JPH02282926A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、高密度磁気記録に適する金属薄膜を磁気記録
層とする磁気ディスクに関するものである。

（従来の技術） 磁気ディスク装置は記憶容量、アクセス時間（上位装置
から命令を受は取ってからデータの送出を開始するまで
の時間）、コストともに優れた記憶装置として大型電算
機からパソコンにいたるまで幅広（用いられるようにな
ってきた。

一方、近年取り扱うデータ量の増大とハードの小型化へ
の指向から磁気ディスクの大容量・高密度化に対する要
求が一層強まっている。

この大容量・高密度化をはかるために、従来の塗布媒体
から、めっき、蒸着、スパッタにより磁気記録層を強磁
性金属薄膜で構成した磁気記録媒体の実用化が各方面で
活発に検討され、一部商品化されている。

一般に磁気ディスク装置においては、操作開始時にヘッ
ドと磁気記録体面とを接触状態でセットした後、磁気デ
ィスクを高速回転させ、ディスク表面に生ずる空気流に
よりヘッドを浮かせて間隔を保つ浮動ヘッド方式が採用
されている。この方法では操作終了時に磁気ディスクの
回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面は操作開始
時と同様に接触摩擦状態にある。

これらの接触摩擦状態におけるヘッドと磁気記憶体との
摩擦力が、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ、ついに
はヘッドおよび磁性媒体に傷を生じさせることがある。

また、接触摩擦状態においてヘッドのわずかな姿勢の変
化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッドおよび磁
気記憶媒体表面に傷を作ることもある。そこでこれらの
摩耗を防ぐために種々の保護膜が検討されている。

この保護膜を形成した磁気ディスクの一例を第６図に示
す。第６図（ａ）はその平面図、（ｂ）はそのＩＶ　−
ｒＶ線断面図である。図中３２は盤であり、３３はデー
タエリアである。この磁気ディスクは非磁性基板３４上
に順に非磁性下地層３５、磁気記録層３６、保護潤滑層
３７が積層されている。

またかかる媒体において記録密度を上げるためには、ヘ
ッドとディスク表面との間隔をできるだけ接近させ、か
つ一定に保つことが必要である。

すなわち高密度記録を達成するには短波長でのスペーシ
ング損失が大きく作用する領域で構成する必要があり、
保護機能をいかに薄い領域で発揮させるかが極めて重要
である。

そこで、磁気ディスクと磁気ヘッドの表面粗さが小さ（
、平滑であることが必要となってくる。

しかしながら平滑であるためにディスク回転の停止時に
両者が吸着し、起動時モーターの回転ができなかったり
、回転時急激な力が加わり、ディスク媒体を傷つける等
の問題が発生することがあった。

かかる問題を解決する方法として、特開昭６０、−２３
１９１９号公報は、データを記録するデータエリアとこ
のデータエリアよりもその面の粗さを悪く構成したラン
ディングエリアを備えた磁気ディスクを提案している。

これはデータの記録再生時には粗さの小さいデータエリ
アを用い、磁気ディスクの始動停止時には粗さの大きい
ランディングエリアを用いて磁気ヘッドの吸着を低減し
、安定して磁気ヘッドを浮上させることを目的としたも
のである。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら上記の保護膜を形成する方法あるいは特開
昭６０−２３１９１９号公報による提案には以下のよう
な問題点がある。

すなわち磁気記録媒体は、すべて高密度記録を目指すも
のであるから、スペーシング損失は記録方式の如何を問
わず重大であり、保護膜として許容される膜厚には自ら
限界があり、０．０３μｍ程度が採用されている。しか
るに、広汎環境使用条件下での耐久性を満足せしめるに
は、厚みが０．１μｍ近（必要で、スペーシング損失が
大きすぎて改良が望まれている。

また、前記した提案は粗さの大きいランディングエリア
を用いることにより磁気ヘッドの吸着は低減できるもの
の、繰り返し磁気ヘッドで摺接した時の耐久性は改善さ
れない。

本発明は上記従来技術の問題点を解決して、ヘッドと磁
性層間のスペーシング損失が極力少な（て、耐久性と走
行性の良好な磁気ディスクを提供することを目的とする
。

（課題を解決するための手段） すなわち本発明は、（１）盤面に、データを記録するデ
ータエリアとランディングエリアとを有し、該ランディ
ングエリアの保護潤滑層をデータエリアの保護潤滑層よ
りも厚（してなることを特徴とする磁気ディスク、及び （２）データエリアの保護潤滑層の厚さが３００Å以下
であることを特徴とする前記（１）記載の磁気ディスク
、 を提供するものである。

（実施例） 以下に本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明する
。

第１図（ａ）は本発明の一実施例を示す磁気ディスクの
平面図であり、第１図（ｂ）はそのＩ−１線断面図であ
る。図中１は盤であり、２はドーナツ状のデータエリア
、３はその内側に同心円状に形成されたランディングエ
リアである。このデータエリア２の断面部は同図（ｂ）
に示すように、非磁性基板４に順に非磁性下地層５、磁
気記録層６、保護潤滑層７を積層している。ただし内側
のランディングエリア３は非磁性基板４に直接保護潤滑
層７を厚く形成している。

次にこの磁気ディスクの製造方法について詳細に説明す
る。

第１図の本発明における非磁性基板４として、基板がガ
ラス、アルミニウム合金、もしくはアルミニウム基板上
に無電解めっきによりＮ１−Ｐを施したもの等で、その
表面が平均面粗さ（Ｒａ）０．００５μｍ以下に鏡面仕
上したものを用いた。

