ｆ）、λ／４板４４
を通つて、PBS２３に入り、ここでＸ系、Ｙ系
に分けられ、各々のＸ軸センサ８Ｘ、Ｙ軸センサ
８Ｙの受光面にスペツクルパターンを作り、これ
がそれぞれ検出される。
４板４２を通つてPBS２１に戻り、ここを通過
後、レンズ１３（焦点f0）、第１のピンホール６
０を有した絞り６及び、この絞り６に近接して設
置した第２のピンホール４０を有するλ／２板４
３をそれぞれ通つてPBS２２に入り、ここで、
第２のピンホール４０を通つた光は、Ｚ系の光成
分（直進する光）として、第１のピンホール６０
を通つた光は、Ｘ，Ｙ系の光成分（反射する光）
としてそれぞれ分けられる。なお、絞り６に設け
られているピンホール６０の径は、λ／２板４３
に設けられているピンホール４０の径より大きく
選定されている。XY系の光成分は、ミラー３３
で反射し、レンズ１４（焦点ｆ）、λ／４板４４
を通つて、PBS２３に入り、ここでＸ系、Ｙ系
に分けられ、各々のＸ軸センサ８Ｘ、Ｙ軸センサ
８Ｙの受光面にスペツクルパターンを作り、これ
がそれぞれ検出される。
PBS２２において分けられたＺ系の光成分は、
レンズ１５（焦点ｆ）、PBS２４及び偏光板７を
通つて、Ｚ軸センサ８Ｚ上に照射され、その受光
面にミラー３２側からくる参照光と干渉して干渉
縞が作られ、これを検出する。
レンズ１５（焦点ｆ）、PBS２４及び偏光板７を
通つて、Ｚ軸センサ８Ｚ上に照射され、その受光
面にミラー３２側からくる参照光と干渉して干渉
縞が作られ、これを検出する。
Ｘ軸センサ８Ｘ、Ｙ軸センサ８Ｙ及びＺ軸セン
サ８Ｚは、多数個の受光素子をアレイ上に配列し
て構成されるもので、CCDなどのイメージセン
サが使用可能であり、Ｘ軸センサ８ＸとＹ軸セン
サ８Ｙの各受光素子の配列方向は互いに直交する
ように配置されている。
サ８Ｚは、多数個の受光素子をアレイ上に配列し
て構成されるもので、CCDなどのイメージセン
サが使用可能であり、Ｘ軸センサ８ＸとＹ軸セン
サ８Ｙの各受光素子の配列方向は互いに直交する
ように配置されている。
第２図は第１図装置において、電気的な回路を
示す構成ブロツク図である。この図において、８
０は、例えばCCDで構成された各センサ８Ｘ，
８Ｙ，８Ｚを駆動するクロツク発振器で、例えば
周波数feのクロツク信号を各センサに印加してい
る。７１，７２，７３は各センサ８Ｘ，８Ｙ，８
Ｚからの出力周波数信号fx，fy，fzを入力し、こ
れと参照周波数信号fRとをミキシングするミキ
サ、８１，８２，８３はそれぞれ対応するミキサ
からの出力信号のなかの特定な周波数信号を通過
させるローバスフイルタ、９１，９２，９３はそ
れぞれローバスフイルタ８１，８２，８３からの
周波数信号を計数するカウンタ、９０は各カウン
タ９１，９２，９３からの計数信号fox，foy，
fozを入力する演算回路で、この演算回路として
は、例えばマイクロプロセツサが使用される。９
５は表示装置で、例えばCRTが使用され、演算
回路９０での演算結果を表示する。
示す構成ブロツク図である。この図において、８
０は、例えばCCDで構成された各センサ８Ｘ，
８Ｙ，８Ｚを駆動するクロツク発振器で、例えば
周波数feのクロツク信号を各センサに印加してい
る。７１，７２，７３は各センサ８Ｘ，８Ｙ，８
Ｚからの出力周波数信号fx，fy，fzを入力し、こ
れと参照周波数信号fRとをミキシングするミキ
サ、８１，８２，８３はそれぞれ対応するミキサ
からの出力信号のなかの特定な周波数信号を通過
させるローバスフイルタ、９１，９２，９３はそ
れぞれローバスフイルタ８１，８２，８３からの
周波数信号を計数するカウンタ、９０は各カウン
タ９１，９２，９３からの計数信号fox，foy，
fozを入力する演算回路で、この演算回路として
は、例えばマイクロプロセツサが使用される。９
５は表示装置で、例えばCRTが使用され、演算
