JPS60216207A - 光学式機械量測定装置 - Google Patents
光学式機械量測定装置Info
- Publication number
- JPS60216207A JPS60216207A JP59072380A JP7238084A JPS60216207A JP S60216207 A JPS60216207 A JP S60216207A JP 59072380 A JP59072380 A JP 59072380A JP 7238084 A JP7238084 A JP 7238084A JP S60216207 A JPS60216207 A JP S60216207A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pinhole
- passing
- dimensional
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/70—Using polarization in the interferometer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、光の干渉を利用して変位量、変位速度、振動
故郷の機械量を知るようにした光学式機械量測定装置に
関するものである。
故郷の機械量を知るようにした光学式機械量測定装置に
関するものである。
（従来技術）
定するものはなかった。
（本発明の目的）
本発明の目的は、被測定物体とは非接触で３次元の各種
機械量を高精度で、かつ高分解能で測定することのでき
る構造の簡単な、この種の装置を実現しようとするもの
である。
機械量を高精度で、かつ高分解能で測定することのでき
る構造の簡単な、この種の装置を実現しようとするもの
である。
（本発明の概要）
本発明に係る装置は、光源からの可干渉な光を被測定機
械量が与えられている可動拡散面に照射し、そこから得
られるスペックルパターンを径の大＊い第１のピンホー
ルと径の小さな第２のピンホールを通し、第１のピンホ
ールを通った光を利用して２次元の機械量を測定すると
ともくい第２のピンホールを通った光に光源からの光を
参照光として照射し、その結果得られる干渉縞のパター
ンを利用して可動拡散板の前記２次元の軸と直交する軸
方向の変位等の機械量を測定するようにした点に構成上
の特徴がある。
械量が与えられている可動拡散面に照射し、そこから得
られるスペックルパターンを径の大＊い第１のピンホー
ルと径の小さな第２のピンホールを通し、第１のピンホ
ールを通った光を利用して２次元の機械量を測定すると
ともくい第２のピンホールを通った光に光源からの光を
参照光として照射し、その結果得られる干渉縞のパター
ンを利用して可動拡散板の前記２次元の軸と直交する軸
方向の変位等の機械量を測定するようにした点に構成上
の特徴がある。
（実施例）
第１図は本発明に係る装置の一例を示す構成説明図であ
る。図において、１は光源で、例えばＨａＮｅレーザ光
源が使用され、ここから可干渉な光が出射される。１１
．１２はレンズで、光源１から出射した光を拡げて平行
光とするビームエクスパンダＢＸを構成している。２１
は第１の偏光ビームスプリッタ（以下ＰＢ８と略す）、
２２は第２のＰＢＳ 、 ２５は第３ ノＰＢ８ 、２
ａは第４のＰＢＳ−ｔ’ある。各ＰＢＳは、入射する光
ビームを２方向に分割する役目をなし、入射光線と入射
面にたてた法線が作る入射面に垂直方向に振動する光成
分（Ｓ波）と、平行に振動する光成分（Ｐ波）Ｋ分かれ
る。第１のＰＢＳ において、Ｐ波はこのＰＢＳを通過
し、ミラー３１で反射し、λ／２板４１を通ってミラー
５２で反射し、第４のＰＢＳ ２４に入って２系の参−
〜なる。また、第１のＰＲ８２１において、Ｓ波はコノ
ＰＢｓテ反射され、λ／４板４２を通って、ターゲット
