JPH045100A - 化粧材の製造方法 - Google Patents
化粧材の製造方法Info
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- JPH045100A JPH045100A JP10691390A JP10691390A JPH045100A JP H045100 A JPH045100 A JP H045100A JP 10691390 A JP10691390 A JP 10691390A JP 10691390 A JP10691390 A JP 10691390A JP H045100 A JPH045100 A JP H045100A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（産業上の利用分野］
本発明は、立体的な模様を有する化粧材の製造方法に関
する。 （従来の技術］ 建築物の内装材や家具の材料として種々の化粧材が使用
されているが、それらの中で最も一般的なものは、プラ
スチックシートなどの基材に印刷または転写によって模
様や絵柄を付与したものである。 このクラスの化粧材
は、意匠が平面的で高級感に乏しい。 立体感をもつ意匠を付与する手段として、基材１の絵柄
の印刷を盛り上げ印刷法による技術や、中間層をはさん
で二双上の印刷層を形成した化粧層を基材に積層する技
術が知られている。 しかしこれらの技術によっても、
木目模様など天然物の模様を完全に再現することは難し
い。
する。 （従来の技術］ 建築物の内装材や家具の材料として種々の化粧材が使用
されているが、それらの中で最も一般的なものは、プラ
スチックシートなどの基材に印刷または転写によって模
様や絵柄を付与したものである。 このクラスの化粧材
は、意匠が平面的で高級感に乏しい。 立体感をもつ意匠を付与する手段として、基材１の絵柄
の印刷を盛り上げ印刷法による技術や、中間層をはさん
で二双上の印刷層を形成した化粧層を基材に積層する技
術が知られている。 しかしこれらの技術によっても、
木目模様など天然物の模様を完全に再現することは難し
い。
本発明の目的は、立体的な意匠、とくに天然物に近い感
じを与える木目模様をもった化粧材の製造方法を提供す
ることにある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明の化粧材の製造方法は、図面に示すような、下記
の諸工程からなる Ａ） 第１図に示すように、基材（１）上に、電離放射
線の照射を受けて硬化する樹脂を塗布する工程、 Ｂ） 第２図Ａに示すように、カロ熱して指触乾燥した
未硬化樹脂層（２Ａ）を形成するか、または第２図Ｂに
示すように、電離放射線を照射して半硬化樹脂層（２Ｂ
）を形成する工程、Ｃ） 第３図に示すように、未硬化
樹脂層（２Ａ）または半硬化樹脂層（２Ｂ）の上に、転
写台紙（３１）に昇華性インキ（３２）で絵柄を印刷し
た転写シート（３）を重ね、絵柄を昇華転写したのち、
転写台紙（３１）を剥離する工程、および Ｄ） 第４図に示すように、電離放射線を照射して未硬
化樹脂層（２Ａ）または半硬化樹脂層（２Ｂ）を完全に
硬化させるとともに、絵柄を硬化樹脂層（２Ｃ）に固定
する工程。 図面において、符号（５）は塗布手段、〈６）は加熱乾
燥手段、（７）は転写手段（８）は電離放射線照射手段
を、それぞれ示す。 本発明で使用する基材は、化粧材の製造に使用されてい
るものから任意にえらぶことができる。 例をあげると、合板、パーチクルボードなどの木質の板
材、石膏ボード、石膏スラグボードなどの石膏系板材、
パルプセメント板、石綿セメント板、木片セメント板、
ガラス繊維強化コンクリート板、軽量発泡コンクリート
板、中空押し出しセメント板などのセメント系板材、ケ
イ酸カルシウム板、石綿スレート板、陶磁器板、ガラス
板などのセラミックス板、および鉄板、亜鉛メツキ鋼板
、銅板、アルミニウム板、ホーローびき鉄板、ビニル鋼
板などの金属板である。 そのほか、紙や合成樹脂シー
トなどを使用してもよい。 木目模様の化粧材を製造するときは、木質の板材を使用
することが好ましい。 加熱により指触乾燥した未硬化樹脂層を形成する場合に
使用すべき電離放射線硬化性樹脂には、次の２種類があ
る。 （１） ガラス転移温度がＯ〜２５０’Ｃのポリマー中
にラジカル重合性不飽和基を有するもの。 具体的には、ポリマーとして以下の化合物■〜■を重合
または共重合させたものに対し、後述する方法（イ）〜
（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを
用いることができる。 ■ 水酸基を有する単量体二Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−ノエノキシ
プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロビルアクリレートなど ■ カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など ■ エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレ
ートなど ■ アジリジニル基を有する単量体＝２−アジリジニル
エチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸
アリルなど ■ アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミ
ンエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど■ スルフォン基を有する単量体：２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸など ■ イソシアネート基を有する単量体＝２，４トルエン
ジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレート
の等モル付加物のような、ジイソシアネートと活性水素
を有するラジカル重合性単量体の付加物など ■ さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調和したりするために、上記の化合
物をそれと共重合可能な単量体と共重合させることもで
きる。 そのような共重合可能な単量体としては、たと
えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロごルアク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、
イソブチルメタクリレート、↑−ブチルアクリレート、
ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、
イソアミルメタクリレート、シクロへキシルアクリレー
ト、シクロへキシルメタクリレート、２−エチルへキシ
ルアクリレート、２−エチルへキシルメタクリレートな
どが挙げられる。 次に上述のようにして得た重合体に、以下に述べる方法
（イ）〜（ニ）よりラジカル重合性不飽和基を導入する
。 （イ） 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。 （ロ） カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。 （ハ） エポキシ基、イソシアネート基またはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体またはカルボキシル基
を有する単量体を付加反応させる。 （ニ） 水酸基またはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体またはアジリジニル基を有する単量体、あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体との等モル付加物を付加反応させる。 上記の反応は、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤
を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。 （２） 融点が２０〜２５０’Ｃでありラジカル重合性
不飽和基を有する化合物。 具体的にはステアリルアク
リレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイ
ンシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレー
ト、シクロヘキサンジオールメタクリレート、スピログ
リコールジアクリレート、スピログリコールジメタクリ
レートなどが挙げられる。 本発明においては、前記（１）、（２＞を混合して用い
ることもでき、ざらに、それらに対してラジカル重合性
不飽和単量体を加えることもできる。 このラジカル重
合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を
向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量
体のほかにエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレ−１〜、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサメタクリレート、エチレングリコール
ジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタク
リレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテル
ジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエ
ーテルジアクリレ−ト、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビ
トールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート、などを用いることができ、前記した共重合体混
合物の固形分１００重量部に対して、０．１〜１００重
量部を用いることが好ましい、また、上記のものは電子
線により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化さ
せる場合には、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、などのベンゾインエー
テル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアセチル類な
ど、紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いる
ことができる。 上記以外の電離放射線硬化性樹脂でも、それと溶剤揮散
型の樹脂とを混合すれば、指触乾燥するものとして使用
