JPH0445865A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH0445865A JPH0445865A JP2151098A JP15109890A JPH0445865A JP H0445865 A JPH0445865 A JP H0445865A JP 2151098 A JP2151098 A JP 2151098A JP 15109890 A JP15109890 A JP 15109890A JP H0445865 A JPH0445865 A JP H0445865A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- outer cup
- lid
- inner cup
- coating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は液晶デイスプレィ（ＬＣＤ）の製造工程等に用
いる塗布装置に関する。
いる塗布装置に関する。
（従来の技術）
ブラウン管（ＣＲＴ）に代わる表示装置として液晶デイ
スプレィが注目されている。
スプレィが注目されている。
液晶デイスプレィは表面に画素を４１１１−成する電極
や素子を形成した２枚のガラス＾（板の間に液晶を注入
した構造となっている。そして各画素を薄膜Ｉ・ランジ
スタ（ＴＰＴ）や金属／絶縁体／金属接合（ＭＩＭ）な
どの素子で駆動せしめるアクティブマトリクス方式が高
画質の画面が得られるため主流になりつつある。
や素子を形成した２枚のガラス＾（板の間に液晶を注入
した構造となっている。そして各画素を薄膜Ｉ・ランジ
スタ（ＴＰＴ）や金属／絶縁体／金属接合（ＭＩＭ）な
どの素子で駆動せしめるアクティブマトリクス方式が高
画質の画面が得られるため主流になりつつある。
そして、」―記の薄膜トランジスタをガラス基板１−に
形成する技術はシリコンウェハ″、５に集積回路を形成
する半導体製造技術をそのまま応用している。レジスト
液の塗布も一連の工程のうちの−っであり、この工程で
はインナーカップ内の真空チャックにガラス基板をセラ
ｌ−して、ガラス基板」−にレジスト液を滴下し、次い
でスピンナーによって真空チャックとインナーカップを
一体的に回転せしめ遠心力によってガラス基板表面にレ
ジスｊ・液を均一に塗布するようにしている。
形成する技術はシリコンウェハ″、５に集積回路を形成
する半導体製造技術をそのまま応用している。レジスト
液の塗布も一連の工程のうちの−っであり、この工程で
はインナーカップ内の真空チャックにガラス基板をセラ
ｌ−して、ガラス基板」−にレジスト液を滴下し、次い
でスピンナーによって真空チャックとインナーカップを
一体的に回転せしめ遠心力によってガラス基板表面にレ
ジスｊ・液を均一に塗布するようにしている。
そして、滴下した僧布液の一部は遠心力によってインナ
ーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそのままにして
おくと乾燥して固化し小さな破片となって被処理物の表
面にイ」着することとなる。
ーカップ内壁に飛び散る。この塗布液をそのままにして
おくと乾燥して固化し小さな破片となって被処理物の表
面にイ」着することとなる。
これを防止すべ〈従来からインナーカップの外周壁にド
レインパイプを取りイ」け、余分な僧布液についてはド
レインパイプを介してアウターカップ内に排出している
。
レインパイプを取りイ」け、余分な僧布液についてはド
レインパイプを介してアウターカップ内に排出している
。
（発明が解決しようとする課題）
上述したように従来の塗布装置にあっては、回転するイ
ンナーカップの外側に近接して回転しないアウターカッ
プを配設しているので、インナーカップとアウターカッ
プとの間において乱流が発生し、−旦アウターカップ内
に回収された塗布液が外部に吸引され霧状等となって浮
遊し、この浮遊している塗布液の粒子が被処理物表面に
付着してスポット的な欠陥を生じる。
ンナーカップの外側に近接して回転しないアウターカッ
プを配設しているので、インナーカップとアウターカッ
プとの間において乱流が発生し、−旦アウターカップ内
に回収された塗布液が外部に吸引され霧状等となって浮
遊し、この浮遊している塗布液の粒子が被処理物表面に
付着してスポット的な欠陥を生じる。
特に液晶デイスプレィの製造にあってはガラス基板」二
