JPH045086Y2 - - Google Patents
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- JPH045086Y2 JPH045086Y2 JP1984198500U JP19850084U JPH045086Y2 JP H045086 Y2 JPH045086 Y2 JP H045086Y2 JP 1984198500 U JP1984198500 U JP 1984198500U JP 19850084 U JP19850084 U JP 19850084U JP H045086 Y2 JPH045086 Y2 JP H045086Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tape
- drum
- tape guide
- coating
- stepped portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、その外周面に形成されているテープ
案内領域を有するテープ案内ドラムと、上記テー
プ案内領域に案内されて走行するテープを走査す
る回転ヘツドとを具備し、前記テープ案内ドラム
の前記外周面に前記テープ案内領域に沿つて螺旋
状に延びるように形成された段部によつて前記テ
ープの側端部が案内されるように構成した記録再
生装置の回転ヘツドドラム機構におけるテープ案
内ドラムに関するものである。
案内領域を有するテープ案内ドラムと、上記テー
プ案内領域に案内されて走行するテープを走査す
る回転ヘツドとを具備し、前記テープ案内ドラム
の前記外周面に前記テープ案内領域に沿つて螺旋
状に延びるように形成された段部によつて前記テ
ープの側端部が案内されるように構成した記録再
生装置の回転ヘツドドラム機構におけるテープ案
内ドラムに関するものである。
ビデオテープレコーダ等の記録再生装置におけ
る回転ヘツドドラム機構は従来から一般的に第４
図に示すように構成されている。即ち、回転ヘツ
ドドラム機構１は、記録再生装置のシヤーシに固
定された下側テープ案内ドラム２と、その上部に
同心状にかつ回転自在に配置された上側テープ案
内ドラム３とを具備し、上側ドラム３の下端には
その外周に臨むようにして複数個の回転磁気ヘツ
ド４が取付けられている。そしてこれら両ドラム
２，３は通常アルミニウムまたはアルミニウム合
金にて成形されている。また下側ドラム２の外周
面２ａには、そのテープ案内領域の下部に沿つて
螺旋状に延びる通常テープリードと称される上向
きの段部５が切削加工により形成されている。従
つて上側ドラム３の外周面３ａと下側ドラム２の
外周面２ａとに跨がつて螺旋状に巻付けられる磁
気テープ６はその下側端部６ａを上記上向き段部
５に案内され、磁気テープ６の走行時に上記下側
端部６ａが上記上向き段部５に対して摺接するよ
うになつている。
る回転ヘツドドラム機構は従来から一般的に第４
図に示すように構成されている。即ち、回転ヘツ
ドドラム機構１は、記録再生装置のシヤーシに固
定された下側テープ案内ドラム２と、その上部に
同心状にかつ回転自在に配置された上側テープ案
内ドラム３とを具備し、上側ドラム３の下端には
その外周に臨むようにして複数個の回転磁気ヘツ
ド４が取付けられている。そしてこれら両ドラム
２，３は通常アルミニウムまたはアルミニウム合
金にて成形されている。また下側ドラム２の外周
面２ａには、そのテープ案内領域の下部に沿つて
螺旋状に延びる通常テープリードと称される上向
きの段部５が切削加工により形成されている。従
つて上側ドラム３の外周面３ａと下側ドラム２の
外周面２ａとに跨がつて螺旋状に巻付けられる磁
気テープ６はその下側端部６ａを上記上向き段部
５に案内され、磁気テープ６の走行時に上記下側
端部６ａが上記上向き段部５に対して摺接するよ
うになつている。
このように、上向き段部５を切削加工にて下側
ドラム２の外周面２ａに一体に形成する構造は、
加工時に精度が出る利点がある反面、下側ドラム
２の素材がアルミニウムまたはアルミニウム合金
である為に耐摩耗性に欠け、走行中の磁気テープ
６の下側端部６ａによつてその上向き段部５が早
期に摩耗してしまう欠陥があつた。なお下側ドラ
ム２を耐摩耗性の優れた硬い材料で一体に形成す
ることも考えられるが、下側ドラム２を研磨仕上
げして充分に高い精度にする必要があるので、極
めてコスト高となつて実用的でない。
ドラム２の外周面２ａに一体に形成する構造は、
加工時に精度が出る利点がある反面、下側ドラム
２の素材がアルミニウムまたはアルミニウム合金
である為に耐摩耗性に欠け、走行中の磁気テープ