回路９０での演算結果を表示する。
Ｘ軸センサ８Ｘ、Ｙ軸センサ８Ｙ上に作られる
スペツクルパターンは、ターゲツト５が矢印Ｘ方
向に移動したときは、Ｘ軸方向に移動し、ターゲ
ツト５が矢印ｙ方向に移動したときは、ｙ軸方向
に移動する。Ｘ軸センサ８Ｘは、この受光面に作
られるスペツクルパターンのＸ軸方向変位を把え
る。また、Ｙ軸センサ８Ｙは、この受光面に作ら
れるスペツクルパターンのＹ軸方向変位を把え
る。
スペツクルパターンは、ターゲツト５が矢印Ｘ方
向に移動したときは、Ｘ軸方向に移動し、ターゲ
ツト５が矢印ｙ方向に移動したときは、ｙ軸方向
に移動する。Ｘ軸センサ８Ｘは、この受光面に作
られるスペツクルパターンのＸ軸方向変位を把え
る。また、Ｙ軸センサ８Ｙは、この受光面に作ら
れるスペツクルパターンのＹ軸方向変位を把え
る。
ｚ軸センサ８Ｚ上に得られるパターンは、スペ
ツクルパターンにマイケルソン干渉縞が重畳した
ようなものとなる。このパターンは、ターゲツト
５が矢印ｚ方向に移動すると、一方向に移動す
る。Ｚ軸センサ８Ｚは、この受光面上に作られる
パターンの一方向変位を把える。
ツクルパターンにマイケルソン干渉縞が重畳した
ようなものとなる。このパターンは、ターゲツト
５が矢印ｚ方向に移動すると、一方向に移動す
る。Ｚ軸センサ８Ｚは、この受光面上に作られる
パターンの一方向変位を把える。
第３図は、空間周波数Ｆと、スペクトル強度Ｉ
との関係を示す線図である。この線図において、
ピンホール径を小さくすると、この特性曲線は矢
印ａ方向に、ピンホール径を大きくすると、矢印
ｂ方向に変化する状態を示している。
との関係を示す線図である。この線図において、
ピンホール径を小さくすると、この特性曲線は矢
印ａ方向に、ピンホール径を大きくすると、矢印
ｂ方向に変化する状態を示している。
本発明に係る装置においては、絞り６に設けた
第１のピンホール６０の径を大きくし、スペツク
ル中の高い空間周波数成分を通し、この成分を
PBS２２でXY系側に分離させるようにしてい
る。また、λ／２板４３に設けた第２のピンホー
ル４０の径を小さくし、スペツクル中の低い空間
周波数成分を通過（高周波成分をカツト）させ、
この成分をPBS２２を通してＺ径側で利用する
ようにしている。すなわち、第１のピンホール６
０を通過した光は、λ／２板で偏光面が90°回転
するので、PBS２２で反転し、Ｘ，Ｙ系側に向
かい、第２ピンホール４０を通過した光は、偏光
面が回転することはないので、PBS２２を通過
し、Ｚ系側に向かう。ここで、第１のピンホール
６０の径は、第２のピンホール４０の径に比べて
10倍程度大きいことが望ましい。これによつて、
光強度の低下を抑えてＳ／Ｎを良好にし、Ｚ軸セ
ンサ８Ｚの受光面につくられる干渉縞を鮮明に
し、ターゲツト５のＺ方向変位を確実に検出でき
るようにしている。
第１のピンホール６０の径を大きくし、スペツク
ル中の高い空間周波数成分を通し、この成分を
PBS２２でXY系側に分離させるようにしてい
る。また、λ／２板４３に設けた第２のピンホー
ル４０の径を小さくし、スペツクル中の低い空間
周波数成分を通過（高周波成分をカツト）させ、
この成分をPBS２２を通してＺ径側で利用する
ようにしている。すなわち、第１のピンホール６
０を通過した光は、λ／２板で偏光面が90°回転
するので、PBS２２で反転し、Ｘ，Ｙ系側に向
かい、第２ピンホール４０を通過した光は、偏光
面が回転することはないので、PBS２２を通過
し、Ｚ系側に向かう。ここで、第１のピンホール
６０の径は、第２のピンホール４０の径に比べて
10倍程度大きいことが望ましい。これによつて、
光強度の低下を抑えてＳ／Ｎを良好にし、Ｚ軸セ
ンサ８Ｚの受光面につくられる干渉縞を鮮明に
し、ターゲツト５のＺ方向変位を確実に検出でき
るようにしている。
