JPS60197647A - 光学活性酸アミドの取得方法 - Google Patents
光学活性酸アミドの取得方法Info
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- JPS60197647A JPS60197647A JP5463384A JP5463384A JPS60197647A JP S60197647 A JPS60197647 A JP S60197647A JP 5463384 A JP5463384 A JP 5463384A JP 5463384 A JP5463384 A JP 5463384A JP S60197647 A JPS60197647 A JP S60197647A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本晃明は、いずれか一方の光学活性体が過剰にある２、
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの光学活
性混合物から、光学的に高純度の光学活性２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミドを取得する方法に
関する。
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの光学活
性混合物から、光学的に高純度の光学活性２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミドを取得する方法に
関する。
光学活性な２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
アミド（以下、単に酸アミドという）は、たとえばデヒ
ドロペプチダーゼＩ阻害剤の中間体として極めて有用な
化合物であり、その目的からも高い光学純度が要求され
ている。
アミド（以下、単に酸アミドという）は、たとえばデヒ
ドロペプチダーゼＩ阻害剤の中間体として極めて有用な
化合物であり、その目的からも高い光学純度が要求され
ている。
従来、かかる光学活性な酸アミドの取得方法としては、
たとえばｄ＃−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸を光学分割して光学活性ｔｔ２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸を得、これを酸クロリドとしたの
ちアミド化する方法（特開昭５６−８１５１８号公報）
が知られているが、この方法は原料として光学活性な２
，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を用いるもの
であるため、原料化合物を光学的に高純度にしなければ
ならないという問題がある。
たとえばｄ＃−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸を光学分割して光学活性ｔｔ２，２−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸を得、これを酸クロリドとしたの
ちアミド化する方法（特開昭５６−８１５１８号公報）
が知られているが、この方法は原料として光学活性な２
，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を用いるもの
であるため、原料化合物を光学的に高純度にしなければ
ならないという問題がある。
また、いずれか一方の光学活性体が過剰にある酸アミド
の光学活性混合物は、たとえば米国特許第４．０２９，
６９０号明細書に記載されるような方法により得ること
ができるが、かかる光学活性混合物から高純度の光学活
性酸アミドを取得する方法については全く知られていな
い。
の光学活性混合物は、たとえば米国特許第４．０２９，
６９０号明細書に記載されるような方法により得ること
ができるが、かかる光学活性混合物から高純度の光学活
性酸アミドを取得する方法については全く知られていな
い。
しかし、光学活性な酸アミドを取得するために、かかる
光学活性混合物から過剰員含まれる光学活性酸アミドの
みを容易に分離、取得できれば、その工業的利用価値は
非富に高いものとなるのである。
光学活性混合物から過剰員含まれる光学活性酸アミドの
みを容易に分離、取得できれば、その工業的利用価値は
非富に高いものとなるのである。
一方、本発明者らは光学活性酸アミ、ドを得るべく種々
検討した中で、ｄ７（−酸アミドが光学活性酸アミドに
比して融点が高く、また溶媒に対する溶解度も低いこと
を見出した（たとえばメチルイソブチルケトン中、２５
℃における溶解度はｄｌｊ一体が０．５〜０．８％ｄ一
体が８．２〜８．５％）が、このことは酸アｊＦの光学
活性混合物を再結晶処理した場合には、結晶として得ら
れる酸アミドはラセミに近くなるであろうことを示し、
またＰ液側に高い光学純匿の光学活性酸アミドを得るー
ことは困難であろうことを示している。
検討した中で、ｄ７（−酸アミドが光学活性酸アミドに
比して融点が高く、また溶媒に対する溶解度も低いこと
を見出した（たとえばメチルイソブチルケトン中、２５
℃における溶解度はｄｌｊ一体が０．５〜０．８％ｄ一
体が８．２〜８．５％）が、このことは酸アｊＦの光学