できる。 このような方法で使用する電離放射線硬化性
樹脂としては、たとえば、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、アクリル酸変性アルキッド、アクリ
ル変性ポリエステルなどをオリゴマーとし、これに架橋
構造の調整や粘度調整などを目的として、ネオペンチル
グリコール−ジアクリレート、ペンタエリスリトール−
トリアクリレート、トリメチロールプロパン−トリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレー
トなどのモノマーを配合したものがおる。 これらは電
子線により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化
させる場合には、ベンゾイン系、アセトフェノン系、ベ
ンジルケタール系、ケトン／アミン系などの光重合開始
剤を添加することが一般的である。 本発明では、とく
にポリエステルアクリレートにジアリルフタレートを添
加したものが好ましい。 これらの樹脂と混合する溶剤揮散型の樹脂の代表例は、
ウレタンエラストマー、セルロースアセテートプロピオ
ネート、アクリル樹脂または塩ビー酢ビ共重合体などの
熱可塑性樹脂でおる。 溶剤揮散型の樹脂が混合物中で
占める割合は、材料の組み合わせにもよるが、加熱によ
りハーフキュアーする場合には、電離放射線硬化性樹脂
との合計量のうち、５０〜７０重量％とするのが適切で
おる。 電離放射線によりハーフキュアーする場合には
、５〜３０重量％の範囲が適当である。 指触乾燥するタイプでない電離放射線硬化性樹脂を使用
するときは、電離放射線を照射して半硬化樹脂層を形成
する。 このときの半硬化の程度は次工程における取り
扱いやすさと、絵柄の昇華転写の容易さとを考慮して決
定する。 基材への樹脂の塗布は、上記いずれの場合も、ロールコ
ート、リバースコート、キスコートなど既知の手段でよ
い。 塗膜の厚さはとくに限定されないが、一般に１０〜１０
０μｍである。 乾燥のための加熱手段は、熱風、赤外線など、任意に採
用できる。 樹脂の半硬化および完全硬化に用いる電離放射線は、電
子線および紫外線が代表的である。 前者は各種の電子
線加速機から放出され、５０〜１０００ｋｅｖ、好まし
くは１００〜３００ｋｅＶの範囲のエネルギーをもつ電
子線が適当である。 後者は、高圧水銀灯やそのほかの
紫外線源から発するものを用いる。 転写シートをつくる転写台紙にはとくに制限はなく、既
知のものでよい。 たとえば、ポリプロピレン、ポリエ
チレンまたはポリエチレンテレフタレート、とくに２軸
延伸ポリプロピレンを上質紙に積層したものが、寸法安
定性が高く転写性にすぐれ、安価であって好ましい。 本発明で絵柄の印刷に使用するインキは昇華性をもつ染
料をビヒクル中に分散させたものでおる。 昇華性インキは多数市販されているので、その中から適
宜にえらぶ。 転写台紙への絵柄の印刷は、グラビア印刷法、オフセッ
トグラビア印刷層法、シルクスクリーン印刷法、ジェッ
トプリント法など通常の手法でよい。 絵柄は、木目な
ど任意である。 昇華転写は、従来と同様に、金属ロールや鏡面板などで
加熱加圧して行なえばよい。 加熱温度は、使用したイ
ンキにもよるが、一般に８０〜２５０℃である。 加圧
条件は５０ Ｋ！ｊ／ ｃｒｉ〜２００Ｋｌ／ＣＩｉが
、加熱加圧の処理時間は３０〜９０秒が、それぞれ適当
である。 ［作 用］ 基材上の指触乾燥未硬化樹脂層または半硬化樹脂層に絵
柄を昇華転写すると、インキが樹脂層を浸透し拡散する
。 これにより絵柄が立体的になって、深みのある意匠
が実現し、化粧材が天然物であるかのようにみえる。 電離放射線の照射により樹脂が完全に硬化すると、イン
キが浸透拡散したところで固定され、絵柄が安定する。 ［実施例１］ ポリエチレンテレフタレートのシートに、キノン系染料
を含有する昇華性イ・ンキｒＴＴカラー」（大日精化工
業製）で木目模様をグラビア印刷した転写シートを用意
した。 厚さ５履の木質板を基材とし、その上に未硬化の状態で
指触乾燥する紫外線硬化性樹脂の塗料「ユピマーＬＺＪ
（三菱油化製）をロールコートし、加熱乾燥して厚
さ２０μｍの未硬化樹脂層を形成した。 樹脂層の上に前記転写シートを重ね、加熱温度１７０℃
、圧力５００ｇ／−で３０秒間加熱加圧して絵柄を昇華
転写した。 転写台紙を剥離し、高圧水銀灯（出力８０Ｗ／ｃｍ ）
の下を１ ｆｆｌ／ｍｉｎの速度で通過させて樹脂層を
完全に硬化させ、木目調の化粧材を得た。 ［実施例２］ ポリエステルアクリレート系の紫外線硬化性樹脂「アロ
ニツクス」 （東亜合成製）と、溶剤揮散型の塩酢ビ系
樹脂である「Ｖ」 （大日精化工業製）とを、重量で１
：１の割合で含む塗料を用い、高圧水銀灯の通過速度を
３ＴｒＬ／１１１ｉｎとしたほかは実施例１と同様にし
て化粧材を得た。 ［実施例３１ 実施例１と同様に、ポリエチレンテレフタレート製の基
材上に、紫外線硬化性樹脂（実施例２と同じ＞９０重量
部と溶剤揮散型樹脂（同＞１０重量部とを含む塗料を塗
布し、高圧水銀灯（出力８０ Ｗ ／ ｃｍ ）の下を
１５ｍ／ｍｉｎの速度で通過させて半硬化樹脂層を形成
した。 実施例２と同様に転写工程および紫外線照射工程を行な
って、化粧材を得た。 ［発明の効果］ 本発明の製造方法によれば、インキの浸透拡散によって
生じた立体的な意匠をもつ化粧材が得られる。 本発明
の方法は、木目の再現に好適であり、得られた化粧材は
天然木と同様の深みのある外観をもつ。
じを与える木目模様をもった化粧材の製造方法を提供す