第２図において、各センサ８Ｘ，８Ｙ，８Ｚ
は、一端にクロツク発振器８０からの周波数fcの
クロツク信号が印加されて駆動されており、各セ
ンサ８Ｘ，８Ｙ，８Ｚから、fc＝fc／Ｎ（ただし、
Ｎは各センサのビツト数）を基本周波数とする周
波数信号fx，fy，fzが出力される。
は、一端にクロツク発振器８０からの周波数fcの
クロツク信号が印加されて駆動されており、各セ
ンサ８Ｘ，８Ｙ，８Ｚから、fc＝fc／Ｎ（ただし、
Ｎは各センサのビツト数）を基本周波数とする周
波数信号fx，fy，fzが出力される。
第４図は、各センサ８Ｘ，８Ｙ，８Ｚから得ら
れる周波数信号fx，fy，fzの周波数スペクトルを
示す説明図である。この信号の周波数スペクトル
は、基本周波数f0の整数倍の点でピークがあり、
かつそのピークは、各センサの全幅の１／（整
数）と、干渉縞の間隔が等しいところが一番大き
くなり、ターゲツト５の移動とともに、移動す
る。例えば、ターゲツト５がｘ方向にＸだけ移動
すれば、センサ８Ｘからの周波数信号fxの例えば
ｍ次高調波に相当するピークPmは、その移動速
度dX／dtに比例したΔfnxだけ周波数シフトする。
同じように、ターゲツト５がｙ方向にＹだけ移動
すれば、センサ８Ｙからの周波数信号fyのｍ次高
調波に相当するピークpmは、その移動速度dY／
dtに比例したfmyだけ周波数シフトする。センサ
８Ｚからの周波数信号についても同様である。つ
まり、Δfnx，Δfny，Δfnzの位相を測定すればｘ，
ｙ，ｚの変位量を測定できる。
れる周波数信号fx，fy，fzの周波数スペクトルを
示す説明図である。この信号の周波数スペクトル
は、基本周波数f0の整数倍の点でピークがあり、
かつそのピークは、各センサの全幅の１／（整
数）と、干渉縞の間隔が等しいところが一番大き
くなり、ターゲツト５の移動とともに、移動す
る。例えば、ターゲツト５がｘ方向にＸだけ移動
すれば、センサ８Ｘからの周波数信号fxの例えば
ｍ次高調波に相当するピークPmは、その移動速
度dX／dtに比例したΔfnxだけ周波数シフトする。
同じように、ターゲツト５がｙ方向にＹだけ移動
すれば、センサ８Ｙからの周波数信号fyのｍ次高
調波に相当するピークpmは、その移動速度dY／
dtに比例したfmyだけ周波数シフトする。センサ
８Ｚからの周波数信号についても同様である。つ
まり、Δfnx，Δfny，Δfnzの位相を測定すればｘ，
ｙ，ｚの変位量を測定できる。
例えば第２図の回路において、ミキサ７１，７
２，７３は、各センサから出力されるｍ次高調波
Pmと、その近傍周波数fRとをミキシング、すな
わちヘテロダイン検波し、各出力をローパスフイ
ルタ８１，８２，８３を介することによつて、そ
の出力端に次式に示すような周波数信号fox，
roy，fozをそれぞれ得る。
２，７３は、各センサから出力されるｍ次高調波
Pmと、その近傍周波数fRとをミキシング、すな
わちヘテロダイン検波し、各出力をローパスフイ
ルタ８１，８２，８３を介することによつて、そ
の出力端に次式に示すような周波数信号fox，
roy，fozをそれぞれ得る。
fox＝mfo−fR±Δfnx
foy＝mfo−fR±Δfny
foz＝mfo−fR±Δfnz
各カウンタ９１，９２，９３は、これらの周波
数信号をそれぞれ計数する。演算回路９０は、各
カウンタ９１，９２，９３からの信号fox，foy，
fozを入力し、所定の演算、例えば積分を含む演
算をすることによつて、ターゲツト５の各矢印
ｘ，ｙ，ｚ方向の変位量Ｘ，Ｙ，Ｚを知ることが
できる。またΔfnx，Δfny，Δfnzは、ターゲツト５
の移動方向に応じて、正、負に極性が変わること
から、移動方向の判別も同時にできる。
数信号をそれぞれ計数する。演算回路９０は、各
カウンタ９１，９２，９３からの信号fox，foy，