この非６Ｉ！を性基板４のデータエリア２上にＤＣマグ
ネトロンスパッタ法により、非磁性下地層５としてクロ
ムを０．１μｍ、Ｍｉ磁気記録層としてＧｏ金合金Ｃｏ
−３０ａｔ％ＮＬ）を０．０５μｍそれぞれ被覆した。

この際、ランディングエリアに非磁性下地層５と磁気記
録層６が極力被覆されないように、第２図に示すごとく
防着板８を非磁性基板４の前に設置した。

同様にしてＤＣマグネトロンスパッタ法により第３図に
示す配置でランディングエリア３に保護潤滑層７として
カーボンを０．１５μｍ　施［、、さらに盤全体を０．
０２μｍのカーボン保護潤滑層で被覆し、磁気記録媒体
を得た。

次にデータエリア２とランディングエリア３の境界近傍
の段差を無くすことと、ヘッドと磁気記録媒体との吸着
防止および磁気記録媒体表面の突起物除去を目的とし、
研摩テープを使用して盤１に対して同心円に研摩仕上げ
した。

上記のようにして製造した磁気ディスクのランディング
エリア３で１０万回のＣ８Ｓテスト（コンタクト・スタ
ート・ストップテスト）に供した結果、ヘッドクラッシ
ュの発生は見られなかった。同様の試験を第６図に示す
従来構造品で行ったところ、３万回でヘッドクラッシュ
が発生した。

これによって、この発明の磁気ディスクは、優れた耐久
性を有していることが認められた。さらに、磁気ディス
クの起動停止は十分に厚い保護潤滑層７で被覆されたラ
ンディングエリア３で行うので、盤１全体の保護潤滑層
７はさらに薄くすることが可能でありスペーシング損失
を減少することが期待され、高密度化に適した構造とい
える。

なお上記実施例では保護潤滑層としてカーボンを用いた
が、これに限定されるものではなく５ｉＯｚ　、ＭＯ３
２、Ｓｉｓ　Ｎ４等も好ましく使用することができる。

またデータエリアの保護潤滑層の厚さは限定するもので
はないが、スペーシング損失を極力小さ（する意味で３
００Å以下であればより好ましい。

非磁性下地層５と磁気記録層６および保護潤滑層７は蒸
着によっても前記と同様の方法で製造することができる
。ただしめっき（主として無電解めっき）で非磁性下地
層５と磁気記録層６を被覆する場合は、非磁性基板４の
ランディングエリア３部分をマスキングする必要がある
。

また、ランディングエリアは盤の外周部に設けてもよい
。さらに、非磁性下地層は非磁性基板の全面に施しても
よい。この場合はその分だけランディングエリアの保護
潤滑層は薄くなる。保護潤滑層はプラズマ重合で被覆す
るのもよい。また、潤滑油を併用すると耐久性はさらに
向上する。

第４図及び第５図は本発明の他の実施例を示す。第４図
において１８は盤、１９はデータエリア、２０はランデ
ィングエリア、２１は非磁性基板、２２は非磁性下地層
、２３は磁気記録層、２４は保護潤滑層である。この例
は図に示すごとくランディングエリア２０の下部に非磁
性下Ｊｔ！！層２２と磁気記録層２３が入り込んだ例で
ある。

また、第５図において２５は盤、２６はデータエリア、
２７はランディングエリア、２８は非磁性基板、２９は
非磁性下地層、３０は磁気記録層、３１は保護潤滑層で
ある。図に示すようにランディングエリアにおいて保護
潤滑層３１のみを徐々に厚くする構造でもよい。ただし
、この場合、第５図（ｂ）のＡの部分を拡大図（ｃ）に
示すようにａ≦ｏ、ｏｏｉｏで厚さを増加させるときは
ヘッド走行上は問題はない。

（発明の効果） 以上のように、この発明によればデータを記録するデー
タエリアとこのデータエリアよりも保護潤滑層を厚くし
たランディングエリアを備えることにより、高い耐久性
を得ることができ、したがって磁気ディスクの長寿命化
、高信頼化をはかれるという顕著な効果がある。さらに
は、スペーシング損失を極力小さくすることができ高密
度記録が達成できる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）は本発明一実施例磁気ディスクの
平面図及びＩ−１線断面図、第２図及び第３図はその製
造方法の説明図、第４図（ａ）、（ｂ）及び第５図（ａ
）、（ｂ）は本発明の他の実施例の上面図及び■−■線
断面図、■−１ｌｌ線断面図、第５図（Ｃ）はＡ部の拡
大図、第６図（ａ）、（ｂ）は従来の磁気ディスクの平
面図及びＩＶ　−ＩＶ線断面図である。 符号の説明 １．１８，２５．３２・・・盤 ２１９．２ ３、　２０．　２ ４、　２１．　２ ５２２．２ ６、　２３．　３ ７、　２４．　３ ８・・・防着板 ９・・・ターゲラ α・・・角度 Ａ・・・拡大部 ６．３３・・・データエリア ７・・・ランディングエリア ８．３４・・・非磁性基板 ９．３５・・・非磁性下地層、 ０．３６・・・磁気記録層 ｌ、３７・・・保護潤滑層 ト 第１図 第４図 （ａ） １９データエリア 第２図 第３図 第５図 （ａ） （ｂ） α≦０．００１ 第６図 （ａ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）盤面に、データを記録するデータエリアとランデ
   イングエリアとを有し、該ランデイングエリアの保護潤
   滑層をデータエリアの保護潤滑層よりも厚くしてなるこ
   とを特徴とする磁気ディスク。
2. （２）データエリアの保護潤滑層の厚さが３００Å以下
   であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク。