JPH0446265B2 - - Google Patents
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- JPH0446265B2 JPH0446265B2 JP5463384A JP5463384A JPH0446265B2 JP H0446265 B2 JPH0446265 B2 JP H0446265B2 JP 5463384 A JP5463384 A JP 5463384A JP 5463384 A JP5463384 A JP 5463384A JP H0446265 B2 JPH0446265 B2 JP H0446265B2
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Description
本発明は、いずれか一方の光学活性体が過剰に
ある２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
アミドの光学活性混合物から、光学的に高純度の
光学活性２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸アミドを取得する方法に関する。 光学活性な２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸アミド（以下、単に酸アミドという）
は、たとえばデヒドロペプチダーゼＩ阻害剤の中
間体として極めて有用な化合物であり、その目的
からも高い光学純度が要求されている。 従来、かかる光学活性な酸アミドの取得方法と
しては、たとえばdl−２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸を光学分割して光学活性な２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を得、こ
れを酸クロリドとしたのちアミド化する方法（特
開昭56−81518号公報）が知られているが、この
方法は原料として光学活性な２，２−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸を用いるものであるた
め、原料化合物を光学的に高純度にしなければな
らないという問題がある。 また、いずれか一方の光学活性体が過剰にある
酸アミドの光学活性混合物は、たとえば米国特許
第4029690号明細書に記載されるような方法によ
り得ることができるが、かかる光学活性混合物か
ら高純度の光学活性酸アミドを取得する方法につ
いては全く知られていない。 しかし、光学活性な酸アミドを取得するため
に、かかる光学活性混合物から過剰量含まれる光
学活性酸アミドのみを容易に分離、取得できれ
ば、その工業的利用価値は非常に高いものとなる
のである。 一方、本発明者らは光学活性酸アミドを得るべ
く種々検討した中で、dl−酸アミドが光学活性酸
アミドに比して融点が高く、また溶媒に対する溶
解度も低いことを見出した（たとえばメチルイソ
ブチルケトン中、25℃における溶解度はdl−体が
0.5〜0.8％ｄ−体が3.2〜3.5％）が、このことは
酸アミドの光学活性混合物を再結晶処理した場合
には、結晶として得られる酸アミドはラセミに近
くなるであろうことを示し、また液側に高い光
学純度の光学活性酸アミドを得ることは困難であ
ろうことを示している。 また、一般に、いずれか一方が光学的過剰にあ
る光学活性混合物の再結晶法による光学精製で
は、結晶側に高光学純度品が得られ、液側に高
純度の光学活性体が得られることは殆んど例がな
く、実際、酸アミドの光学活性混合物を通常の方
法により再結晶処理てても、結晶側および液側
のいずれにも高光学純度の光学活性酸アミドは得
られない。 このようなことから、本発明者らはいずれか一
方が光学的過剰にある酸アミドの光学活性混合物
から光学活性酸アミドを高純度、好収率で分離、
取得すべく検討の結果、光学活性酸アミドの飽和
溶液もしくは飽和に近い濃度の溶液にはdl−酸ア
ミドが極めて僅かな量しか溶解せず、かかる溶液
にdl−酸アミドを加えてもdl−酸アミドが溶解し
ないばかりか、dl−酸アミドが溶解した溶液に、
飽和量もしくはそれに近い量の光学活性酸アミド
を加えて溶解させると、dl−酸アミドが結晶とし
て析出してくることを見出し、かかる知見に基い
て更に検討を進めた結果、本発明に至つた。 すなわち、本発明は、いずれか一方の光学活性
体が過剰にある２，２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸アミドの光学活性混合物を溶媒中に加
熱下に溶解させ、次いで冷却してラセミ体を析
出、別し、液から光学活性体を回収する方法
であつて、溶媒の使用量が、光学活性混合物中の
過剰量の光学活性体がラセミ体の結晶別温度に
おいて飽和溶液となるに相当する量の0.75〜1.3
倍量の範囲であることを特徴とする光学活性２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの
取得方法を提供するものである。 本発明で使用される溶媒としては、酸アミドに
対して不活性であつて、酸アミドを少しでも溶解
し得る能力を有するものであれば特に制限なく使
用されるが、効率面からは溶解度が高い程、また
dl−酸アミドに対しては溶解度が低い程好まし
い。最も好ましいのは光学活性酸アミドとdl−酸
アミドに対する溶解度差が大きく、かつ光学活性
酸アミドに対する溶解度が比較的高い溶媒であ
る。 かかる溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノールなどの
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢
酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、酢酸ペン
チルなどのエステル類、ジクロルメタン、クロロ
ホルム、ジクロルエタン、テトラクロルエタン、
ジクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
を例示することができ、これらは水を含んでいて
もよい。 かかる溶媒の使用量は本発明において非常に重
要であり、ラセミ体の結晶別温度において、過
剰量の光学活性体が飽和溶液となるに相当する量
の0.75〜1.3倍量、好ましくは0.75〜1.2倍量であ
る。 しかし、上記の範囲であつてもその絶対量があ
まりに少なく、あるいはあまりに多い場合には操
作性や生産性などの点で好ましくなく、通常の溶
媒の種類や温度等を適宜設定することにより、上
記の範囲内であつて、かつその絶対量が原料酸ア
ミドに対して３〜100重量部となる範囲で使用さ
れる。 溶解〜結晶別の操作温度は使用溶媒の凝固温
度から沸点までの間で任意に選択されるが、一般
的には下限温度は−20℃である。なおオートクレ
ーブを使用すれば常圧における溶媒の沸点以上の
高温でも適用可能であるが、実用的にはあまり有
利でない。 本発明を実施するにあたつて、光学活性混合物
を溶解したのち冷却して析出するラセミ酸アミド
を別する温度と使用する溶媒量を適正に設定し
なければならない。 一般には、ラセミ酸アミドを比較的高い温度で
別する場合には溶媒量は少な目に、また低い温
度で別する場合には多い目に使用される。 以下、本発明を実施するための一般的操作を述
べる。 光学的過剰にある酸アミドを適正量の溶媒中で
加熱、溶解させる。この際、該酸アミドを完全に
溶解させる必要は必ずしもなく、ラセミ酸アミド
が不溶性の結晶として一部残つていてもよい。次
に徐冷し、析出したラセミ酸アミドを適正な温度
で取する。 液からの光学活性酸アミドの回収は、たとえ
ば、液を濃縮したのちヘキサン、ヘプタン、石
油エーテル、リグロインなどの光学活性酸アミド
に不溶性の溶媒を加えて光学活性酸アミドの結晶
を析出させるか、上記濃縮液を冷却して結晶を析
出させ、これを取する等の方法により行なうこ
とができる。 かくして、本発明の方法によつて極めて高い光
学純度の光学活性酸アミドを得ることができる。 尚、本発明において使用される溶媒は前記した
とおりであるが、本発明の原料である酸アミドの
光学活性混合物を製造する際に使用されると同一
の溶媒を用いるのが工業的にも有利である。 以下、実施例により本発明を説明する。 参考例 １ 温度計、撹拌装置および滴下ロートを装着した
四つ口フラスコに14％アンモニア水223.16ｇおよ
びメチルイソブチルケトン400ｇを仕込み、これ
に−５〜５℃にて光学純度82.5％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸クロリド80ｇを３
時間を要して滴下する。滴下終了後同温度で１時
間保温する。 反応液を濃硫酸でPHが７となるように中和した
のち80℃に加温し、同温度で油層と水層に分液す
る。水層にメチルイソブチルケトン200ｇを加え
て抽出処理し、油層と水層に分液する。得られた
油層（メチルイソブチルケトン層）を合わせて水
洗し、濃縮後へキサンを加える。析出結晶を取
し、乾燥すると光学純度82.5％の２，２−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸アミド67.6ｇが得ら
れる。 実施例 １ 温度計、撹拌装置および冷却管を装着した四つ
口フラスコに参考例１で得た光学純度82.5％の
２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ド５ｇおよびメチルイソブチルケトン（MIBK）
176ｇを仕込み、昇温して溶解させたのち10℃ま
で冷却する。同温度で析出結晶を別して、結晶
側に光学純度20.1％の２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミンを得る。液を濃縮し、
これにヘキサンを加えて析出結晶を取し、結晶
を乾燥すると光学純度97.5％の（＋）−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド4.03ｇ
（回収率80.6％）が得られた。 融点 137〜139℃ α〕20 546＋98゜（Ｃ＝２，エタノール） 尚、本実施例におけるMIBKの使用量は結晶
別温度（10℃）において、溶液中に存在する過剰
量の（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸アミドが飽和溶液となるに相当する量の
1.25倍である。 尚、以下の実施例においてMIBK量として単に
倍数で示してあるのは全て上記と同様のことを意
味する。 実施例２〜４および比較例１〜２ 表−１に示すMIBKの使用量および結晶別温
度とする以外は実施例１と同様に処理した結果を
表−１に示す。
ある２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
アミドの光学活性混合物から、光学的に高純度の
光学活性２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸アミドを取得する方法に関する。 光学活性な２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸アミド（以下、単に酸アミドという）
は、たとえばデヒドロペプチダーゼＩ阻害剤の中
間体として極めて有用な化合物であり、その目的
からも高い光学純度が要求されている。 従来、かかる光学活性な酸アミドの取得方法と
しては、たとえばdl−２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸を光学分割して光学活性な２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を得、こ
れを酸クロリドとしたのちアミド化する方法（特
開昭56−81518号公報）が知られているが、この
方法は原料として光学活性な２，２−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸を用いるものであるた