活性混合物を再結晶処理した場合には、結晶として得ら
れる酸アミドはラセミに近くなるであろうことを示し、
またＰ液側に高い光学純匿の光学活性酸アミドを得るー
ことは困難であろうことを示している。
また、一般に、いずれか一方が光学的過剰にある光学活
性混合物の再結晶法による光学精製では、結晶側に高光
学純度品が得られ、Ｆ液側に高純度の光学活性体が得ら
れることは始んど例がなく、実際、酸アミドの光学活性
混合物を通常の方法により再結晶処理しても、結晶側お
よびＦ液側のいずれにも高光学純度の光学活性酸アミド
は得られない。
性混合物の再結晶法による光学精製では、結晶側に高光
学純度品が得られ、Ｆ液側に高純度の光学活性体が得ら
れることは始んど例がなく、実際、酸アミドの光学活性
混合物を通常の方法により再結晶処理しても、結晶側お
よびＦ液側のいずれにも高光学純度の光学活性酸アミド
は得られない。
このまうなことから、本発明者らはいずれか一方が光学
的過剰にある酸アミドの光学活性混合物から光学活性酸
アミドを高純度、好収率で分離、取得すべく検討の結果
、光学活性酸アミドの飽和溶液もしくは飽和に近い濃度
の溶液にはｄｌ−酸アミドが極めて僅かな量しか溶解せ
ず、かかる溶液にｄｌ−酸アミドを加えてもｄｌ−酸ア
ミドが溶解しないばかりか、ｄｌ−酸アミドが溶解した
溶液に、飽和量もしくはそれに近い量の光学活性酸アミ
ドを加えて溶解させると、ｄｌ−酸アミドが結晶として
析出してくることを見出し、かかる知見に基いて更に検
討を進めた結果、本発明に至った。
的過剰にある酸アミドの光学活性混合物から光学活性酸
アミドを高純度、好収率で分離、取得すべく検討の結果
、光学活性酸アミドの飽和溶液もしくは飽和に近い濃度
の溶液にはｄｌ−酸アミドが極めて僅かな量しか溶解せ
ず、かかる溶液にｄｌ−酸アミドを加えてもｄｌ−酸ア
ミドが溶解しないばかりか、ｄｌ−酸アミドが溶解した
溶液に、飽和量もしくはそれに近い量の光学活性酸アミ
ドを加えて溶解させると、ｄｌ−酸アミドが結晶として
析出してくることを見出し、かかる知見に基いて更に検
討を進めた結果、本発明に至った。
すなわち、本発明は、いずれか一方の光学活性体が過剰
にある２、２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ドの光学活性混合物を溶媒中に加熱下に溶解させ、次い
で冷却してラセミ体を析出、炉別し、Ｐ液から光学活性
体を回収する方法であって、溶媒の使用量が、光学活性
混合物中の過剰風の光学活性体がラセミ体の結晶ｖ別温
度において飽和溶液となるに相当する皿の０．７５〜１
．８倍爪の範囲であることを特徴とする光学活性２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの取得方法
を提供するものである。
にある２、２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ドの光学活性混合物を溶媒中に加熱下に溶解させ、次い
で冷却してラセミ体を析出、炉別し、Ｐ液から光学活性
体を回収する方法であって、溶媒の使用量が、光学活性
混合物中の過剰風の光学活性体がラセミ体の結晶ｖ別温
度において飽和溶液となるに相当する皿の０．７５〜１
．８倍爪の範囲であることを特徴とする光学活性２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの取得方法
を提供するものである。
本発明で使用される溶媒としては、酸アミドに対して不
活性であって、酸アミドを少しでも溶解し得る能力を有
するものであれば特に制限なく使用されるが、効率面か
らは溶解度が高い程、またｄｌ−酸アミドに対しては溶
解度が低い程好ましい。最も好ましいのは光学活性酸ア
ミドとｄｌｊ−酸アミドに対する溶解度差が大きく、か
つ光学活性酸アミドに対する溶解度が比較的高い溶媒で
ある。
活性であって、酸アミドを少しでも溶解し得る能力を有
するものであれば特に制限なく使用されるが、効率面か
らは溶解度が高い程、またｄｌ−酸アミドに対しては溶
解度が低い程好ましい。最も好ましいのは光学活性酸ア
ミドとｄｌｊ−酸アミドに対する溶解度差が大きく、か
つ光学活性酸アミドに対する溶解度が比較的高い溶媒で
ある。
かかる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類
、酢ｌ！エチル、酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチ
ル、酢酸ペンチルなどのエステル類、ジクロルメタン、
クロロホルム、ジクロルエタン、テトラクロルエタン、
ジクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を例示するこ
とができ、これらは水を含んでいてもよい。
ロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類
、酢ｌ！エチル、酢酸イソプロピル、プロピオン酸メチ
ル、酢酸ペンチルなどのエステル類、ジクロルメタン、
クロロホルム、ジクロルエタン、テトラクロルエタン、
ジクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を例示するこ
とができ、これらは水を含んでいてもよい。