fozを入力し、所定の演算、例えば積分を含む演
算をすることによつて、ターゲツト５の各矢印
ｘ，ｙ，ｚ方向の変位量Ｘ，Ｙ，Ｚを知ることが
できる。またΔfnx，Δfny，Δfnzは、ターゲツト５
の移動方向に応じて、正、負に極性が変わること
から、移動方向の判別も同時にできる。
このように構成される装置は、ひとつの光源か
らのビームによつて３次元の変位が同時に測定で
きるもので、全体構成を簡単にできる。また、各
センサから得られる信号は周波数信号であること
から、演算処理が容易であり、高分解能で、各種
機械量を測定することができる。
らのビームによつて３次元の変位が同時に測定で
きるもので、全体構成を簡単にできる。また、各
センサから得られる信号は周波数信号であること
から、演算処理が容易であり、高分解能で、各種
機械量を測定することができる。
なお、上記の実施例において、光源１の光パワ
ーに余裕のある場合は、PBS２２，２３，２４
等はハーフミラーとしてもよい。また、ターゲツ
ト５の拡散面５０には、再帰性反射物やその他必
要な模様等を設けるようにし、検出感度を増大さ
せるようにしてよい。また、ここでは、ターゲツ
トのｘ，ｙ，ｚ方向の変位量や移動速度を測定す
る場合を説明したが、ターゲツト５の振動数や回
転数、あるいは形状変化等、各種の３次元の機械
量を測定することができる。
ーに余裕のある場合は、PBS２２，２３，２４
等はハーフミラーとしてもよい。また、ターゲツ
ト５の拡散面５０には、再帰性反射物やその他必
要な模様等を設けるようにし、検出感度を増大さ
せるようにしてよい。また、ここでは、ターゲツ
トのｘ，ｙ，ｚ方向の変位量や移動速度を測定す
る場合を説明したが、ターゲツト５の振動数や回
転数、あるいは形状変化等、各種の３次元の機械
量を測定することができる。
以上説明したように、本発明に係る装置によれ
ば、被測定機械量が与えられるターゲツトとは非
接触で、このターゲツトの３次元の変位量など各
種機械量を高分解能で測定することができる。
ば、被測定機械量が与えられるターゲツトとは非
接触で、このターゲツトの３次元の変位量など各
種機械量を高分解能で測定することができる。
また、本発明においては、第１のピンホールを
有する絞り６と、第２のピンホール４０を有する
λ／２板４３とを、第１の偏光ビームスプリツタ
２１と、第２の偏光ビームスプリツタ２２との間
に配置する構成であるために、絞り６とλ／２板
４３とを、光軸に対して同時に調整しながら容易
に配置することが可能であり、また、これらをタ
ーゲツトの種類に応じて取り替えるような場合
も、同じ設置位置で行えるという効果がある。
有する絞り６と、第２のピンホール４０を有する
λ／２板４３とを、第１の偏光ビームスプリツタ
２１と、第２の偏光ビームスプリツタ２２との間
に配置する構成であるために、絞り６とλ／２板
４３とを、光軸に対して同時に調整しながら容易
に配置することが可能であり、また、これらをタ
ーゲツトの種類に応じて取り替えるような場合
も、同じ設置位置で行えるという効果がある。
第１図は本発明に係る装置の一例を示す構成説
明図、第２図は電気的な回路を示す構成ブロツク
図、第３図は空間周波数とスペツクトル強度との
関係を示す線図、第４図は各センサから得られる
信号の周波数スペツクトルを示す説明図、であ
る。 １……光源、２１，２２，２３，２４……偏光
ビームスプリツタ、３１，３２……ミラー、５…
…ターゲツト、６，４３……絞り、６０，４０…
…ピンホール、８Ｘ，８Ｙ，８Ｚ……Ｘ軸、Ｙ
軸、Ｚ軸センサ。
明図、第２図は電気的な回路を示す構成ブロツク
図、第３図は空間周波数とスペツクトル強度との
関係を示す線図、第４図は各センサから得られる
信号の周波数スペツクトルを示す説明図、であ
る。 １……光源、２１，２２，２３，２４……偏光
ビームスプリツタ、３１，３２……ミラー、５…