め、原料化合物を光学的に高純度にしなければな
らないという問題がある。 また、いずれか一方の光学活性体が過剰にある
酸アミドの光学活性混合物は、たとえば米国特許
第4029690号明細書に記載されるような方法によ
り得ることができるが、かかる光学活性混合物か
ら高純度の光学活性酸アミドを取得する方法につ
いては全く知られていない。 しかし、光学活性な酸アミドを取得するため
に、かかる光学活性混合物から過剰量含まれる光
学活性酸アミドのみを容易に分離、取得できれ
ば、その工業的利用価値は非常に高いものとなる
のである。 一方、本発明者らは光学活性酸アミドを得るべ
く種々検討した中で、dl−酸アミドが光学活性酸
アミドに比して融点が高く、また溶媒に対する溶
解度も低いことを見出した（たとえばメチルイソ
ブチルケトン中、25℃における溶解度はdl−体が
0.5〜0.8％ｄ−体が3.2〜3.5％）が、このことは
酸アミドの光学活性混合物を再結晶処理した場合
には、結晶として得られる酸アミドはラセミに近
くなるであろうことを示し、また液側に高い光
学純度の光学活性酸アミドを得ることは困難であ
ろうことを示している。 また、一般に、いずれか一方が光学的過剰にあ
る光学活性混合物の再結晶法による光学精製で
は、結晶側に高光学純度品が得られ、液側に高
純度の光学活性体が得られることは殆んど例がな
く、実際、酸アミドの光学活性混合物を通常の方
法により再結晶処理てても、結晶側および液側
のいずれにも高光学純度の光学活性酸アミドは得
られない。 このようなことから、本発明者らはいずれか一
方が光学的過剰にある酸アミドの光学活性混合物
から光学活性酸アミドを高純度、好収率で分離、
取得すべく検討の結果、光学活性酸アミドの飽和
溶液もしくは飽和に近い濃度の溶液にはdl−酸ア
ミドが極めて僅かな量しか溶解せず、かかる溶液
にdl−酸アミドを加えてもdl−酸アミドが溶解し
ないばかりか、dl−酸アミドが溶解した溶液に、
飽和量もしくはそれに近い量の光学活性酸アミド
を加えて溶解させると、dl−酸アミドが結晶とし
て析出してくることを見出し、かかる知見に基い
て更に検討を進めた結果、本発明に至つた。 すなわち、本発明は、いずれか一方の光学活性
体が過剰にある２，２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸アミドの光学活性混合物を溶媒中に加
熱下に溶解させ、次いで冷却してラセミ体を析
出、別し、液から光学活性体を回収する方法
であつて、溶媒の使用量が、光学活性混合物中の
過剰量の光学活性体がラセミ体の結晶別温度に
おいて飽和溶液となるに相当する量の0.75〜1.3
倍量の範囲であることを特徴とする光学活性２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの
取得方法を提供するものである。 本発明で使用される溶媒としては、酸アミドに
対して不活性であつて、酸アミドを少しでも溶解
し得る能力を有するものであれば特に制限なく使
用されるが、効率面からは溶解度が高い程、また
dl−酸アミドに対しては溶解度が低い程好まし
い。最も好ましいのは光学活性酸アミドとdl−酸
アミドに対する溶解度差が大きく、かつ光学活性
酸アミドに対する溶解度が比較的高い溶媒であ
る。 かかる溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブタノールなどの
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢
酸イソプロピル、プロピオン酸メチル、酢酸ペン
チルなどのエステル類、ジクロルメタン、クロロ
ホルム、ジクロルエタン、テトラクロルエタン、
ジクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
を例示することができ、これらは水を含んでいて
もよい。 かかる溶媒の使用量は本発明において非常に重
要であり、ラセミ体の結晶別温度において、過
剰量の光学活性体が飽和溶液となるに相当する量
の0.75〜1.3倍量、好ましくは0.75〜1.2倍量であ
る。 しかし、上記の範囲であつてもその絶対量があ
まりに少なく、あるいはあまりに多い場合には操
作性や生産性などの点で好ましくなく、通常の溶
媒の種類や温度等を適宜設定することにより、上
記の範囲内であつて、かつその絶対量が原料酸ア
ミドに対して３〜100重量部となる範囲で使用さ
れる。 溶解〜結晶別の操作温度は使用溶媒の凝固温
度から沸点までの間で任意に選択されるが、一般
的には下限温度は−20℃である。なおオートクレ
ーブを使用すれば常圧における溶媒の沸点以上の
高温でも適用可能であるが、実用的にはあまり有
利でない。 本発明を実施するにあたつて、光学活性混合物
を溶解したのち冷却して析出するラセミ酸アミド
を別する温度と使用する溶媒量を適正に設定し
なければならない。 一般には、ラセミ酸アミドを比較的高い温度で
別する場合には溶媒量は少な目に、また低い温
度で別する場合には多い目に使用される。 以下、本発明を実施するための一般的操作を述
べる。 光学的過剰にある酸アミドを適正量の溶媒中で
加熱、溶解させる。この際、該酸アミドを完全に
溶解させる必要は必ずしもなく、ラセミ酸アミド
が不溶性の結晶として一部残つていてもよい。次
に徐冷し、析出したラセミ酸アミドを適正な温度
で取する。 液からの光学活性酸アミドの回収は、たとえ
ば、液を濃縮したのちヘキサン、ヘプタン、石
油エーテル、リグロインなどの光学活性酸アミド
に不溶性の溶媒を加えて光学活性酸アミドの結晶
を析出させるか、上記濃縮液を冷却して結晶を析
出させ、これを取する等の方法により行なうこ
とができる。 かくして、本発明の方法によつて極めて高い光
学純度の光学活性酸アミドを得ることができる。 尚、本発明において使用される溶媒は前記した
とおりであるが、本発明の原料である酸アミドの
光学活性混合物を製造する際に使用されると同一
の溶媒を用いるのが工業的にも有利である。 以下、実施例により本発明を説明する。 参考例 １ 温度計、撹拌装置および滴下ロートを装着した
