JPH0446800A - ワーク切断用治具 - Google Patents
ワーク切断用治具Info
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- JPH0446800A JPH0446800A JP15206990A JP15206990A JPH0446800A JP H0446800 A JPH0446800 A JP H0446800A JP 15206990 A JP15206990 A JP 15206990A JP 15206990 A JP15206990 A JP 15206990A JP H0446800 A JPH0446800 A JP H0446800A
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- cutting
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り東よ立旦ユ上I
本発明は、種々の用途に使用される、例えばセラミック
ス基板などのようなワークを所定形状に切断する際に使
用する治具に関するものであり、特に、磁性膜が積層さ
れた磁気ヘッド用セラミックス基板を矩形に切断する際
に好適に使用することのできるワーク切断用治具に関す
るものである。
ス基板などのようなワークを所定形状に切断する際に使
用する治具に関するものであり、特に、磁性膜が積層さ
れた磁気ヘッド用セラミックス基板を矩形に切断する際
に好適に使用することのできるワーク切断用治具に関す
るものである。
従」LΩ」L術
近年、磁気記録分野において磁気ヘッドとして、例えば
Fe−3t−Aβ合金磁性膜を用いた薄膜積層磁気ヘッ
ドが注目を浴びている。該磁気ヘッドを製造する過程に
おいて、第10図に図示されるように、セラミックスか
ら成る基板101上にFe−5i−Aj2合金磁性膜1
02が成膜された磁性膜積層セラミックス基板100が
作製される。該磁性膜積層セラミックス基板100は、
次いで第11図に図示されるように、矩形状に切断され
、複数のチップ100°とされる。各チップ100°は
互にガラス溶着され、多(の加工を経て最終的に磁気コ
アが作製される。
Fe−3t−Aβ合金磁性膜を用いた薄膜積層磁気ヘッ
ドが注目を浴びている。該磁気ヘッドを製造する過程に
おいて、第10図に図示されるように、セラミックスか
ら成る基板101上にFe−5i−Aj2合金磁性膜1
02が成膜された磁性膜積層セラミックス基板100が
作製される。該磁性膜積層セラミックス基板100は、
次いで第11図に図示されるように、矩形状に切断され
、複数のチップ100°とされる。各チップ100°は
互にガラス溶着され、多(の加工を経て最終的に磁気コ
アが作製される。
従来、磁性膜積層セラミックス基板100の矩形切断を
なすに当たっては、第9図に図示されるように、先ず、
ガラス基板200にワックス201にて高平面度を有す
る、例えばシリコンウェファ、フェライト、カーボンな
どのような下敷板202を貼付し、次いで該下敷板20
2の上にワックス203にて磁性膜積層セラミックス板
100が貼付された。一般には磁性膜102の面が下敷
板202との接着面とされる。
なすに当たっては、第9図に図示されるように、先ず、
ガラス基板200にワックス201にて高平面度を有す
る、例えばシリコンウェファ、フェライト、カーボンな
どのような下敷板202を貼付し、次いで該下敷板20
2の上にワックス203にて磁性膜積層セラミックス板
100が貼付された。一般には磁性膜102の面が下敷
板202との接着面とされる。
斯る構成にて、例えば磁性膜積層セラミックス板100
を回転するダイアモンドブレード204の方へと移動さ
せることによって、該ブレード204が磁性膜積層セラ
ミックス基板100を切断するが、このときダイアモン
ドブレード204は、下敷板202まで切込むことが必
要とされた。切断後、磁性膜積層セラミックス基板、つ
まり、複数のチップ101°は、ワックス201.20
3を加熱して溶かすことによりガラス基板200及び下
敷板202から分離される。
を回転するダイアモンドブレード204の方へと移動さ
せることによって、該ブレード204が磁性膜積層セラ
ミックス基板100を切断するが、このときダイアモン
ドブレード204は、下敷板202まで切込むことが必
要とされた。切断後、磁性膜積層セラミックス基板、つ
まり、複数のチップ101°は、ワックス201.20
3を加熱して溶かすことによりガラス基板200及び下
敷板202から分離される。
が しよ と る
しかしながら、従来の上記切断方法は次のような問題が