５の拡散面５ｏに照射される。このターゲット５には、
図示するように測定すべき３次元の機械１１１ｘ、ｙ、
ｚが与えられている。
る。図において、１は光源で、例えばＨａＮｅレーザ光
源が使用され、ここから可干渉な光が出射される。１１
．１２はレンズで、光源１から出射した光を拡げて平行
光とするビームエクスパンダＢＸを構成している。２１
は第１の偏光ビームスプリッタ（以下ＰＢ８と略す）、
２２は第２のＰＢＳ 、 ２５は第３ ノＰＢ８ 、２
ａは第４のＰＢＳ−ｔ’ある。各ＰＢＳは、入射する光
ビームを２方向に分割する役目をなし、入射光線と入射
面にたてた法線が作る入射面に垂直方向に振動する光成
分（Ｓ波）と、平行に振動する光成分（Ｐ波）Ｋ分かれ
る。第１のＰＢＳ において、Ｐ波はこのＰＢＳを通過
し、ミラー３１で反射し、λ／２板４１を通ってミラー
５２で反射し、第４のＰＢＳ ２４に入って２系の参−
〜なる。また、第１のＰＲ８２１において、Ｓ波はコノ
ＰＢｓテ反射され、λ／４板４２を通って、ターゲット
５の拡散面５ｏに照射される。このターゲット５には、
図示するように測定すべき３次元の機械１１１ｘ、ｙ、
ｚが与えられている。
ターゲット５の拡散した光（反射光）は、λ／４板４２
を通ってＰＢＳ２１に戻り、ここを通過後、レンするＪ
／２板４板金３れぞれ通ってＰＢＳ ２２に入り、ここ
で、第２のピンホール４ｏを通った光は、ｚ系の光成分
（直進する光）として、第１のピンホール６０を通った
光は、Ｘ、Ｙ系の光成分（反射する光）としてそれぞれ
分けられる。々お、絞り６に設けられているピンホール
６ｏの径は、λ／２板４５に設けられているピンホール
４０の径より犬きく選定されている。ＸＹ系の光成分は
、ミラー３３で反射し、レンズ１４（焦点ず）、λ／４
板４４を通って、ＰＢＳ ２５に入り、ここで、Ｘ系、
Ｙ系に分けられ、各々のＸ軸センサＢＸ、Ｙ軸センサ８
Ｙの受光面にスペックルパターンを作り、これがそれぞ
れ検出される。
を通ってＰＢＳ２１に戻り、ここを通過後、レンするＪ
／２板４板金３れぞれ通ってＰＢＳ ２２に入り、ここ
で、第２のピンホール４ｏを通った光は、ｚ系の光成分
（直進する光）として、第１のピンホール６０を通った
光は、Ｘ、Ｙ系の光成分（反射する光）としてそれぞれ
分けられる。々お、絞り６に設けられているピンホール
６ｏの径は、λ／２板４５に設けられているピンホール
４０の径より犬きく選定されている。ＸＹ系の光成分は
、ミラー３３で反射し、レンズ１４（焦点ず）、λ／４
板４４を通って、ＰＢＳ ２５に入り、ここで、Ｘ系、
Ｙ系に分けられ、各々のＸ軸センサＢＸ、Ｙ軸センサ８
Ｙの受光面にスペックルパターンを作り、これがそれぞ
れ検出される。
ＰＢＳ ２２において分けられたＺ系の光成分は、レン
ズ１５（焦点ｆ）、ＰＢ８２４及び偏光板７を通って、
２軸センサ８ｚ上に照射され、その受光面にミラー３２
側からくる参照光と干渉して干渉縞が作られ、これを検
出する。
ズ１５（焦点ｆ）、ＰＢ８２４及び偏光板７を通って、
２軸センサ８ｚ上に照射され、その受光面にミラー３２
側からくる参照光と干渉して干渉縞が作られ、これを検
出する。
Ｘ軸センサ８Ｘ、Ｙ軸センサ８Ｙ及び２軸センサ８ｚは
、多数個の受光素子をプレイ状に配列して構成されるも
ので、ＣＣＤなどのイメージセンサが使用可能であり、
Ｘ軸センサ８ＸとＹ軸センサ８Ｙの各受光素子の配列方
向は互いに直交するように配置されている。
、多数個の受光素子をプレイ状に配列して構成されるも
ので、ＣＣＤなどのイメージセンサが使用可能であり、
Ｘ軸センサ８ＸとＹ軸センサ８Ｙの各受光素子の配列方
向は互いに直交するように配置されている。
第２図は第１図装置において、電気的な回路を示す構成
ブロック図である。この図において、８゜は、例えばＣ
ＯＤで構成された各センサ８Ｘ、 ＢＹ、 ８Ｚを駆動
するクロック発振器で、例えば周波数ｆｃのクロ、り信