かかる溶媒の使用量は本発明において非常に重要であり
、ラセミ体の結晶炉別温度において、過剰屋の光学活性
体が飽和溶液となるに相当する鍬の０，７５〜１．８倍
屋、好ましくかあまりに少なく、あるいはあまりに多い
場合には操作性や生産性などの点で好ましくなく、通常
は溶媒の種類や温度等を適宜設定す重凰部となる範囲で
使用される。
、ラセミ体の結晶炉別温度において、過剰屋の光学活性
体が飽和溶液となるに相当する鍬の０，７５〜１．８倍
屋、好ましくかあまりに少なく、あるいはあまりに多い
場合には操作性や生産性などの点で好ましくなく、通常
は溶媒の種類や温度等を適宜設定す重凰部となる範囲で
使用される。
溶解〜結晶炉別の操作温度は使用溶媒の凝固温良から誹
点までの間で任意に選択されるが、一般的には下限温間
は一２０’Ｃである。
点までの間で任意に選択されるが、一般的には下限温間
は一２０’Ｃである。
なおオートクレーブを使用すれば電圧における溶媒のｖ
ト点以上の高温でも適用可能であるが、実用的にはあま
り有利でない。
ト点以上の高温でも適用可能であるが、実用的にはあま
り有利でない。
本発明を実施するにあたって、光学活性混合物を溶解し
たのち冷却して析出するラセミ酸アミドを炉別する温度
と使用する溶媒量を適正に設定しなければならない。
たのち冷却して析出するラセミ酸アミドを炉別する温度
と使用する溶媒量を適正に設定しなければならない。
一般には、ラセミ酸アミドを比較的高い温度で炉別する
場合には溶媒量は少な目に、また低い温度で炉別する場
合には多い目に使用される。
場合には溶媒量は少な目に、また低い温度で炉別する場
合には多い目に使用される。
以下に、本発明を実施するための一般的操作を述べる。
光学的過剰にある酸アミドを適企鳳の溶媒中で加熱、溶
解させる。この際、該酸アミドを完全に溶解させる必要
は必ずしもなく、ラセミ酸アミドが不溶性の結晶として
一部残っていてもよい。次に徐冷し、析出したラセミ酸
アミドを適正な温度で炉取する。
解させる。この際、該酸アミドを完全に溶解させる必要
は必ずしもなく、ラセミ酸アミドが不溶性の結晶として
一部残っていてもよい。次に徐冷し、析出したラセミ酸
アミドを適正な温度で炉取する。
Ｐ液からの光学活性酸アミドの回収は、たとえば、Ｆ液
を濃縮したのちヘキサン、ヘプタン１、石油エーテル、
リグロインなどの光学活性酸アミドに不溶性の溶媒を加
えて光学活性酸アミドの結晶を析出させるか、上記濃縮
液を冷却して結晶を析出させ、これを炉取する等の方法
により行なうことができる。
を濃縮したのちヘキサン、ヘプタン１、石油エーテル、
リグロインなどの光学活性酸アミドに不溶性の溶媒を加
えて光学活性酸アミドの結晶を析出させるか、上記濃縮
液を冷却して結晶を析出させ、これを炉取する等の方法
により行なうことができる。
かくして、本発明の方法によって極めて高い光学純度の
光学活性酸アミドを得ることができる。
光学活性酸アミドを得ることができる。
尚、本発明において使用される溶媒は前記したとおりで
あるが、本発明の原料である酸アミドの光学活性混合物
を製這する際に使用されると同一の溶媒を用いるのが工
業的にも有利である。
あるが、本発明の原料である酸アミドの光学活性混合物
を製這する際に使用されると同一の溶媒を用いるのが工
業的にも有利である。
以下、実施例により本発明を説明するっ参考例１
温度計、攪拌装置および滴下ロートを装着した四つ目フ
ラスコに１４％アンモニア水２２８、 ｌ ６ ｙおよ
びメチルインブチルケトン４００２を仕込み、これに−
５〜５℃にて光学純度８２．５％の２，２−ジメチルシ
クロプロパンカル−ボン酸クロリド８０ｙを８時間を要
して滴下する。滴下終了後同温度で１時間保温する。
ラスコに１４％アンモニア水２２８、 ｌ ６ ｙおよ
びメチルインブチルケトン４００２を仕込み、これに−
５〜５℃にて光学純度８２．５％の２，２−ジメチルシ
クロプロパンカル−ボン酸クロリド８０ｙを８時間を要
して滴下する。滴下終了後同温度で１時間保温する。
反応液を濃硫酸でｐＨが７となるように中和したのち８
０℃に加温し、同温度で油層と水層に分液する。水層に
メチルイソブチルケトン２００ノを加えて抽出処理し、
油層と水層に分液する。得られた油層（メチルイソブチ
ルケトン層）を合わせて水洗し、濃縮後ヘキサンを加え
る。析出結晶をＰ取し、乾燥すルト光学純度８２．５％
の２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド６
７．６ ｙが得られる。
０℃に加温し、同温度で油層と水層に分液する。水層に
メチルイソブチルケトン２００ノを加えて抽出処理し、
油層と水層に分液する。得られた油層（メチルイソブチ
ルケトン層）を合わせて水洗し、濃縮後ヘキサンを加え
る。析出結晶をＰ取し、乾燥すルト光学純度８２．５％
の２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド６
７．６ ｙが得られる。
屹施例１
温度計、攪拌装置および冷却管を装着した四つ目フラス
コに参考例１で得た光学純度８２．５％の２．２−ジメ
チルシルクプロパンカルボン酸アミド５２およびメチル
イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１７６ｐを仕込み、昇温