６の下側端部６ａによつてその上向き段部５が早
期に摩耗してしまう欠陥があつた。なお下側ドラ
ム２を耐摩耗性の優れた硬い材料で一体に形成す
ることも考えられるが、下側ドラム２を研磨仕上
げして充分に高い精度にする必要があるので、極
めてコスト高となつて実用的でない。
さらにまた、上述のようにアルミニウムまたは
アルミニウム合金で一体に形成する場合でも、上
向き段部５は表面処理しないまでも鏡面仕上げを
しておく必要があり、その為には、荒削りの後、
仕上げ切削を数回に亘つて繰り返して行わなけれ
ばならず、従つて上向き段部５の切削加工自体も
加工工数が多くて非常にコスト高についている。
アルミニウム合金で一体に形成する場合でも、上
向き段部５は表面処理しないまでも鏡面仕上げを
しておく必要があり、その為には、荒削りの後、
仕上げ切削を数回に亘つて繰り返して行わなけれ
ばならず、従つて上向き段部５の切削加工自体も
加工工数が多くて非常にコスト高についている。
このような欠点を是正するために、第５図に示
すように下側テープ案内ドラム２の外周面２ａに
テープ走行領域に沿つて螺旋状に延びるように下
向き段部５を形成し、セラミツク等の耐摩耗性材
料にて形成された複数個のリードブロツク８を上
記下向き段部５の上記テープ走行領域側とは反対
側の領域において上記下向きの段部５に沿つて取
付けた回転ヘツドドラム機構１１が考えられる。
なおこの第５図に示す機構１１においては、リー
ドブロツク８を弾性体にて押圧してこれらのリー
ドブロツク８の端面を上記下向き段部５に弾性的
に押圧させることによりその端面の高さをこの下
向き段部５によつて規制され、かつこの取付状態
でこれらのリードブロツク８の端面を下側ドラム
２のテープ案内領域よりも外方に突出させて、こ
れらのリードブロツク８の端面にて構成されたテ
ープ案内用の上向き段部によつてテープ６の下側
端部６ａを案内させるようにしている。
すように下側テープ案内ドラム２の外周面２ａに
テープ走行領域に沿つて螺旋状に延びるように下
向き段部５を形成し、セラミツク等の耐摩耗性材
料にて形成された複数個のリードブロツク８を上
記下向き段部５の上記テープ走行領域側とは反対
側の領域において上記下向きの段部５に沿つて取
付けた回転ヘツドドラム機構１１が考えられる。
なおこの第５図に示す機構１１においては、リー
ドブロツク８を弾性体にて押圧してこれらのリー
ドブロツク８の端面を上記下向き段部５に弾性的
に押圧させることによりその端面の高さをこの下
向き段部５によつて規制され、かつこの取付状態
でこれらのリードブロツク８の端面を下側ドラム
２のテープ案内領域よりも外方に突出させて、こ
れらのリードブロツク８の端面にて構成されたテ
ープ案内用の上向き段部によつてテープ６の下側
端部６ａを案内させるようにしている。
しかしながら、第５図に示すようにリードブロ
ツク８を使用した下側テープ案内ドラム２では磁
気テープ６がテープ案内領域を円滑に走行するよ
うにリードブロツク８を許容誤差範囲内で螺旋状
に配列しなければならない。しかしながら、既述
のように下側ドラム２に形成されるテープ案内用
の上向き段部はその性質上、非常に高い精度を要
求され、このため、上述の許容誤差範囲内で下側
ドラム２のリードブロツク８を螺旋状に配置して
この配置状態を上記許容誤差範囲内に維持するの
は非常な困難を伴う。
ツク８を使用した下側テープ案内ドラム２では磁
気テープ６がテープ案内領域を円滑に走行するよ
うにリードブロツク８を許容誤差範囲内で螺旋状
に配列しなければならない。しかしながら、既述
のように下側ドラム２に形成されるテープ案内用
の上向き段部はその性質上、非常に高い精度を要
求され、このため、上述の許容誤差範囲内で下側
ドラム２のリードブロツク８を螺旋状に配置して
この配置状態を上記許容誤差範囲内に維持するの
は非常な困難を伴う。
本考案は、その外周面に形成されているテープ
案内領域を有するテープ案内ドラムと、上記テー
プ案内領域に案内されて走行するテープを走査す
る回転ヘツドとを具備し、前記テープ案内ドラム
の前記外周面に前記テープ案内領域に沿つて螺旋
状に延びるように形成された段部によつて前記テ
ープの側端部が案内されるように構成した記録再
生装置の回転ヘツドドラム機構において、前記螺
旋状段部が蒸着、スパツタリング、イオンプレー
テイング等のPVDプロセス（Physical Vapour
Deposition Process）により形成された酸化ア
ルミニウム、チタニア、酸化ジルコニウムなどの
耐摩耗性酸化物から成る被膜を有することを特徴
とするテープ案内ドラムに係るものである。