に多数のトランジスタを埋め込む（１平方センチ当たり
５０個以」二）こととなり、このうちの１個のトランジ
スタが不良でも基板全体が不良品ということになる。こ
れがアクティブマトリクス方式の液晶デイスプレィの製
造とＬ Ｓ Ｉなどの半導体の製造との歩留まりの而に
おける決定的な差となっている。
に多数のトランジスタを埋め込む（１平方センチ当たり
５０個以」二）こととなり、このうちの１個のトランジ
スタが不良でも基板全体が不良品ということになる。こ
れがアクティブマトリクス方式の液晶デイスプレィの製
造とＬ Ｓ Ｉなどの半導体の製造との歩留まりの而に
おける決定的な差となっている。
そこで、本出願人は先にインナーカップ及びアウターカ
ップの開放された−に面を蓋体で覆うことで基板状に浮
遊粒子が落下しないようにした提案を行った。このよう
にすることで浮遊粒子の落下を大幅に低減できたが、イ
ンナーカップ上面を覆う蓋体とアウターカップ上面を覆
う蓋体との間にはある程度のスペースがあり、このスペ
ース内で乱流が生じ細かな塵埃が７乎遁し、蓋を開けた
時等にこの塵埃が基板」二に落下することがある。
ップの開放された−に面を蓋体で覆うことで基板状に浮
遊粒子が落下しないようにした提案を行った。このよう
にすることで浮遊粒子の落下を大幅に低減できたが、イ
ンナーカップ上面を覆う蓋体とアウターカップ上面を覆
う蓋体との間にはある程度のスペースがあり、このスペ
ース内で乱流が生じ細かな塵埃が７乎遁し、蓋を開けた
時等にこの塵埃が基板」二に落下することがある。
（課題を解決するための手段）
」１記課題を解決すべく本発明は、スピンナーによって
回転せしめられるインナーカップの外側にインナーカッ
プからのトレインを受けるアウターカップを配置した塗
布装置において、前記インナーカップの−に面及びアウ
ターカップの上面をそれぞれ開閉自在な蓋体で覆うとと
もに、アウターカップの上面を覆う蓋体の下面に一定の
間隔をあけて防塵板を取り４＝ｊけるようにした。
回転せしめられるインナーカップの外側にインナーカッ
プからのトレインを受けるアウターカップを配置した塗
布装置において、前記インナーカップの−に面及びアウ
ターカップの上面をそれぞれ開閉自在な蓋体で覆うとと
もに、アウターカップの上面を覆う蓋体の下面に一定の
間隔をあけて防塵板を取り４＝ｊけるようにした。
（作用）
インナーカップ内の真空チャック上にカラス基板等の板
状被処理物をセットシ、この板状被処理物の表面に塗布
液を滴下し、次いでインナーカップ−Ｌ、面及びアウタ
ーカップ−］−面を蓋体で閉塞した状態で真空チャック
とインナーカップを一体的に回転せしめ、板状被処理物
の表面に滴下した伶布液を均一に拡散せしめる。
状被処理物をセットシ、この板状被処理物の表面に塗布
液を滴下し、次いでインナーカップ−Ｌ、面及びアウタ
ーカップ−］−面を蓋体で閉塞した状態で真空チャック
とインナーカップを一体的に回転せしめ、板状被処理物
の表面に滴下した伶布液を均一に拡散せしめる。
（実施例）
以下に本発明の実施例を添イマ］図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を」二げた状
態の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図であり、被膜形成ラインは最」二流部（第１図に
おいて左端）にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部
１を１設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布
装置２を配置し、この僧布装置２の下流側に順次、減圧
乾燥装置３、被処理物Ｗの裏面洗浄装置４及びホットフ
レト 部１から加熱部５に至るまでは搬送装置６によって被処
理物Ｗの前後端の下面を支持した状態で搬送し、加熱部
５においては垂直面内でクランク動をなす搬送装置７に
より被処理物Ｗの下面を支持した状態で各ホットプレー
１− ５ ａ Ｊ＝を順次移し換えるようにしつつ被処
理物Ｗを搬送するようにしている。
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を」二げた状
態の断面図、第３図は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図であり、被膜形成ラインは最」二流部（第１図に
おいて左端）にガラス基板等の板状被処理物Ｗの投入部
１を１設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布
装置２を配置し、この僧布装置２の下流側に順次、減圧
乾燥装置３、被処理物Ｗの裏面洗浄装置４及びホットフ
レト 部１から加熱部５に至るまでは搬送装置６によって被処
理物Ｗの前後端の下面を支持した状態で搬送し、加熱部
５においては垂直面内でクランク動をなす搬送装置７に
より被処理物Ｗの下面を支持した状態で各ホットプレー
１− ５ ａ Ｊ＝を順次移し換えるようにしつつ被処
理物Ｗを搬送するようにしている。
次に塗布装置２の訂細について第２図及び第３図に基づ
いて説明する。
いて説明する。
塗布装置２はスピンナー装置の輔２１に取り伺けられた
インナーカップ２２の外側にアウターカップ２３を固設
している。これらインナーカップ２２及びアウターカッ
プ２３は下面を閉じ上面を開放し、インナーカップ２２
内の中央部には被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック
２４を設け、更にインナーカップ２２の側壁下部にはド
レインパイプ２５を取り４＝Ｊけている。また、アウタ
ーカップ２３内にはドレイン回収リング２６を配置して
いる。このドレイン回収リング２６は内側壁を外側壁よ
りも低くして前記ドレインパイプ２５の先端を臨ませ且
つ底壁を一方に傾斜せしめ最も低くなった位置にドレイ
ン回収パイプ２７を取り何けている。また、アウターカ
ップ２３の閉じられた下面には排気口２８が形成されて
いる。
インナーカップ２２の外側にアウターカップ２３を固設
している。これらインナーカップ２２及びアウターカッ
プ２３は下面を閉じ上面を開放し、インナーカップ２２
内の中央部には被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック
２４を設け、更にインナーカップ２２の側壁下部にはド
レインパイプ２５を取り４＝Ｊけている。また、アウタ
ーカップ２３内にはドレイン回収リング２６を配置して
いる。このドレイン回収リング２６は内側壁を外側壁よ
りも低くして前記ドレインパイプ２５の先端を臨ませ且
つ底壁を一方に傾斜せしめ最も低くなった位置にドレイ
ン回収パイプ２７を取り何けている。また、アウターカ
ップ２３の閉じられた下面には排気口２８が形成されて
いる。
一方、インナーカップ２２及びアウターカップ２３の上
方には第１図に示すようにアーム２９．３０を配置して
いる。これらアーム２９．３０は直線動、回転動、」二
下動或いはこれらを合成した動きが可能で互いに干渉し
ないようになっている。
方には第１図に示すようにアーム２９．３０を配置して
いる。これらアーム２９．３０は直線動、回転動、」二
下動或いはこれらを合成した動きが可能で互いに干渉し
ないようになっている。
そして、アーム２９にはレジスト液等の塗布液を滴下す
るノズルを取りイ」け、アーム３０の先端には下方′に
伸びる軸３１を取りイ」け、この軸３１にはノズル孔３
２を穿設し、このノズル孔３２をジヨイント３３及びア
ーム３０内を通るホース３４を介してチッ素ガスなどの
圧気源につなげている。
るノズルを取りイ」け、アーム３０の先端には下方′に
伸びる軸３１を取りイ」け、この軸３１にはノズル孔３
２を穿設し、このノズル孔３２をジヨイント３３及びア
ーム３０内を通るホース３４を介してチッ素ガスなどの
圧気源につなげている。
また、前記軸３１にはベアリング３５及び磁気シール３
６を介してボス部３７を回転自在に嵌合し、このボス部
３７にインナーカップ２２の上面開口を閉塞するための
円板状をなすアルミニウム製の蓋体３８を取り付けてい
る。また、この蓋体３８の上方のアーム３０の先端下面
にはアウターカップ２３の」−面間口を閉塞するための
蓋体３９を固着している。
６を介してボス部３７を回転自在に嵌合し、このボス部
３７にインナーカップ２２の上面開口を閉塞するための
円板状をなすアルミニウム製の蓋体３８を取り付けてい
る。また、この蓋体３８の上方のアーム３０の先端下面
にはアウターカップ２３の」−面間口を閉塞するための
蓋体３９を固着している。
そして、蓋体３８の下面にはビス４０によって整流板４
１を取りイ」けている。この整流板４１の外径寸法はイ