ることにある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明の化粧材の製造方法は、図面に示すような、下記
の諸工程からなる Ａ） 第１図に示すように、基材（１）上に、電離放射
線の照射を受けて硬化する樹脂を塗布する工程、 Ｂ） 第２図Ａに示すように、カロ熱して指触乾燥した
未硬化樹脂層（２Ａ）を形成するか、または第２図Ｂに
示すように、電離放射線を照射して半硬化樹脂層（２Ｂ
）を形成する工程、Ｃ） 第３図に示すように、未硬化
樹脂層（２Ａ）または半硬化樹脂層（２Ｂ）の上に、転
写台紙（３１）に昇華性インキ（３２）で絵柄を印刷し
た転写シート（３）を重ね、絵柄を昇華転写したのち、
転写台紙（３１）を剥離する工程、および Ｄ） 第４図に示すように、電離放射線を照射して未硬
化樹脂層（２Ａ）または半硬化樹脂層（２Ｂ）を完全に
硬化させるとともに、絵柄を硬化樹脂層（２Ｃ）に固定
する工程。 図面において、符号（５）は塗布手段、〈６）は加熱乾
燥手段、（７）は転写手段（８）は電離放射線照射手段
を、それぞれ示す。 本発明で使用する基材は、化粧材の製造に使用されてい
るものから任意にえらぶことができる。 例をあげると、合板、パーチクルボードなどの木質の板
材、石膏ボード、石膏スラグボードなどの石膏系板材、
パルプセメント板、石綿セメント板、木片セメント板、
ガラス繊維強化コンクリート板、軽量発泡コンクリート
板、中空押し出しセメント板などのセメント系板材、ケ
イ酸カルシウム板、石綿スレート板、陶磁器板、ガラス
板などのセラミックス板、および鉄板、亜鉛メツキ鋼板
、銅板、アルミニウム板、ホーローびき鉄板、ビニル鋼
板などの金属板である。 そのほか、紙や合成樹脂シー
トなどを使用してもよい。 木目模様の化粧材を製造するときは、木質の板材を使用
することが好ましい。 加熱により指触乾燥した未硬化樹脂層を形成する場合に
使用すべき電離放射線硬化性樹脂には、次の２種類があ
る。 （１） ガラス転移温度がＯ〜２５０’Ｃのポリマー中
にラジカル重合性不飽和基を有するもの。 具体的には、ポリマーとして以下の化合物■〜■を重合
または共重合させたものに対し、後述する方法（イ）〜
（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを
用いることができる。 ■ 水酸基を有する単量体二Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−ノエノキシ
プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロビルアクリレートなど ■ カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など ■ エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレ
ートなど ■ アジリジニル基を有する単量体＝２−アジリジニル
エチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸
アリルなど ■ アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミ
ンエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど■ スルフォン基を有する単量体：２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸など ■ イソシアネート基を有する単量体＝２，４トルエン
ジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレート
の等モル付加物のような、ジイソシアネートと活性水素
を有するラジカル重合性単量体の付加物など ■ さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調和したりするために、上記の化合
物をそれと共重合可能な単量体と共重合させることもで
きる。 そのような共重合可能な単量体としては、たと
えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロごルアク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、
イソブチルメタクリレート、↑−ブチルアクリレート、
ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、
イソアミルメタクリレート、シクロへキシルアクリレー
ト、シクロへキシルメタクリレート、２−エチルへキシ
ルアクリレート、２−エチルへキシルメタクリレートな
どが挙げられる。 次に上述のようにして得た重合体に、以下に述べる方法
（イ）〜（ニ）よりラジカル重合性不飽和基を導入する
。 （イ） 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。 （ロ） カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。 （ハ） エポキシ基、イソシアネート基またはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体またはカルボキシル基