案内領域を有するテープ案内ドラムと、上記テー
プ案内領域に案内されて走行するテープを走査す
る回転ヘツドとを具備し、前記テープ案内ドラム
の前記外周面に前記テープ案内領域に沿つて螺旋
状に延びるように形成された段部によつて前記テ
ープの側端部が案内されるように構成した記録再
生装置の回転ヘツドドラム機構において、前記螺
旋状段部が蒸着、スパツタリング、イオンプレー
テイング等のPVDプロセス（Physical Vapour
Deposition Process）により形成された酸化ア
ルミニウム、チタニア、酸化ジルコニウムなどの
耐摩耗性酸化物から成る被膜を有することを特徴
とするテープ案内ドラムに係るものである。
以下、本考案の一実施例を第１図に基づき説明
すると、回転ヘツドドラム機構１は、下側テープ
案内ドラム２に形成されている螺旋状段部５に酸
化アルミニウムから成る例えば厚さ１〜5μ程度
の被膜７を蒸着により形成したことを除いて、第
４図に示すものと実質的に同一の構成である。な
お蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング
等のPVDプロセスによつて下側ドラム２に被膜
７を形成する場合、蒸発源などの被着物質源と、
被膜７が形成される下側ドラム２の表面との相対
的な姿勢によつて、被膜７の膜厚が変化する。従
つて螺旋状段部５に効果的に被膜７を形成するた
めには、螺旋状段部５が被着物質源に対してほぼ
正面に向くようにする必要がある。このようにす
れば、下側ドラム２の外周面２ａには被膜７は殆
ど形成されず、螺旋状段部５及びこれとほぼ同方
向の面である上端面などに主として被膜７が形成
される。
すると、回転ヘツドドラム機構１は、下側テープ
案内ドラム２に形成されている螺旋状段部５に酸
化アルミニウムから成る例えば厚さ１〜5μ程度
の被膜７を蒸着により形成したことを除いて、第
４図に示すものと実質的に同一の構成である。な
お蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング
等のPVDプロセスによつて下側ドラム２に被膜
７を形成する場合、蒸発源などの被着物質源と、
被膜７が形成される下側ドラム２の表面との相対
的な姿勢によつて、被膜７の膜厚が変化する。従
つて螺旋状段部５に効果的に被膜７を形成するた
めには、螺旋状段部５が被着物質源に対してほぼ
正面に向くようにする必要がある。このようにす
れば、下側ドラム２の外周面２ａには被膜７は殆
ど形成されず、螺旋状段部５及びこれとほぼ同方
向の面である上端面などに主として被膜７が形成
される。
なお通常の電気メツキでは、電流は凸部では集
中して強くなり、凹部では集中せずに弱くなるの
で、凸部では被膜の膜厚は厚くなり、凹部では被
膜の膜厚は薄くなる。一方、下側テープ案内ドラ
ム２には螺旋状端部５が存在するために、その外
周面２ａの形状は上記螺旋状段部５の近傍ではな
めらかではない。従つて、通常の電気メツキによ
つて下側テープ案内ドラム２の螺旋状段部５に被
膜７を形成しようとすれば、螺旋状段部５に形成
される被膜７に凹凸が生じる。
中して強くなり、凹部では集中せずに弱くなるの
で、凸部では被膜の膜厚は厚くなり、凹部では被
膜の膜厚は薄くなる。一方、下側テープ案内ドラ
ム２には螺旋状端部５が存在するために、その外
周面２ａの形状は上記螺旋状段部５の近傍ではな
めらかではない。従つて、通常の電気メツキによ
つて下側テープ案内ドラム２の螺旋状段部５に被
膜７を形成しようとすれば、螺旋状段部５に形成
される被膜７に凹凸が生じる。
一方、前述のPVDプロセスによつて被膜７を
形成する場合には、PVDプロセスの特性上、螺
旋状段部５に形成される被膜７には上述のような
凹凸が生じない。また、被膜７は耐摩耗性酸化物
で形成されているために耐摩耗性が極めて大き
く、その膜厚が例えば１〜5μ程度であつても、
テープの下側端部６ａによつて上向き段部５が早
期摩耗されるのを充分に防止することができる。
なお、被膜７の膜厚の範囲が上述の１〜5μを越
えると、被膜７を形成するのに要する時間が長く
なるので、生産コストが上昇し、しかも被膜７の
膜厚が不均一になるとともに被膜７が剥がれ易く
なる。
形成する場合には、PVDプロセスの特性上、螺
旋状段部５に形成される被膜７には上述のような
凹凸が生じない。また、被膜７は耐摩耗性酸化物
で形成されているために耐摩耗性が極めて大き
く、その膜厚が例えば１〜5μ程度であつても、
テープの下側端部６ａによつて上向き段部５が早
期摩耗されるのを充分に防止することができる。
なお、被膜７の膜厚の範囲が上述の１〜5μを越
えると、被膜７を形成するのに要する時間が長く
なるので、生産コストが上昇し、しかも被膜７の
膜厚が不均一になるとともに被膜７が剥がれ易く
なる。
次に、上述のように下側テープ案内ドラム２の
螺旋状段部５に被膜７を形成した場合と、これに
被膜７を形成しない場合とについて、テープ６の
下側端部６ａによる下側ドラム２の段部５の摩耗
特性を第２図及び第３図に基づいて説明する。
螺旋状段部５に被膜７を形成した場合と、これに
被膜７を形成しない場合とについて、テープ６の
下側端部６ａによる下側ドラム２の段部５の摩耗
特性を第２図及び第３図に基づいて説明する。
第２図に示すように、テープ６は下側ドラム２
にΩ形に巻付けられ、下側ドラム２の段部５にそ
の下側端部６ａが摺動しつつ矢印Ａに示すように
走行するようになつている。また第３図における
下側ドラム２の螺旋状段部５における円周方向の
位置θは、第２図に示すように、下側ドラム２へ
のテープの導入口を基準線L0として時、このL0
に対してなす角度で表されている。
にΩ形に巻付けられ、下側ドラム２の段部５にそ
の下側端部６ａが摺動しつつ矢印Ａに示すように
走行するようになつている。また第３図における
下側ドラム２の螺旋状段部５における円周方向の
位置θは、第２図に示すように、下側ドラム２へ
のテープの導入口を基準線L0として時、このL0
に対してなす角度で表されている。
摩耗特性を調べる実験は、酸化アルミニウムの
被膜７、コバルト添加強磁性酸化鉄をベースに塗
布したテープ６、テープスピード24cm／sec、テ
ープ接触圧力２〜４Kg／cm2、テープ走行時間1000
時間の条件下で行われた。なお被膜７が酸化アル
ミニウム以外の耐摩耗性酸化物であるチタニア又
は酸化ジルコニウム等から形成された場合にも、
以下の場合と同様の耐摩耗性が得られた。
被膜７、コバルト添加強磁性酸化鉄をベースに塗
布したテープ６、テープスピード24cm／sec、テ
ープ接触圧力２〜４Kg／cm2、テープ走行時間1000
時間の条件下で行われた。なお被膜７が酸化アル
ミニウム以外の耐摩耗性酸化物であるチタニア又
は酸化ジルコニウム等から形成された場合にも、
以下の場合と同様の耐摩耗性が得られた。
第３図において、耐摩耗性酸化物の被膜７が段
部５に形成されてない場合は破線で示されている
が、この場合、下側ドラム２におけるテープ６の
導入口及び導出口の近傍では段部５の摩耗が激し
くて最大で8μにも達する。しかしながら、上述
のテープ導入口の近傍とテープ導出口の近傍との
間では段部５の摩耗はそれぼど激しくない。一
方、耐摩耗性酸化物から成る被膜７が段部５に形
成されている場合は実線で示されているが、この
場合、下側ドラム２の段部５の摩耗は、テープ導
入口及び導出口の近傍並びにそれらの間の何れに
おいても極めて小さく、従つて全体にわたつてほ
ぼ一様である。
部５に形成されてない場合は破線で示されている
が、この場合、下側ドラム２におけるテープ６の
導入口及び導出口の近傍では段部５の摩耗が激し
くて最大で8μにも達する。しかしながら、上述
のテープ導入口の近傍とテープ導出口の近傍との
間では段部５の摩耗はそれぼど激しくない。一
方、耐摩耗性酸化物から成る被膜７が段部５に形
成されている場合は実線で示されているが、この
場合、下側ドラム２の段部５の摩耗は、テープ導
入口及び導出口の近傍並びにそれらの間の何れに
おいても極めて小さく、従つて全体にわたつてほ
ぼ一様である。
以上の事実から明らかなように、固定ドラム２
の段部５にPVDプロセスにより形成された酸化
アルミニウム等の耐摩耗性酸化物から成る被膜７
は、その耐摩耗の機能を十分に果たし得ることが
わかる。
の段部５にPVDプロセスにより形成された酸化
アルミニウム等の耐摩耗性酸化物から成る被膜７
は、その耐摩耗の機能を十分に果たし得ることが
わかる。
以上、本考案をその実施例について説明した
が、本考案の技術的思想から逸脱しない限り、本
考案において種々の変更や修正が可能である。
が、本考案の技術的思想から逸脱しない限り、本
考案において種々の変更や修正が可能である。
以上に述べたように、本考案によれば、テープ
案内ドラムにおけるテープ側端部案内用の螺旋状
段部が耐摩耗性酸化物から成る被膜を有するの
で、螺旋状段部の耐摩耗性が向上し、その結果と
して、テープ案内ドラムにリードブロツク等を設
けることなくその耐久性を飛躍的に向上させるこ
とができる。
案内ドラムにおけるテープ側端部案内用の螺旋状
段部が耐摩耗性酸化物から成る被膜を有するの
で、螺旋状段部の耐摩耗性が向上し、その結果と
して、テープ案内ドラムにリードブロツク等を設
けることなくその耐久性を飛躍的に向上させるこ