あった。
あった。
(1)十分な平面度を有する板を下敷板として使い捨て
にて用いるのは不経済である。
にて用いるのは不経済である。
(2)ワックスによる貼り付け、及びワックスの剥しに
は、加熱、冷却が必要であり、時間と手間がかかる。
は、加熱、冷却が必要であり、時間と手間がかかる。
(3)下敷板とセラミックス基板とは材質が異なるため
に、セラミックス基板を切断するのに最適なダイアモン
ドブレードでは、下敷板をうまく切断し得ないことがあ
り、作業能率が悪い。
に、セラミックス基板を切断するのに最適なダイアモン
ドブレードでは、下敷板をうまく切断し得ないことがあ
り、作業能率が悪い。
(4)下敷板を切断することによってブレードの摩耗は
大となる。
大となる。
(5)ブレードはワックスをも切込むこととなるために
、ワックスがブレードの目詰まりの原因となる。
、ワックスがブレードの目詰まりの原因となる。
本発明者らは、このような問題を解決するべく多(の研
究実験を行った結果、磁性膜積層セラミックス基板のよ
うなワークを、切断用の溝付きテーブルに載置して十分
な吸着面積を確保することができ、従って、該テーブル
を介して真空引きすることによってワークを基台に固定
し、それによってワークをブレードにて良好に切断し得
ることを見出した。この方法によると、ワックス、下敷
板などの使用が不要であり、更に、ブレードがテーブル
を切込む必要もなく、そのために、上記(1)〜(5)
に挙げたような問題が完全に解決される。
究実験を行った結果、磁性膜積層セラミックス基板のよ
うなワークを、切断用の溝付きテーブルに載置して十分
な吸着面積を確保することができ、従って、該テーブル
を介して真空引きすることによってワークを基台に固定
し、それによってワークをブレードにて良好に切断し得
ることを見出した。この方法によると、ワックス、下敷
板などの使用が不要であり、更に、ブレードがテーブル
を切込む必要もなく、そのために、上記(1)〜(5)
に挙げたような問題が完全に解決される。
又、十分な吸着面積を確保するのが困難な場合には、当
然に真空引きによる固定は従来のワックスによる固定に
比較すると吸着力が劣るために、加工抵抗が大きいライ
ンを切断するときにワークが動く場合も考えられる。し
がしながら、加工抵抗が大きいラインを切断するときに
は、ワーク保持面積がなるだけ大きくなるような順番で
切断することによりワークの動きを抑え、所定形状に極
めて好適に切断し得ることが分かった。
然に真空引きによる固定は従来のワックスによる固定に
比較すると吸着力が劣るために、加工抵抗が大きいライ
ンを切断するときにワークが動く場合も考えられる。し
がしながら、加工抵抗が大きいラインを切断するときに
は、ワーク保持面積がなるだけ大きくなるような順番で
切断することによりワークの動きを抑え、所定形状に極
めて好適に切断し得ることが分かった。
本発明は斯る新規な知見に基づきなされたものである。
従って、本発明の目的は、十分な平面度を有する下敷板
を使用せずに経済的に切断することができ、又、ワック
スによるワークの貼り付けをなくし、ワックスによる貼
り付は及びワックスの剥しの時間と手間を省略すること
のできる、作業効率の良好なワーク切断用治具を提供す
ることである。
を使用せずに経済的に切断することができ、又、ワック
スによるワークの貼り付けをなくし、ワックスによる貼
り付は及びワックスの剥しの時間と手間を省略すること
のできる、作業効率の良好なワーク切断用治具を提供す
ることである。
本発明の他の目的は、ワークに最適のブレードを選択し
て良好な切断作業を行い得て、しかもブレードの摩耗を
最小とし、更に、ブレードの目詰まりを極力抑えること
のできるワーク切断用治具を提供することである。
て良好な切断作業を行い得て、しかもブレードの摩耗を
最小とし、更に、ブレードの目詰まりを極力抑えること
のできるワーク切断用治具を提供することである。
を するための
上記諸口的は本発明にて達成される。要約すれば本発明
は、真空源に連結された基台と、ワークを担持して前記
基台に載置され、前記真空源の作動により前記ワークと
共に前記基台に真空吸着により固定されるテーブルとを
有し、前記テーブルは、ワーク切断用の手段の進路に沿
って形成された逃げ溝を具備することを特徴とするワー
ク切断用治具である。好ましくは、基台は、テーブル及
びワークの位置決めを行うためのガイドな備え、該ガイ
ドにはテーブルの逃げ溝と整列してワーク切断用手段の
ための逃げ溝が形成される。
は、真空源に連結された基台と、ワークを担持して前記
基台に載置され、前記真空源の作動により前記ワークと
共に前記基台に真空吸着により固定されるテーブルとを