…ターゲツト、６，４３……絞り、６０，４０…
…ピンホール、８Ｘ，８Ｙ，８Ｚ……Ｘ軸、Ｙ
軸、Ｚ軸センサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 可干渉な光を出射する光源１と、 ｘ，ｙ，ｚ軸方向の被測定機械量が与えられる
ターゲツト５と、 前記光源からの光を２方向に分割する第１の偏
光ビームスプリツタ２１と、 この第１の偏光ビームスプリツタで分割された
一方の光をλ／４板４２を介して前記ターゲツト
に照射すると共に、ターゲツトからの反射、散乱
光を前記λ／４板４２を介して前記第１の偏光ビ
ームスプリツタ２１に導く光学系と、 この第１の偏光ビームスプリツタ２１を通過し
てくる光を通す第１のピンホール６０を有する絞
り６と、 この絞り６に近接して設置され第１の偏光ビー
ムスプリツタ２１を通過してくる光を通す、前記
第１のピンホール６０の径より小さい径の第２の
ピンホール４０を有するλ／２板４３と、 第１，第２のピンホールを通過してきた光を２
方向に分割する第２の偏光ビームスプリツタ２２
と、 第２の偏光ビームスプリツタ２２により分割さ
れた一方の光を受光しその受光面に得られるスペ
ツクルパターンのｘ軸方向およびｙ軸方向の移動
を検出するｘ軸受光手段８ｘおよびｙ軸受光手段
８ｙと、 前記第２の偏光ビームスプリツタ２２により分
割された他方の光の他の方向から導かれた光とを
１方向の光にするための光方向一致手段２４と、 前記第１の偏光ビームスプリツタ２１で分割さ
れた他方の光をλ／２板４１を経て前記光方向一
致手段２４に他の方向からの光として導く光学系
３１，３２と、 前記光方向一致手段２４で１方向となつた２種
の光を干渉させるための偏光手段７と、 この偏光手段７を通過した光を受光した当該受
光面に得られた干渉縞の移動を検出するｚ軸受光
手段８ｚと を備えた光学式機械量測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59072380A JPS60216207A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 光学式機械量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59072380A JPS60216207A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 光学式機械量測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60216207A JPS60216207A (ja) | 1985-10-29 |
| JPH0444922B2 true JPH0444922B2 (ja) | 1992-07-23 |
Family
ID=13487626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59072380A Granted JPS60216207A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 光学式機械量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60216207A (ja) |
-
1984
- 1984-04-11 JP JP59072380A patent/JPS60216207A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60216207A (ja) | 1985-10-29 |
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