とができる。
また、耐摩耗性酸化物から成る被膜をPVDプ
ロセスによつてテープ案内ドラムの螺旋状段部に
形成するようにしたので、均一でかつ極めて薄く
しかも剥がれにくい被膜を得ることができ、従つ
てテープ案内ドラムに被膜を形成した後に特に寸
法精度の調整をしなくても、テープ案内ドラムの
寸法精度を許容誤差範囲内に収めることができ、
従つて、仕上げの切削加工を特に行う必要がな
い。
ロセスによつてテープ案内ドラムの螺旋状段部に
形成するようにしたので、均一でかつ極めて薄く
しかも剥がれにくい被膜を得ることができ、従つ
てテープ案内ドラムに被膜を形成した後に特に寸
法精度の調整をしなくても、テープ案内ドラムの
寸法精度を許容誤差範囲内に収めることができ、
従つて、仕上げの切削加工を特に行う必要がな
い。
第１図は本考案の一実施例における下側テープ
案内ドラムの一部分の縦断面図、第２図はテープ
をΩ形に巻付けかつ上側テープ案内ドラムを省略
した状態における回転ヘツドドラム機構の平面
図、第３図は第２図に示す下側テープ案内ドラム
の螺旋状段部の摩耗特性を示す曲線図、第４図は
本考案を適用し得る従来の一般的な回転ヘツドド
ラム機構の斜視図、第５図は別の回転ヘツドドラ
ム機構の斜視図である。 なお、図面に用いられた符号において、１……
回転ヘツドドラム機構、２……下側テープ案内ド
ラム、３……上側テープ案内ドラム、５……螺旋
状段部、７……被膜、である。
案内ドラムの一部分の縦断面図、第２図はテープ
をΩ形に巻付けかつ上側テープ案内ドラムを省略
した状態における回転ヘツドドラム機構の平面
図、第３図は第２図に示す下側テープ案内ドラム
の螺旋状段部の摩耗特性を示す曲線図、第４図は
本考案を適用し得る従来の一般的な回転ヘツドド
ラム機構の斜視図、第５図は別の回転ヘツドドラ
ム機構の斜視図である。 なお、図面に用いられた符号において、１……
回転ヘツドドラム機構、２……下側テープ案内ド
ラム、３……上側テープ案内ドラム、５……螺旋
状段部、７……被膜、である。
Claims (1)
- その外周面に形成されているテープ案内領域を
有するテープ案内ドラムと、上記テープ案内領域
に案内されて走行するテープを走査する回転ヘツ
ドとを具備し、前記テープ案内ドラムの前記外周
面に前記テープ案内領域に沿つて螺旋状に延びる
ように形成された段部によつて前記テープの側端
部が案内されるように構成した記録再生装置の回
転ヘツドドラム機構において、前記螺旋状段部が
PVDプロセスにより形成された耐摩耗性酸化物
から成る被膜を有することを特徴とするテープ案
内ドラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984198500U JPH045086Y2 (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984198500U JPH045086Y2 (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61118131U JPS61118131U (ja) | 1986-07-25 |
| JPH045086Y2 true JPH045086Y2 (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=30757543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984198500U Expired JPH045086Y2 (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH045086Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894135U (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-25 | ソニー株式会社 | ドラム装置 |
| JPS59193276A (ja) * | 1983-04-19 | 1984-11-01 | Toshiba Corp | 酸化被膜品 |
-
1984
- 1984-12-29 JP JP1984198500U patent/JPH045086Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61118131U (ja) | 1986-07-25 |
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