有し、前記テーブルは、ワーク切断用の手段の進路に沿
って形成された逃げ溝を具備することを特徴とするワー
ク切断用治具である。好ましくは、基台は、テーブル及
びワークの位置決めを行うためのガイドな備え、該ガイ
ドにはテーブルの逃げ溝と整列してワーク切断用手段の
ための逃げ溝が形成される。
Kム1
次に、本発明に係るワーク切断用治具を図面に則して更
に詳しく説明する。
に詳しく説明する。
第1図及び第2図に、本発明に係るワーク切断用治具の
一実施例が図示される。本実施例によるとワーク切断用
治具lは、基台2と、ワークを担持して該基台2に載置
されるテーブル4とを有し、好ましくは、テーブル4及
びワークを基台2に載置する際の位置決め用のガイド6
とを有する。
一実施例が図示される。本実施例によるとワーク切断用
治具lは、基台2と、ワークを担持して該基台2に載置
されるテーブル4とを有し、好ましくは、テーブル4及
びワークを基台2に載置する際の位置決め用のガイド6
とを有する。
基台2は、第3図及び第4図を参照するとより良(理解
されるように、本実施例では、概略矩形状とされ、所定
厚さを有した剛体とされる。又、基台2は、ワークの切
断作業に際して、切削液がかかるため、好ましくは耐蝕
性を有する材料で作製される。このような材料としては
、ステンレススチールなどが好適に使用される。
されるように、本実施例では、概略矩形状とされ、所定
厚さを有した剛体とされる。又、基台2は、ワークの切
断作業に際して、切削液がかかるため、好ましくは耐蝕
性を有する材料で作製される。このような材料としては
、ステンレススチールなどが好適に使用される。
基台2の上面の大略中央部には、テーブル4と概略同じ
面積で、幾分小さくされた領域内に凹所が形成される0
本実施例によると、凹所は、四つの同じ矩形状とされる
浅い凹所8a、8b、8C18dから構成される。又、
凹所8aと8bは溝88にて連通され、凹所8bと80
は溝8fにて連通され、凹所8Cと8dは溝8gにて連
通され、又、凹所8dと8aは溝8hにてそれぞれ連通
される。
面積で、幾分小さくされた領域内に凹所が形成される0
本実施例によると、凹所は、四つの同じ矩形状とされる
浅い凹所8a、8b、8C18dから構成される。又、
凹所8aと8bは溝88にて連通され、凹所8bと80
は溝8fにて連通され、凹所8Cと8dは溝8gにて連
通され、又、凹所8dと8aは溝8hにてそれぞれ連通
される。
基台2の一つの角部は面とりされ、該角部に真空源(図
示せず)への連結具10が取付けられる。該連結具10
は、基台2内に穿設された連通孔12を介して、凹所に
、本実施例では凹所8aに連通される。従って、真空源
が作動されると、凹所8a、8b、8C18dが真空引
きされ、ワークを担持し該凹所の上に載置されたテーブ
ル4をワークと共に基台2に吸着固定する。
示せず)への連結具10が取付けられる。該連結具10
は、基台2内に穿設された連通孔12を介して、凹所に
、本実施例では凹所8aに連通される。従って、真空源
が作動されると、凹所8a、8b、8C18dが真空引
きされ、ワークを担持し該凹所の上に載置されたテーブ
ル4をワークと共に基台2に吸着固定する。
基台2に連結される真空源は、専用に準備された真空系
を利用してできるだけ大きい吸引力(真空度)を得るよ
うにするのが好ましい。
を利用してできるだけ大きい吸引力(真空度)を得るよ
うにするのが好ましい。
テーブル4の一実施例が第5図及び第6図に図示される
0図示される本実施例のテーブル4は、ワークとして第
10図及び第11図に図示するような磁気ヘッド用の磁
性膜積層セラミックス板100を切断するためのもので
ある。
0図示される本実施例のテーブル4は、ワークとして第
10図及び第11図に図示するような磁気ヘッド用の磁
性膜積層セラミックス板100を切断するためのもので
ある。
本実施例によると、厚さ(T)とされるテーブル4は矩
形状とされ、その上面は所定の幅(w)及び深さ(h)
を有した縦溝14及び横溝16により複数の長方形状の
区画4aに分割されている。多溝14.16は、ワーク
切断時のブレードの逃げ溝として働く。
形状とされ、その上面は所定の幅(w)及び深さ(h)
を有した縦溝14及び横溝16により複数の長方形状の
区画4aに分割されている。多溝14.16は、ワーク
切断時のブレードの逃げ溝として働く。
又、本実施例によると、各区画4aには貫通孔4bが2
個形成される。該貫通孔4bは、基台2の凹所に連通し
ており、従って、真空源が作動するとテーブル4に載置
されたワークを吸引し、該テーブル4に吸着固定せしめ
る。同時に、テーブル4自体も基台2に吸着固定される