号を各センサに印加している。７１，７２゜７３は各セ
ンサ８Ｘ、 ８Ｙ、 ８Ｚからの出カ周波数個号ｆｘ。
ブロック図である。この図において、８゜は、例えばＣ
ＯＤで構成された各センサ８Ｘ、 ＢＹ、 ８Ｚを駆動
するクロック発振器で、例えば周波数ｆｃのクロ、り信
号を各センサに印加している。７１，７２゜７３は各セ
ンサ８Ｘ、 ８Ｙ、 ８Ｚからの出カ周波数個号ｆｘ。
”Ｉｎ ｆｚを入力し、これと参照周波数信号ｆＲとを
ミキシングするミキサ、８１．８２．８５はそれぞれ対
応するミキサからの出力信号のながの特定な周波数信号
を通過させるローパスフィルタ、９１゜９２．９５はそ
れぞれローパスフィルタ８１．８２．８３からの周波数
信号を計数するカウンタ、９ｏは各カウンタ９１゜９２
、９３からの計数信号ｆａｘ 、ｆｏｙ 、ｆｏｚを入
力する演算回路で、この演算回路としては、例えばマイ
クロプロセッサが使用される。９５は表示装置で、例え
ばＣＲＴが使用され、演算回路９ｏでの演算結果を表示
する。
ミキシングするミキサ、８１．８２．８５はそれぞれ対
応するミキサからの出力信号のながの特定な周波数信号
を通過させるローパスフィルタ、９１゜９２．９５はそ
れぞれローパスフィルタ８１．８２．８３からの周波数
信号を計数するカウンタ、９ｏは各カウンタ９１゜９２
、９３からの計数信号ｆａｘ 、ｆｏｙ 、ｆｏｚを入
力する演算回路で、この演算回路としては、例えばマイ
クロプロセッサが使用される。９５は表示装置で、例え
ばＣＲＴが使用され、演算回路９ｏでの演算結果を表示
する。
Ｘ軸センサ８Ｘ、Ｙ軸センサ８Ｙ上に作られるスペック
ルパターンは、ターゲット５が矢印Ｘ方向に移動したと
きは、Ｘ軸方向に移動し、ターゲット５が矢印ｙ方向に
移動したときは、ｙ軸方向に移２軸センサ８ｚ上に得ら
れるパターンは、スペックルパターンにマイケルソン干
渉縞が重畳したようなものとなる。このパターンは、タ
ーゲット５一方向変位を把える。
ルパターンは、ターゲット５が矢印Ｘ方向に移動したと
きは、Ｘ軸方向に移動し、ターゲット５が矢印ｙ方向に
移動したときは、ｙ軸方向に移２軸センサ８ｚ上に得ら
れるパターンは、スペックルパターンにマイケルソン干
渉縞が重畳したようなものとなる。このパターンは、タ
ーゲット５一方向変位を把える。
第３図は、空間周波数Ｆと、スペクトル強度■との関係
を示す線図である。この線図において、ピンホール径を
小さくすると、この特性曲線は矢印島方向に、ピンホー
ル径を大きくすると、矢印す方向に変化する状態を示し
ている。
を示す線図である。この線図において、ピンホール径を
小さくすると、この特性曲線は矢印島方向に、ピンホー
ル径を大きくすると、矢印す方向に変化する状態を示し
ている。
本発明に係る装置においては、絞り６に設けた第１のピ
ンホール６０の径を太きくシ、スペックル中の高い空間
周波数成分を通し、この成分をＰＢ８２２でＸＹ系側に
分離させるようにしている。また、λ／２板４３に設け
た第２のピンホール４０の径を小さくシ、スペックル中
の低い空間周波数成分を通過（高周波成分をカット）さ
せ、この成分をＰＨ１２２を通して２系側で利用するよ
うＫしている。すなわち、第１のピンホール６０を通過
した光は、λ／２板で偏光面が９０°回転するので、Ｐ
Ｂ８２２で反転し、Ｘ、Ｙ系側に向かい、第２のピンホ
ール４０を通過した光は、偏光面が回転することはない
ので、ＰＢＳ２２を通過し、２系側圧向かう。ここで、
第１のピンホール６０の径は、第２のピンホール４０の
径に比べて１０倍程度大きいことが望ましい。これＫよ
って、光強度の低下を抑えてＳ／Ｎを良好にし、２軸セ
ンサ８ｚの受光面につくられる干渉縞を鮮明にし、ター
ゲット５の２方向変位を確実に検出できるよう処してい
る。
ンホール６０の径を太きくシ、スペックル中の高い空間
周波数成分を通し、この成分をＰＢ８２２でＸＹ系側に