四つ口フラスコに14％アンモニア水223.16ｇおよ
びメチルイソブチルケトン400ｇを仕込み、これ
に−５〜５℃にて光学純度82.5％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸クロリド80ｇを３
時間を要して滴下する。滴下終了後同温度で１時
間保温する。 反応液を濃硫酸でPHが７となるように中和した
のち80℃に加温し、同温度で油層と水層に分液す
る。水層にメチルイソブチルケトン200ｇを加え
て抽出処理し、油層と水層に分液する。得られた
油層（メチルイソブチルケトン層）を合わせて水
洗し、濃縮後へキサンを加える。析出結晶を取
し、乾燥すると光学純度82.5％の２，２−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸アミド67.6ｇが得ら
れる。 実施例 １ 温度計、撹拌装置および冷却管を装着した四つ
口フラスコに参考例１で得た光学純度82.5％の
２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ド５ｇおよびメチルイソブチルケトン（MIBK）
176ｇを仕込み、昇温して溶解させたのち10℃ま
で冷却する。同温度で析出結晶を別して、結晶
側に光学純度20.1％の２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミンを得る。液を濃縮し、
これにヘキサンを加えて析出結晶を取し、結晶
を乾燥すると光学純度97.5％の（＋）−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド4.03ｇ
（回収率80.6％）が得られた。 融点 137〜139℃ α〕20 546＋98゜（Ｃ＝２，エタノール） 尚、本実施例におけるMIBKの使用量は結晶
別温度（10℃）において、溶液中に存在する過剰
量の（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸アミドが飽和溶液となるに相当する量の
1.25倍である。 尚、以下の実施例においてMIBK量として単に
倍数で示してあるのは全て上記と同様のことを意
味する。 実施例２〜４および比較例１〜２ 表−１に示すMIBKの使用量および結晶別温
度とする以外は実施例１と同様に処理した結果を
表−１に示す。
【表】
実施例 ５
温度計、撹拌装置および冷却管を装着した四つ
口フラスコに参考例１で得た光学純度82.5％の
２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ド５ｇおよび20℃において水分量飽和の含水メチ
ルイソブチルケトン（水分2.5〜３％）100ｇ
（0.83倍）を仕込み、昇温して溶解させたのち20
℃まで冷却する。同温度で析出結晶を別して、
結晶側に光学純度16.5％の２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸アミドを得る。液を濃縮
し、これにヘキサンを加えて析出結晶を取し、
結晶を乾燥すると光学純度99％の（＋）−２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド４ｇ
（回収率80％）が得られた。 融点 137.5〜139℃ α〕20 546＋99゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ６ 温度計、撹拌装置、冷却管および滴下ロートを
装着した四つ口フラスコに２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸（光学純度80％）114.1ｇ
（１モル）を仕込み、60〜70℃で塩化チオニル
121.3ｇ（1.02モル）を２時間で滴下したのち４
時間保温する。 この反応液を上記と同様のフラスコに仕込んだ
14％アンモニア水454.4ｇ（3.74モル）と
MIBK500ｇの混合液に−２〜５℃で２時間を要
して滴下ロートより滴下する。同温度で30分間保
温したのち硫酸でPHが７以下となるように中和す
る。その後75〜80℃に昇温、溶解し、分液する。
分液水層にMIBK250ｇを加えて再抽出する。 MIBK層を合わせ、水洗したのち30℃まで冷却
し、同温度で熟成したのち同温度で析出結晶を
取する。 別結晶として光学純度19.8％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミドを含む粗ケ
ーキが得られた。 液は減圧下に濃縮したのちヘキサンを加え、
析出結晶を取し、減圧乾燥して光学純度98％の
（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸アミド87.16ｇを得た。 融点 136〜137.5℃ α〕20 546＋99゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ７ 実施例３および４で得た別結晶各１ｇ合わせ
た光学純度31.5％の２，２−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸アミド２ｇおよびMIBK20ｇを70
℃で１時間撹拌して結晶を溶解させたのち、25℃
まで徐冷し、同温度で30分撹拌する。析出結晶を
取し、減圧乾燥すると光学純度6.7％の２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドが得
られた。 液からMIBKを留去し、乾燥すると光学純度
97％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸アミド0.57ｇが得られた。 α〕20 546＋97゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ８ 実施例６において、光学純度80％の２，２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸に代えて光学純