しで溶解させたのち１０℃まで冷却する。
コに参考例１で得た光学純度８２．５％の２．２−ジメ
チルシルクプロパンカルボン酸アミド５２およびメチル
イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）１７６ｐを仕込み、昇温
しで溶解させたのち１０℃まで冷却する。
同温度で析出結晶を炉別して、結晶側に光学Ｍ度２０．
１％の２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ドを得る。ｐ液を濃縮し、これにヘキサンを加えて析出
結晶をＰ取し、結晶を乾燥すると光学純［９７，５％の
（イ）−２゜２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ア
ミド４．０８Ｆ（回収率８０．６％）が得られた。
１％の２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミ
ドを得る。ｐ液を濃縮し、これにヘキサンを加えて析出
結晶をＰ取し、結晶を乾燥すると光学純［９７，５％の
（イ）−２゜２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ア
ミド４．０８Ｆ（回収率８０．６％）が得られた。
融点 １８７〜１８９℃
α〕＋９８°（Ｃ−２，エタノール）
４６
尚、本実施例におけるＭＩＢＫの使用量は結晶Ｐ側温Ｊ
ｌｉ：（１０℃）において、溶液中に存在する過剰員の
（＋１−２ 、２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
アミドが飽和溶液となるに相当する量の１．２５倍であ
る。
ｌｉ：（１０℃）において、溶液中に存在する過剰員の
（＋１−２ 、２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
アミドが飽和溶液となるに相当する量の１．２５倍であ
る。
尚、以下の実施例においてＭＩＢＫ！ｌとして単に倍数
で示しであるのは全て上記と同様のことを意味する。
で示しであるのは全て上記と同様のことを意味する。
実施例２〜４および比較例１〜２
表−１に示すＭＩ ＢＫの使用量および結晶Ｐ側温度と
する以外は実施例１と同様に処理した結果を表−１に示
す。
する以外は実施例１と同様に処理した結果を表−１に示
す。
実施例５
温度計、攪拌装置および冷却管を装着した四つ目フラス
コに参考例１で得た光学純度８２．５％の２．２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミド５２および２０℃
において水分鳳飽和の含水メチルインブチルケトン（水
分２．５〜８％） １００ Ｆ （０，８８倍）を仕込
み、昇温して溶解させたのち２０℃まで冷却する。同温
度で析出結晶をＰ別して、結晶側に光学純度１６．５％
の２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドを
得る。Ｐ液を濃縮し、これにヘキサンを加えて析出結晶
を枦取し、結晶を乾燥すると光学純度９９シのｆ−）１
−２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド４
ノ（回収率８０％）が得うれた。
コに参考例１で得た光学純度８２．５％の２．２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸アミド５２および２０℃
において水分鳳飽和の含水メチルインブチルケトン（水
分２．５〜８％） １００ Ｆ （０，８８倍）を仕込
み、昇温して溶解させたのち２０℃まで冷却する。同温
度で析出結晶をＰ別して、結晶側に光学純度１６．５％
の２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドを
得る。Ｐ液を濃縮し、これにヘキサンを加えて析出結晶
を枦取し、結晶を乾燥すると光学純度９９シのｆ−）１
−２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド４
ノ（回収率８０％）が得うれた。
融点 １８７．５〜１８９℃
α〕＋９９°（Ｃ雪２．エタノール）
４６
実施例６
温度計、攪拌装置、冷却管および滴下ロードを装着した
四つロフラスコに２．２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸１学純度８０％）ｌ１４．１ｐ（１モル）を仕込
み、６０〜７０℃で塩化チオニル１２１．Ｂｙ（１，０
２モル）を２時間で滴Ｆしたのち４時間保温する。
四つロフラスコに２．２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸１学純度８０％）ｌ１４．１ｐ（１モル）を仕込
み、６０〜７０℃で塩化チオニル１２１．Ｂｙ（１，０
２モル）を２時間で滴Ｆしたのち４時間保温する。
この反応液を上記と同様のフラスコに仕込んだ１４％ア
ンモニア水４６４．４Ｆ（８，７４モル）とＭＩＢＫ５
００ｆＩの混合液に一２〜５℃で２時間を要して滴下ロ
ートより滴下する。同温度で３０分間保温したのち硫酸
でｐＨが７以下となるように中和する。その後７５〜８
０℃に昇温、溶解し、分液する。分液水層にＭＩＢＫ２
５Ｏｒを加えて再抽出する。
ンモニア水４６４．４Ｆ（８，７４モル）とＭＩＢＫ５
００ｆＩの混合液に一２〜５℃で２時間を要して滴下ロ
ートより滴下する。同温度で３０分間保温したのち硫酸
でｐＨが７以下となるように中和する。その後７５〜８
０℃に昇温、溶解し、分液する。分液水層にＭＩＢＫ２
５Ｏｒを加えて再抽出する。
ＭＩＢＫ層を合わせ、水洗したのち８０℃まで冷却し、
同温度で熟成したのち同温度で析出結晶をデ取する。
同温度で熟成したのち同温度で析出結晶をデ取する。
Ｐ別結晶として光学純度１９．８％の２，２−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸アミドを含む粗ケーキが得ら
れた。
シクロプロパンカルボン酸アミドを含む粗ケーキが得ら
れた。
Ｆ液は減圧下に濃縮したのちヘキサンを加え、析出結晶
を枦取し、減圧乾燥して光学純度９８％の（−１−）−
２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド８７
． ｌ ６ ｆを得た。
を枦取し、減圧乾燥して光学純度９８％の（−１−）−
２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド８７
． ｌ ６ ｆを得た。
融点 １８６〜１８７．５℃
０
α〕＋９９°（Ｃ耽２．エタノール）
４６
実施例７
実施例８および４で得たＰ別結晶各ｌｙを合ワせり光学
純度８１．５％の２．２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸アミド２ｙおよびＭＩＢＫ２０ｙを７０℃で１時
間攪拌して結晶を溶解させたのち、２５℃まで徐冷し、
同温度で３０分攪拌する。析出結晶をＰ取し、減圧乾燥
するとｆｆｉ学Ｍ度６．７％の２．２−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸アミドが得られた。
純度８１．５％の２．２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸アミド２ｙおよびＭＩＢＫ２０ｙを７０℃で１時
間攪拌して結晶を溶解させたのち、２５℃まで徐冷し、
同温度で３０分攪拌する。析出結晶をＰ取し、減圧乾燥
するとｆｆｉ学Ｍ度６．７％の２．２−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸アミドが得られた。
Ｐ液からＭＩＢＫを留去し、乾燥すると光学［１［９７
％の（−Ｆｌ−２、２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸アミド０．５７ Ｆが得られた。
％の（−Ｆｌ−２、２−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸アミド０．５７ Ｆが得られた。
α〕 ＋９７° （Ｃ−２，エタノール）４６
実施例８
実施例６において、光学純度８０％の２゜２−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸に代えて光学純度９０％の２
．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を使用し、か
つＭＩＢＫのそれぞれの使用場面における使用態をそれ
ぞれ５６５２．２Ｂ２．６ｙとする以外は実施例６と全
く同様の操作を行ない、炉別結晶として光学純度４６％
の２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドを
得、Ｐ液側から光学純度９９％の（−１−１−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの結晶９８．
９２を得た。
シクロプロパンカルボン酸に代えて光学純度９０％の２
．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を使用し、か
つＭＩＢＫのそれぞれの使用場面における使用態をそれ
ぞれ５６５２．２Ｂ２．６ｙとする以外は実施例６と全
く同様の操作を行ない、炉別結晶として光学純度４６％
の２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドを
得、Ｐ液側から光学純度９９％の（−１−１−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの結晶９８．
９２を得た。
融点 １８６〜１８７．６℃
０
α） ＋９９．５°（Ｃ−２，エタノール）４６
実施例９
参考例１で得た光学純度８２．５％の２．２−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸アミド５２および酢酸エチル
１００ノを還流下に１時間保持したのち徐冷し、８０℃
まで冷却する。同温度で析出結晶を炉別し、Ｐ液はその
まま亀縮後ヘキサンを加え、析出結晶をＰ取。
シクロプロパンカルボン酸アミド５２および酢酸エチル
１００ノを還流下に１時間保持したのち徐冷し、８０℃
まで冷却する。同温度で析出結晶を炉別し、Ｐ液はその
まま亀縮後ヘキサンを加え、析出結晶をＰ取。
乾燥することにより光学純度９８．８％の（＋）−２，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド８．６５
ｙを得る。
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミド８．６５
ｙを得る。
０
α：］ ＋９９．２° （Ｃ−２，エタノール）４６
実施例１Ｏ
酢酸エチルに代えてクロロホルム２５０ｙを使用する以
外は実施例１１と全く同様に処理して、光学純度９７．
９％の（旧−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸アミド８．４２を得た。
外は実施例１１と全く同様に処理して、光学純度９７．
９％の（旧−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸アミド８．４２を得た。
実施例１１
参考例１で得た光学純度８２．６％の２．２−ジメチル
シクロプロパンカル・ボン酸アミド５２および２０％エ
タノール５０２を８０℃で１時間保持したのち徐冷し、
８５℃まで冷却する。同温度で１時間保温したのち析出
結晶を炉別する。Ｆ液はそのまま濃縮し、更にエタノー
ルを加えて共沸脱水したのち濃縮残液にヘキサンを加え
、析出結晶をＦ取、乾燥することにより光学純度９７．
８％の（−１−１−２゜２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸アミド８．８０ｙを得た。
シクロプロパンカル・ボン酸アミド５２および２０％エ
タノール５０２を８０℃で１時間保持したのち徐冷し、
８５℃まで冷却する。同温度で１時間保温したのち析出
結晶を炉別する。Ｆ液はそのまま濃縮し、更にエタノー
ルを加えて共沸脱水したのち濃縮残液にヘキサンを加え
、析出結晶をＦ取、乾燥することにより光学純度９７．
８％の（−１−１−２゜２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸アミド８．８０ｙを得た。
０
α） ＋９７．７℃ （Ｃ−２，エタノール）４６
Claims (1)
- ［１） いずれか一方の光学活性体が過剰にある２、２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸アミドの光学活性
混合物を溶媒中に加熱下に溶解さ、せ、次いで冷却して
ラセミ体を析出、Ｐ別し、Ｆ液から光学活性体を回収す
る方法であって、ｆｌＩＩｓの使用量が、光学活性混合
物中の過剰員の光学活性体がラセミ体の結晶Ｐ別温度に
おいて飽和溶液となるに相当する量の０．７６〜１．８
倍量の範囲であることを特徴とする光学活性２；２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸アミドの取得方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5463384A JPS60197647A (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 光学活性酸アミドの取得方法 |
| EP19850301285 EP0155779B1 (en) | 1984-02-28 | 1985-02-26 | A method for the optical purification of an optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid amide |
| DE8585301285T DE3569725D1 (en) | 1984-02-28 | 1985-02-26 | A method for the optical purification of an optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid amide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5463384A JPS60197647A (ja) | 1984-03-21 | 1984-03-21 | 光学活性酸アミドの取得方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60197647A true JPS60197647A (ja) | 1985-10-07 |
| JPH0446265B2 JPH0446265B2 (ja) | 1992-07-29 |
Family
ID=12976159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5463384A Granted JPS60197647A (ja) | 1984-02-28 | 1984-03-21 | 光学活性酸アミドの取得方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60197647A (ja) |
-
1984
- 1984-03-21 JP JP5463384A patent/JPS60197647A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0446265B2 (ja) | 1992-07-29 |
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