ンナーカップ２２の内径寸法よりも若干小径とされ、ま
た蓋体３８の下面と整流板４１上面との間に形成される
空間に前記ノスル孔３２が開口する。
１を取りイ」けている。この整流板４１の外径寸法はイ
ンナーカップ２２の内径寸法よりも若干小径とされ、ま
た蓋体３８の下面と整流板４１上面との間に形成される
空間に前記ノスル孔３２が開口する。
更に、アウターカップ２３の上面開口を閉塞するための
蓋体３９の下面にはスペーサ４２を介して一定間隔をあ
けて防塵板４３を取りイ」けている。
蓋体３９の下面にはスペーサ４２を介して一定間隔をあ
けて防塵板４３を取りイ」けている。
この防塵板４３は前記ボス部３７外周面との間に隙間４
４を形成しインナーカップ２２の回転とともにボス部３
７が回転する際にボス部３７に防塵板４３が接触しない
ようにし、また防塵板４３外端と蓋体３９のスカート部
内周面との間にも隙間４５を形成し、蓋体３９と防塵板
４３との間のスペースに入り込んだ微細な塵埃を排出す
るようにしている。
４を形成しインナーカップ２２の回転とともにボス部３
７が回転する際にボス部３７に防塵板４３が接触しない
ようにし、また防塵板４３外端と蓋体３９のスカート部
内周面との間にも隙間４５を形成し、蓋体３９と防塵板
４３との間のスペースに入り込んだ微細な塵埃を排出す
るようにしている。
以」−において、ガラス基板等の被処理物Ｗ表面にレジ
スト液を均一に塗布するには、インナーカップ２２及び
アウターカップ２３の上面を開放して真空チャック２４
上に固着されている被処理物Ｗの表面にアーム２９に取
り伺けられているノズルからレジスト液を滴下し、次い
でアーム２９を後退せしめて第２図に示すようにインナ
ーカップ２２及びアウターカップ２３上にアーム３０を
回動させて蓋体３８．３９を臨ませる。そして第３図に
示すように、アーム３０を下降することで蓋体３８によ
りインナーカップ２２の」−面を閉塞し、蓋体３９によ
りアウターカップ２３の上面開口を閉塞したならば、ス
ピンナーによって真空チャックとインナーカップ２２を
一体的に回転せしめ、遠心力によりレジスト液を被処理
物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
スト液を均一に塗布するには、インナーカップ２２及び
アウターカップ２３の上面を開放して真空チャック２４
上に固着されている被処理物Ｗの表面にアーム２９に取
り伺けられているノズルからレジスト液を滴下し、次い
でアーム２９を後退せしめて第２図に示すようにインナ
ーカップ２２及びアウターカップ２３上にアーム３０を
回動させて蓋体３８．３９を臨ませる。そして第３図に
示すように、アーム３０を下降することで蓋体３８によ
りインナーカップ２２の」−面を閉塞し、蓋体３９によ
りアウターカップ２３の上面開口を閉塞したならば、ス
ピンナーによって真空チャックとインナーカップ２２を
一体的に回転せしめ、遠心力によりレジスト液を被処理
物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
そして、以上の処理においてインナーカップ２２内は減
圧状態になっているので、レジスト液が均一に塗布され
た被処理物Ｗを取り出すには、先すノズル孔３２を介し
て蓋体３８と整流板４１の間の空間に窒素ガス等を導入
し減圧状態を解除して行う。このときノズル孔３２から
のガスは整流板４１があるため、被処理物Ｗ表面のレジ
スト液に直接吹きイ」けられることがない。
圧状態になっているので、レジスト液が均一に塗布され
た被処理物Ｗを取り出すには、先すノズル孔３２を介し
て蓋体３８と整流板４１の間の空間に窒素ガス等を導入
し減圧状態を解除して行う。このときノズル孔３２から
のガスは整流板４１があるため、被処理物Ｗ表面のレジ
スト液に直接吹きイ」けられることがない。
尚、実施例にあってはアウターカップの開Ｌ１を閉じる
蓋体３９をアーム３０の先端下面に取りイマ１けるよう
にしたが、アーム３０以外の部＋」に取り付けるように
してもよい。
蓋体３９をアーム３０の先端下面に取りイマ１けるよう
にしたが、アーム３０以外の部＋」に取り付けるように
してもよい。
（効果）
以」二に説明したように本発明によれば、塗布装置のイ
ンナーカップ及びアウターカップの上面開口を蓋体で閉
塞した状態でインナーカップを回転せしめるにあたり、
アウターカップの上面開口を塞ぐ蓋体の下面に防塵板を