度90％の２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸を使用し、かつMIBKのそれぞれの使用場面
における使用量をそれぞれ565ｇ、282.5ｇとする
以外は実施例６と全く同様の操作を行ない、別
結晶として光学純度46％の２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸アミドを得、液側から光
学純度99％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミドの結晶93.9ｇを得た。 融点 136〜137.5℃ α〕20 546＋99.5゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ９ 参考例１で得た光学純度82.5％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミド５ｇおよび
酢酸エチル100ｇを還流下に１時間保持したのち
徐冷し、30℃まで冷却する。同温度で析出結晶を
別し、液はそのまま濃縮後ヘキサンを加え、
析出結晶を取。乾燥することにより光学純度
98.3％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸アミド3.65ｇを得る。 α〕20 546＋99.2゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 10 酢酸エチルに代えてクロロホルム250ｇを使用
する以外は実施例11と全く同様に処理して、光学
純度97.9％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミド3.4ｇを得た。 実施例 11 参考例１で得た光学純度82.5％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミド５ｇおよび
20％エタノール50ｇを80℃で１時間保持したのち
徐冷し、35℃まで冷却する。同温度で１時間保温
したのち析出結晶を別する。液はそのまま濃
縮し、更にエタノールを加えて共沸脱水したのち
濃縮残渣にヘキサンを加え、析出結晶を取、乾
燥することにより光学純度97.3％の（＋）−２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド
3.80ｇを得た。 α〕20 546＋97.7℃（Ｃ＝２，エタノール）
口フラスコに参考例１で得た光学純度82.5％の
２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ド５ｇおよび20℃において水分量飽和の含水メチ
ルイソブチルケトン（水分2.5〜３％）100ｇ
（0.83倍）を仕込み、昇温して溶解させたのち20
℃まで冷却する。同温度で析出結晶を別して、
結晶側に光学純度16.5％の２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸アミドを得る。液を濃縮
し、これにヘキサンを加えて析出結晶を取し、
結晶を乾燥すると光学純度99％の（＋）−２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド４ｇ
（回収率80％）が得られた。 融点 137.5〜139℃ α〕20 546＋99゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ６ 温度計、撹拌装置、冷却管および滴下ロートを
装着した四つ口フラスコに２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸（光学純度80％）114.1ｇ
（１モル）を仕込み、60〜70℃で塩化チオニル
121.3ｇ（1.02モル）を２時間で滴下したのち４
時間保温する。 この反応液を上記と同様のフラスコに仕込んだ
14％アンモニア水454.4ｇ（3.74モル）と
MIBK500ｇの混合液に−２〜５℃で２時間を要
して滴下ロートより滴下する。同温度で30分間保
温したのち硫酸でPHが７以下となるように中和す
る。その後75〜80℃に昇温、溶解し、分液する。
分液水層にMIBK250ｇを加えて再抽出する。 MIBK層を合わせ、水洗したのち30℃まで冷却
し、同温度で熟成したのち同温度で析出結晶を
取する。 別結晶として光学純度19.8％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミドを含む粗ケ
ーキが得られた。 液は減圧下に濃縮したのちヘキサンを加え、
析出結晶を取し、減圧乾燥して光学純度98％の
（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸アミド87.16ｇを得た。 融点 136〜137.5℃ α〕20 546＋99゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ７ 実施例３および４で得た別結晶各１ｇ合わせ
た光学純度31.5％の２，２−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸アミド２ｇおよびMIBK20ｇを70
℃で１時間撹拌して結晶を溶解させたのち、25℃
まで徐冷し、同温度で30分撹拌する。析出結晶を
取し、減圧乾燥すると光学純度6.7％の２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドが得
られた。 液からMIBKを留去し、乾燥すると光学純度
97％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸アミド0.57ｇが得られた。 α〕20 546＋97゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ８ 実施例６において、光学純度80％の２，２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸に代えて光学純