分離させるようにしている。また、λ／２板４３に設け
た第２のピンホール４０の径を小さくシ、スペックル中
の低い空間周波数成分を通過（高周波成分をカット）さ
せ、この成分をＰＨ１２２を通して２系側で利用するよ
うＫしている。すなわち、第１のピンホール６０を通過
した光は、λ／２板で偏光面が９０°回転するので、Ｐ
Ｂ８２２で反転し、Ｘ、Ｙ系側に向かい、第２のピンホ
ール４０を通過した光は、偏光面が回転することはない
ので、ＰＢＳ２２を通過し、２系側圧向かう。ここで、
第１のピンホール６０の径は、第２のピンホール４０の
径に比べて１０倍程度大きいことが望ましい。これＫよ
って、光強度の低下を抑えてＳ／Ｎを良好にし、２軸セ
ンサ８ｚの受光面につくられる干渉縞を鮮明にし、ター
ゲット５の２方向変位を確実に検出できるよう処してい
る。
第２図において、各センサ８Ｘ、 ８Ｙ、 ８Ｚは、一
端にクロック発振器８０からの周波数ｆａのクロック信
号が印加されて駆動されており、各センサ８Ｘ、 ８Ｙ
８ｚから、ｆｃ＝ｆｅ／Ｎ（ただし、Ｎは各センサのビ
ット数）を基本周波数とする周波数信号ｌｘ、 ｆｙ。
端にクロック発振器８０からの周波数ｆａのクロック信
号が印加されて駆動されており、各センサ８Ｘ、 ８Ｙ
８ｚから、ｆｃ＝ｆｅ／Ｎ（ただし、Ｎは各センサのビ
ット数）を基本周波数とする周波数信号ｌｘ、 ｆｙ。
ｆｚが出力される。
第４図は、各センサ８Ｘ、 ８Ｙ、 ８Ｚから得られる
周波数信号ｆｘ、 ｆｙ、 ｆｚの周波数スペクトルを
示す説明図である。この信号の周波数スペクトルは、基
本周波数ｆｏの整数倍の点でピークがあり、かつそのピ
ークは、各センサの全幅の１７（整数）と、干渉縞の間
隔が等しいところが一番大きくな９、ターゲット５の移
動とともに１移動する。例えば、ターゲット５がＸ方向
にＸだけ移動すれは、センサ８Ｘからの周波数信号ｔｘ
の例えばｍ次高調波に相当するピークＰｍは、その移動
速１ｉｄＸ／ｄｔに比例したΔｔｍｘだけ周波数シフト
する。同じように、ターゲット５がｙ方向にＹだけ移動
すれば、センサ８Ｙからの周波数信号ｔｙのｍ次高調波
に相当するピークｂは、その移動速度ｄＹ／ｄｔＫ比例
したｆｍｙだけ周波数シフトする。センサ８ｚからの周
波数信号についても同様である。つまり、Δｆｍｘ、Δ
ｆｍｙ。
周波数信号ｆｘ、 ｆｙ、 ｆｚの周波数スペクトルを
示す説明図である。この信号の周波数スペクトルは、基
本周波数ｆｏの整数倍の点でピークがあり、かつそのピ
ークは、各センサの全幅の１７（整数）と、干渉縞の間
隔が等しいところが一番大きくな９、ターゲット５の移
動とともに１移動する。例えば、ターゲット５がＸ方向
にＸだけ移動すれは、センサ８Ｘからの周波数信号ｔｘ
の例えばｍ次高調波に相当するピークＰｍは、その移動
速１ｉｄＸ／ｄｔに比例したΔｔｍｘだけ周波数シフト
する。同じように、ターゲット５がｙ方向にＹだけ移動
すれば、センサ８Ｙからの周波数信号ｔｙのｍ次高調波
に相当するピークｂは、その移動速度ｄＹ／ｄｔＫ比例
したｆｍｙだけ周波数シフトする。センサ８ｚからの周
波数信号についても同様である。つまり、Δｆｍｘ、Δ
ｆｍｙ。
Δｆｍｚの位相を測定すればＸａＹ＋”の変位量を測定
できる。
できる。
例えば第２図の回路において、ミキサ７１，７２゜７３
は、各センナから出力されるｍ次高調波Ｐｍと、その近
傍周波数ｆＨとをミキシング、すなわちヘテロダイン検
波し、各出力をローパスフィルタ８１゜８２、 ８５を
介することによって、その出力端に次式に示すような周
波数信号ｆｏｚ 、ｆｏｙ 、ｆｏｚをそれぞれ得る。
は、各センナから出力されるｍ次高調波Ｐｍと、その近
傍周波数ｆＨとをミキシング、すなわちヘテロダイン検
波し、各出力をローパスフィルタ８１゜８２、 ８５を
介することによって、その出力端に次式に示すような周
波数信号ｆｏｚ 、ｆｏｙ 、ｆｏｚをそれぞれ得る。