取りイ」けるようにしたので、アウターカップ内に一旦
回収した塗布液が霧状になって外部に飛散して浮遊する
ことが防げ、また塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り
出す際等に上下の蓋体間に存在する微細なゴミなとが被
処理物表面にイ」着して欠陥品となることを防止でき歩
留まりが大幅に向」ニする。
ンナーカップ及びアウターカップの上面開口を蓋体で閉
塞した状態でインナーカップを回転せしめるにあたり、
アウターカップの上面開口を塞ぐ蓋体の下面に防塵板を
取りイ」けるようにしたので、アウターカップ内に一旦
回収した塗布液が霧状になって外部に飛散して浮遊する
ことが防げ、また塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り
出す際等に上下の蓋体間に存在する微細なゴミなとが被
処理物表面にイ」着して欠陥品となることを防止でき歩
留まりが大幅に向」ニする。
第１図は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を」二げた状
態の断面図、第３図は同ゆ布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図である。 尚、図面中１は被膜形成ライン、２は塗布装置、２２は
インナーカップ、２３はアウターカップ、３２はノズル
孔、３８．３９は蓋体、４１は整流板、４３は防塵板、
Ｗは板状被処理物である。 特 許 出 願 人 同 代 理 人 弁理士 同 弁理士 同 弁理士 東京応化工業株式会社 タ ツ モ 株式会社 下 １） 容 一部 大 橋 邦 彦 小 山 有
インの平面図、第２図は同塗布装置の蓋体を」二げた状
態の断面図、第３図は同ゆ布装置の蓋体を閉じた状態の
断面図である。 尚、図面中１は被膜形成ライン、２は塗布装置、２２は
インナーカップ、２３はアウターカップ、３２はノズル
孔、３８．３９は蓋体、４１は整流板、４３は防塵板、
Ｗは板状被処理物である。 特 許 出 願 人 同 代 理 人 弁理士 同 弁理士 同 弁理士 東京応化工業株式会社 タ ツ モ 株式会社 下 １） 容 一部 大 橋 邦 彦 小 山 有
Claims (1)
- スピンナーによって回転せしめられるインナーカップ
の外側にインナーカップからのドレインを受けるアウタ
ーカップを配置した塗布装置において、前記インナーカ
ップ及びアウターカップは下面を閉じるとともに上面を
開放し、これらインナーカップとアウターカップの開放
された上面を開閉自在な蓋体で覆うとともにアウターカ
ップの上面を覆う蓋体下面には一定の間隔をあけて防塵
板を取り付けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151098A JPH0720571B2 (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2151098A JPH0720571B2 (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0445865A true JPH0445865A (ja) | 1992-02-14 |
| JPH0720571B2 JPH0720571B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=15511295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2151098A Expired - Lifetime JPH0720571B2 (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720571B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP2151098A patent/JPH0720571B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0720571B2 (ja) | 1995-03-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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