。
個形成される。該貫通孔4bは、基台2の凹所に連通し
ており、従って、真空源が作動するとテーブル4に載置
されたワークを吸引し、該テーブル4に吸着固定せしめ
る。同時に、テーブル4自体も基台2に吸着固定される
。
テーブル4は、耐蝕性を有し、熱膨張係数の小さい材料
で形成され、基台2と同じ材料で作製することも可能で
あるが、好ましくはアルミナセラミックス材料などで作
製するのが好適である。
で形成され、基台2と同じ材料で作製することも可能で
あるが、好ましくはアルミナセラミックス材料などで作
製するのが好適である。
又、テーブル4の上面にはワーク、即ち、磁性膜積層セ
ラミックス基板lOOが載置されるためにワークとの密
着性を良(するべく鏡面仕上されるのが好ましい、又、
下面は基台2に載置されたとき基台2の表面と密着し真
空引き作用を有効に得るために鏡面仕上されるのが良い
。
ラミックス基板lOOが載置されるためにワークとの密
着性を良(するべく鏡面仕上されるのが好ましい、又、
下面は基台2に載置されたとき基台2の表面と密着し真
空引き作用を有効に得るために鏡面仕上されるのが良い
。
このように形成されたテーブル4は、基台2の上記凹所
が形成された真空引き領域に適合して載置されるが、こ
のときのテーブル4の基台2上の位置決めを容易とする
ために、基台2には位置決め用のガイド6を設けるのが
好ましい、ガイド6の一例が第7図及び第8図に図示さ
れる。
が形成された真空引き領域に適合して載置されるが、こ
のときのテーブル4の基台2上の位置決めを容易とする
ために、基台2には位置決め用のガイド6を設けるのが
好ましい、ガイド6の一例が第7図及び第8図に図示さ
れる。
本実施例によると、ガイド6は、互に直交して形成され
た、それぞれ幅(W、)、厚さ(To)とされる横ガイ
ド片18及び縦ガイド片20からなり、横ガイド片18
及び縦ガイド片20の内側端縁18a及び20aは、第
1図に図示されるように、本実施例では矩形とされるテ
ーブル4の外周端縁に当接しテーブル4の位置決めを行
う。
た、それぞれ幅(W、)、厚さ(To)とされる横ガイ
ド片18及び縦ガイド片20からなり、横ガイド片18
及び縦ガイド片20の内側端縁18a及び20aは、第
1図に図示されるように、本実施例では矩形とされるテ
ーブル4の外周端縁に当接しテーブル4の位置決めを行
う。
又、横ガイド片18及び縦ガイド片20の内側端縁18
a及び20aの交点部分には、テーブル4の角部の進入
を許容し、テーブル4とガイド6の内側端縁18a、2
0aとの当接を完全に達成するための逃げ部21が形成
される。又、ガイド6の厚さ(To)は、テーブル4の
厚さ(T)より幾分大とされる。
a及び20aの交点部分には、テーブル4の角部の進入
を許容し、テーブル4とガイド6の内側端縁18a、2
0aとの当接を完全に達成するための逃げ部21が形成
される。又、ガイド6の厚さ(To)は、テーブル4の
厚さ(T)より幾分大とされる。
横ガイド片18及び縦ガイド片20は、本実施例では3
か所に形成された貫通孔22を利用して、第1図に図示
するように、止めねじ24にて基台2のねじ孔26(第
3図)に固着される。勿論、ねじ24の代わりに、接着
剤などにてガイド6を基台2の表面に固定することも可
能である。
か所に形成された貫通孔22を利用して、第1図に図示
するように、止めねじ24にて基台2のねじ孔26(第
3図)に固着される。勿論、ねじ24の代わりに、接着
剤などにてガイド6を基台2の表面に固定することも可
能である。
又、横ガイド片18には、テーブル4の外周端縁が当接
されてテーブル4の位置決めがなされた際に、テーブル
4の縦溝14と整列するように同じ間隔にて、テーブル
4の縦溝14の幅と同じ幅(W)にて縦溝28が形成さ
れる。又、同様に、縦ガイド片20にも、テーブル4の
横溝16と整列するように同じ間隔にて、テーブル4の
横溝の幅と同じ幅(w)にて横溝30が形成される。ガ
イド6の縦溝及び横溝の深さ七〇は、基台2に載置され
たテーブル4の溝14.16の深さ位置と同じとなるよ
うにされる。ガイド6の多溝28.30は、ワーク切断
時のブレードの逃げ溝として働く。
されてテーブル4の位置決めがなされた際に、テーブル
4の縦溝14と整列するように同じ間隔にて、テーブル
4の縦溝14の幅と同じ幅(W)にて縦溝28が形成さ
れる。又、同様に、縦ガイド片20にも、テーブル4の
横溝16と整列するように同じ間隔にて、テーブル4の
横溝の幅と同じ幅(w)にて横溝30が形成される。ガ
イド6の縦溝及び横溝の深さ七〇は、基台2に載置され
たテーブル4の溝14.16の深さ位置と同じとなるよ