ｆｏｚ ＝ ｍｆｏ −ｆＨ±Δｔｍｘｆｏｙ ＝ ｍ
ｆｏ −ｆＨ±Δｆｍｙｆｏｚ＝ ｍｆｏ ＝ ｆＨ±
Δｆｍｚ各カウンタ９１．９２ 、９３は、これらの周
波数信号をそれぞれ計数する。演算回路９０は、各カウ
ンタ９１、９２．９３からの信号ｆａｘ 、ｆｏｙ 、
ｆａｘを入力し、所定の演算、例えば積分を含む演算を
することＫよって、ターゲット５の各矢印Ｘ ＊ Ｆ
＋ ｚ方向の変位量ｘ、ｙ、ｚを知ることができる。ま
たΔｔｍｘ。
ｆｏ −ｆＨ±Δｆｍｙｆｏｚ＝ ｍｆｏ ＝ ｆＨ±
Δｆｍｚ各カウンタ９１．９２ 、９３は、これらの周
波数信号をそれぞれ計数する。演算回路９０は、各カウ
ンタ９１、９２．９３からの信号ｆａｘ 、ｆｏｙ 、
ｆａｘを入力し、所定の演算、例えば積分を含む演算を
することＫよって、ターゲット５の各矢印Ｘ ＊ Ｆ
＋ ｚ方向の変位量ｘ、ｙ、ｚを知ることができる。ま
たΔｔｍｘ。
Δｆ ｍｙ、Δｆｍｚは、ターゲット５の移動方向に応
じて、正、負に極性が変わることから、移動方向の判別
も同時にできる。
じて、正、負に極性が変わることから、移動方向の判別
も同時にできる。
このように構成される装置は、ひとつの光源からのビー
ムによって３次元の変位が同時に測定できるもので、全
体構成を簡単にできる。また、各センナから得られる信
号は周波数信号であることから、演算処理が容易であり
、高分解能で、各種機械量を測定することができる。
ムによって３次元の変位が同時に測定できるもので、全
体構成を簡単にできる。また、各センナから得られる信
号は周波数信号であることから、演算処理が容易であり
、高分解能で、各種機械量を測定することができる。
第５図は、第１図において、絞９６．λ／２板４３及び
ＰＨ１２２部分の他に構成例を示す要部断面図及び要部
の平面図でおる。
ＰＨ１２２部分の他に構成例を示す要部断面図及び要部
の平面図でおる。
この例では、透明のガラス基板６１上に光を反射しない
部分６２とだ円形状の光透過部６３及びこの光透過部６
３の中央にだ円形状の反射部６４を設けたものである。
部分６２とだ円形状の光透過部６３及びこの光透過部６
３の中央にだ円形状の反射部６４を設けたものである。
ここで、光透過部６５の大きさとしては、例えば、長軸
２．８ｍｍ、短軸２ｍｍ反射部６４の大きさとしては、
例えば長軸０．２８ｍｍ、短軸０．２ｍｍ程度に選定さ
れる。
２．８ｍｍ、短軸２ｍｍ反射部６４の大きさとしては、
例えば長軸０．２８ｍｍ、短軸０．２ｍｍ程度に選定さ
れる。
Ｚ系の光成分を同時に分離して得ることができ、全体構
成を簡単にできる。
成を簡単にできる。
なお、上記の実施例において、光源１の光パワーに余裕
のある場合は、ＰＨ１２２，２３，２４等はハーフミラ
−としてもよい。また、ターゲット５の拡散面５０には
、再帰性及財物やその他必要な模様等を設けるようにし
、検出感度を増大させるよう処してもよい。また、ここ
では、ターゲットのＸ。
のある場合は、ＰＨ１２２，２３，２４等はハーフミラ
−としてもよい。また、ターゲット５の拡散面５０には
、再帰性及財物やその他必要な模様等を設けるようにし
、検出感度を増大させるよう処してもよい。また、ここ
では、ターゲットのＸ。
ＦＥＺ方向の変位量や移動速度を測定する場合を説明し
たが、ターゲット５の撮動数や回転数、あるいは形状変
化等、各種の３次元の機械量を測定することができる。
たが、ターゲット５の撮動数や回転数、あるいは形状変
化等、各種の３次元の機械量を測定することができる。
以上説明したように１本発明に係る装置によれば、被測
定機械量が与えられるターゲットとは非接触で、このタ
ーゲットの５次元の変位量など各種機械量を高分解能で
測定することができる。
定機械量が与えられるターゲットとは非接触で、このタ
ーゲットの５次元の変位量など各種機械量を高分解能で
測定することができる。
第１図は本発明に係る装置の一例を示す構成説明図、第
２図は電気的な回路を示す構成ブロック図、第３図は空
間周波数とスペックトル強度との関係を示す線図、第４
図は各センサから得られる信号の周波数スペックトルを
示す説明図、第５図はＸＹ系の光成分と、２系の光成分
を得る部分の他の構成例を示す図で（イ）は断面図（ロ
）は平面図である。 １・・・光源、２１．２２．２５．２４・・・偏光ビー
ムスプリッタ、７５１． ３２・・・ミラー、５・・・
ターゲット、６，４３・・・絞ｊｌｌ 、６０．４０−
・・ピンホール、ＢＸ、 ８Ｙ、 ８ｚ・Ｘ軸。 Ｙ軸、２軸センサ。 篤３図 篤４図 篤５圓 （イ） １ （ロ） ６フ
２図は電気的な回路を示す構成ブロック図、第３図は空
間周波数とスペックトル強度との関係を示す線図、第４
図は各センサから得られる信号の周波数スペックトルを
示す説明図、第５図はＸＹ系の光成分と、２系の光成分
を得る部分の他の構成例を示す図で（イ）は断面図（ロ
）は平面図である。 １・・・光源、２１．２２．２５．２４・・・偏光ビー
ムスプリッタ、７５１． ３２・・・ミラー、５・・・
ターゲット、６，４３・・・絞ｊｌｌ 、６０．４０−
・・ピンホール、ＢＸ、 ８Ｙ、 ８ｚ・Ｘ軸。 Ｙ軸、２軸センサ。 篤３図 篤４図 篤５圓 （イ） １ （ロ） ６フ
Claims (1)
- からの反射光を径の大きい第１のピンホールと、径の小
さい第２のピンホールとをそれぞれ通過させるとともに
第１のピンホールを通った光と、第２のピンホールを通
った光を分離させ、前記第１のピンホールを通った光に
よるパターンの移動を検出して前記ターゲットの１次元
あるいは２次元方向の機械量をそれぞれ測定するととも
に１前記第２のピンホールを通った光に、前記光源から
の可干渉光を参照光として照射して作られるパターンの
移動を検出して前記１次元又は２次元方向の軸と直交す
る軸方向の機械量を測定するようにした光学式機械量測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59072380A JPS60216207A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 光学式機械量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59072380A JPS60216207A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 光学式機械量測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60216207A true JPS60216207A (ja) | 1985-10-29 |
| JPH0444922B2 JPH0444922B2 (ja) | 1992-07-23 |
Family
ID=13487626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59072380A Granted JPS60216207A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 光学式機械量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60216207A (ja) |
-
1984
- 1984-04-11 JP JP59072380A patent/JPS60216207A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0444922B2 (ja) | 1992-07-23 |
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