度90％の２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸を使用し、かつMIBKのそれぞれの使用場面
における使用量をそれぞれ565ｇ、282.5ｇとする
以外は実施例６と全く同様の操作を行ない、別
結晶として光学純度46％の２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸アミドを得、液側から光
学純度99％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミドの結晶93.9ｇを得た。 融点 136〜137.5℃ α〕20 546＋99.5゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 ９ 参考例１で得た光学純度82.5％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミド５ｇおよび
酢酸エチル100ｇを還流下に１時間保持したのち
徐冷し、30℃まで冷却する。同温度で析出結晶を
別し、液はそのまま濃縮後ヘキサンを加え、
析出結晶を取。乾燥することにより光学純度
98.3％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸アミド3.65ｇを得る。 α〕20 546＋99.2゜（Ｃ＝２，エタノール） 実施例 10 酢酸エチルに代えてクロロホルム250ｇを使用
する以外は実施例11と全く同様に処理して、光学
純度97.9％の（＋）−２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミド3.4ｇを得た。 実施例 11 参考例１で得た光学純度82.5％の２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミド５ｇおよび
20％エタノール50ｇを80℃で１時間保持したのち
徐冷し、35℃まで冷却する。同温度で１時間保温
したのち析出結晶を別する。液はそのまま濃
縮し、更にエタノールを加えて共沸脱水したのち
濃縮残渣にヘキサンを加え、析出結晶を取、乾
燥することにより光学純度97.3％の（＋）−２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド
3.80ｇを得た。 α〕20 546＋97.7℃（Ｃ＝２，エタノール）
Claims (1)
- １ いずれか一方の光学活性体が過剰にある２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの
光学活性混合物を溶媒中に加熱下に溶解させ、次
いで冷却してラセミ体を析出、別し、液から
光学活性体を回収する方法であつて、溶媒の使用
量が、光学活性混合物中の過剰量の光学活性体が
ラセミ体の結晶別温度において飽和溶液となる
に相当する量の0.75〜1.3倍量の範囲であること
を特徴とする光学活性２，２−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸アミドの取得方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5463384A JPS60197647A (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 光学活性酸アミドの取得方法 |
| EP19850301285 EP0155779B1 (en) | 1984-02-28 | 1985-02-26 | A method for the optical purification of an optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid amide |
| DE8585301285T DE3569725D1 (en) | 1984-02-28 | 1985-02-26 | A method for the optical purification of an optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid amide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5463384A JPS60197647A (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 光学活性酸アミドの取得方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60197647A JPS60197647A (ja) | 1985-10-07 |
| JPH0446265B2 true JPH0446265B2 (ja) | 1992-07-29 |
Family
ID=12976159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5463384A Granted JPS60197647A (ja) | 1984-02-28 | 1984-03-21 | 光学活性酸アミドの取得方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60197647A (ja) |
-
1984
- 1984-03-21 JP JP5463384A patent/JPS60197647A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60197647A (ja) | 1985-10-07 |
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| JPS6252754B2 (ja) |
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