うにされる。ガイド6の多溝28.30は、ワーク切断
時のブレードの逃げ溝として働く。
このようなガイド6は、耐蝕性を有し、熱膨張係数の小
さい材料で形成され、基台2と同じ材料で作製すること
も可能であるが、好ましくはアルミナセラミックス材料
などで作製するのが好適である。
さい材料で形成され、基台2と同じ材料で作製すること
も可能であるが、好ましくはアルミナセラミックス材料
などで作製するのが好適である。
次に、第1図を参照して、上記構成の本発明に従ったワ
ーク切断用治具を使用した場合のワークの切断方法につ
いて説明する。
ーク切断用治具を使用した場合のワークの切断方法につ
いて説明する。
基台2の上にテーブル4が載置され、ガイド6にテーブ
ル4の外周端縁を当接させることによりテーブル4の位
置決めを行う、又、テーブル4の上面にはワーク、即ち
、本実施例では磁性膜積層セラミックス基板100が、
ガイド6にその外周端縁を当接させることにより位置決
めを行い、テーブル4上に載置する。
ル4の外周端縁を当接させることによりテーブル4の位
置決めを行う、又、テーブル4の上面にはワーク、即ち
、本実施例では磁性膜積層セラミックス基板100が、
ガイド6にその外周端縁を当接させることにより位置決
めを行い、テーブル4上に載置する。
真空源が作動され、それによって、基台2上にはテーブ
ル4が、又、テーブル4の上には磁性膜積層セラミック
ス基板100(第1図には図示されていない、)がそれ
ぞれ吸着されて固定される。
ル4が、又、テーブル4の上には磁性膜積層セラミック
ス基板100(第1図には図示されていない、)がそれ
ぞれ吸着されて固定される。
次いで、ワーク切断用手段、即ち、回転するダイアモン
ドブレード(図示せず)が、先ずガイド6の縦溝28或
は横溝30に沿って進入し、次いでテーブル4の縦溝1
4或は横溝16に沿って移動され、斯るブレードの移動
によって、テーブル4上のワークが切断される。このと
き、ブレードは、ワークに関しては完全に切断するが、
逃げ溝14.16のためにテーブル4を切断することは
ない、従って、本発明によれば、ブレードは、ワーク切
断に最も適したものを選択することができる。
ドブレード(図示せず)が、先ずガイド6の縦溝28或
は横溝30に沿って進入し、次いでテーブル4の縦溝1
4或は横溝16に沿って移動され、斯るブレードの移動
によって、テーブル4上のワークが切断される。このと
き、ブレードは、ワークに関しては完全に切断するが、
逃げ溝14.16のためにテーブル4を切断することは
ない、従って、本発明によれば、ブレードは、ワーク切
断に最も適したものを選択することができる。
又、本発明に係るワーク切断用治具を使用する場合には
、従来のワックスによる固定に比較するとワークの基台
に対する吸着力が劣るために、ワーク保持面積がなるだ
け大きくなるように切断するのが好ましい、第1図に切
断順序が工程■〜[相]にて示される。
、従来のワックスによる固定に比較するとワークの基台
に対する吸着力が劣るために、ワーク保持面積がなるだ
け大きくなるように切断するのが好ましい、第1図に切
断順序が工程■〜[相]にて示される。
つまり、長い片を切断すると短い辺に比べ加工抵抗が大
きくなるので、長い片を先に切断する(工程■〜■)、
更に、本実施例によれば、先ず、枠になる部分の外側は
割れて飛んで行くので枠になる部分を先に切断する(工
程■、■)、場合によっては、第1図の工程■を先に行
い、次いで工程■を行ない、次に、第1図の工程■から
工程■に向って切断作業を進めることも可能である。
きくなるので、長い片を先に切断する(工程■〜■)、
更に、本実施例によれば、先ず、枠になる部分の外側は
割れて飛んで行くので枠になる部分を先に切断する(工
程■、■)、場合によっては、第1図の工程■を先に行
い、次いで工程■を行ない、次に、第1図の工程■から
工程■に向って切断作業を進めることも可能である。
更に、短い片を切断するに際しても本実施例によれば、
先ず、枠になる部分の外側は割れて飛んで行くので枠に
なる部分を先に切断する(工程[相]、■)、場合によ
っては、第1図の工程0を先に行い、次いで工程[相]
を行ない、次に、第1図の工程■から工程0に向って切
断作業を進めることも可能である。
先ず、枠になる部分の外側は割れて飛んで行くので枠に
なる部分を先に切断する(工程[相]、■)、場合によ
っては、第1図の工程0を先に行い、次いで工程[相]
を行ない、次に、第1図の工程■から工程0に向って切
断作業を進めることも可能である。
本実施例によると、ワークは切断時に何ら移動すること
なく所望形状に正確に切断することができた。切断が完
了した時点で真空源の吸引作動を停止し、それによって
各矩形状のチップ100’のテーブル4に対する固定が
解除される。
なく所望形状に正確に切断することができた。切断が完
了した時点で真空源の吸引作動を停止し、それによって
各矩形状のチップ100’のテーブル4に対する固定が
解除される。
免肛二匁1
以上の如(に構成される本発明に係るワーク切断用治具
は、十分な平面度を有する下敷板を使用することがなく
経済的であり、又、ワックスが不要とされ、そのために
ワックスによる貼り付は及びワックスの剥しの時間と手
間を省略することができ、作業効率が良好であるという
特長を有する。更に、本発明によると、ワークを載置し
たテーブルを切断する必要がなく、従って、ワークに最
適のブレードを選択して良好な切断作業を行うことがで
き、しかもブレードの摩耗を最小とし、更には、ワック
スを使用しないためにブレードの目詰まりを極力抑える
ことのできるという効果を奏し得る。
は、十分な平面度を有する下敷板を使用することがなく
経済的であり、又、ワックスが不要とされ、そのために
ワックスによる貼り付は及びワックスの剥しの時間と手
間を省略することができ、作業効率が良好であるという
特長を有する。更に、本発明によると、ワークを載置し
たテーブルを切断する必要がなく、従って、ワークに最
適のブレードを選択して良好な切断作業を行うことがで
き、しかもブレードの摩耗を最小とし、更には、ワック
スを使用しないためにブレードの目詰まりを極力抑える
ことのできるという効果を奏し得る。
第1図は、本発明に係るワーク切断用治具の平面図であ
る。 第2図は、第1図のワーク切断用治具の正面図である。 第3図及び第4図は、それぞれ基台の平面図及び正面図
である。 第5図及び第6図は、それぞれテーブルの平面図及び正
面図である。 第7図及び第8図は、それぞれガイドの平面図及び正面
図である。 第9図は、従来のセラミックス基台の切断方法を説明す
る図である。 第10図及び第11図は、本発明の治具にて切断される
磁気ヘッド用セラミックス基板のそれぞれ切断前及び切
断後の斜視図である。 2:基台 4:テーブル 6:ガイド 14.16.28.3o:逃げ溝 第 図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 4j) b 第9図
る。 第2図は、第1図のワーク切断用治具の正面図である。 第3図及び第4図は、それぞれ基台の平面図及び正面図
である。 第5図及び第6図は、それぞれテーブルの平面図及び正
面図である。 第7図及び第8図は、それぞれガイドの平面図及び正面
図である。 第9図は、従来のセラミックス基台の切断方法を説明す
る図である。 第10図及び第11図は、本発明の治具にて切断される
磁気ヘッド用セラミックス基板のそれぞれ切断前及び切
断後の斜視図である。 2:基台 4:テーブル 6:ガイド 14.16.28.3o:逃げ溝 第 図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 4j) b 第9図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)真空源に連結された基台と、ワークを担持して前記
基台に載置され、前記真空源の作動により前記ワークと
共に前記基台に真空吸着により固定されるテーブルとを
有し、前記テーブルは、ワーク切断用の手段の進路に沿
って形成された逃げ溝を具備することを特徴とするワー
ク切断用治具。 2)基台は、テーブル及びワークの位置決めを行うため
のガイドを備え、該ガイドにはテーブルの逃げ溝と整列
してワーク切断用手段のための逃げ溝が形成されている
請求項1記載のワーク切断用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15206990A JPH0446800A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | ワーク切断用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15206990A JPH0446800A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | ワーク切断用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0446800A true JPH0446800A (ja) | 1992-02-17 |
Family
ID=15532377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15206990A Pending JPH0446800A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | ワーク切断用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0446800A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10512817A (ja) * | 1995-08-15 | 1998-12-08 | ダブリュ.エル.ゴア アンド アソシエイツ,インコーポレイティド | 材料を特定寸法に形成して処理するための真空を利用する機械及び方法 |
| JP2001198886A (ja) * | 2000-01-18 | 2001-07-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
| US6595094B1 (en) | 1999-01-29 | 2003-07-22 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Working cutting apparatus and method for cutting work |
| JP2021104580A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 株式会社太平製作所 | 板状体の切断装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5639898A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-15 | Camsco Inc | Driving device* cutting*plotting device and vacuum type pressinggdown table for automatic controlling instrument device* its manufacture and its instrument supporting body |
-
1990
- 1990-06-11 JP JP15206990A patent/JPH0446800A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5639898A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-15 | Camsco Inc | Driving device* cutting*plotting device and vacuum type pressinggdown table for automatic controlling instrument device* its manufacture and its instrument supporting body |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10512817A (ja) * | 1995-08-15 | 1998-12-08 | ダブリュ.エル.ゴア アンド アソシエイツ,インコーポレイティド | 材料を特定寸法に形成して処理するための真空を利用する機械及び方法 |
| US6595094B1 (en) | 1999-01-29 | 2003-07-22 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Working cutting apparatus and method for cutting work |
| US6889586B2 (en) | 1999-01-29 | 2005-05-10 | Neomax Co., Ltd. | Work cutting apparatus and method for cutting work |
| JP2001198886A (ja) * | 2000-01-18 | 2001-07-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
| JP2021104580A (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-26 | 株式会社太平製作所 | 板状体の切断装置 |
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