を有する単量体を付加反応させる。 （ニ） 水酸基またはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体またはアジリジニル基を有する単量体、あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体との等モル付加物を付加反応させる。 上記の反応は、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤
を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。 （２） 融点が２０〜２５０’Ｃでありラジカル重合性
不飽和基を有する化合物。 具体的にはステアリルアク
リレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイ
ンシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレー
ト、シクロヘキサンジオールメタクリレート、スピログ
リコールジアクリレート、スピログリコールジメタクリ
レートなどが挙げられる。 本発明においては、前記（１）、（２＞を混合して用い
ることもでき、ざらに、それらに対してラジカル重合性
不飽和単量体を加えることもできる。 このラジカル重
合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を
向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量
体のほかにエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレ−１〜、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサメタクリレート、エチレングリコール
ジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタク
リレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテル
ジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエ
ーテルジアクリレ−ト、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビ
トールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート、などを用いることができ、前記した共重合体混
合物の固形分１００重量部に対して、０．１〜１００重
量部を用いることが好ましい、また、上記のものは電子
線により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化さ
せる場合には、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、などのベンゾインエー
テル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアセチル類な
ど、紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いる
ことができる。 上記以外の電離放射線硬化性樹脂でも、それと溶剤揮散
型の樹脂とを混合すれば、指触乾燥するものとして使用
できる。 このような方法で使用する電離放射線硬化性
樹脂としては、たとえば、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、アクリル酸変性アルキッド、アクリ
ル変性ポリエステルなどをオリゴマーとし、これに架橋
構造の調整や粘度調整などを目的として、ネオペンチル
グリコール−ジアクリレート、ペンタエリスリトール−
トリアクリレート、トリメチロールプロパン−トリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレー
トなどのモノマーを配合したものがおる。 これらは電
子線により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化
させる場合には、ベンゾイン系、アセトフェノン系、ベ
ンジルケタール系、ケトン／アミン系などの光重合開始
剤を添加することが一般的である。 本発明では、とく
にポリエステルアクリレートにジアリルフタレートを添
加したものが好ましい。 これらの樹脂と混合する溶剤揮散型の樹脂の代表例は、
ウレタンエラストマー、セルロースアセテートプロピオ
ネート、アクリル樹脂または塩ビー酢ビ共重合体などの
熱可塑性樹脂でおる。 溶剤揮散型の樹脂が混合物中で
占める割合は、材料の組み合わせにもよるが、加熱によ
りハーフキュアーする場合には、電離放射線硬化性樹脂
との合計量のうち、５０〜７０重量％とするのが適切で
おる。 電離放射線によりハーフキュアーする場合には
、５〜３０重量％の範囲が適当である。 指触乾燥するタイプでない電離放射線硬化性樹脂を使用
するときは、電離放射線を照射して半硬化樹脂層を形成
する。 このときの半硬化の程度は次工程における取り
扱いやすさと、絵柄の昇華転写の容易さとを考慮して決
定する。 基材への樹脂の塗布は、上記いずれの場合も、ロールコ
ート、リバースコート、キスコートなど既知の手段でよ
い。 塗膜の厚さはとくに限定されないが、一般に１０〜１０
０μｍである。 乾燥のための加熱手段は、熱風、赤外線など、任意に採
用できる。 樹脂の半硬化および完全硬化に用いる電離放射線は、電
子線および紫外線が代表的である。 前者は各種の電子
線加速機から放出され、５０〜１０００ｋｅｖ、好まし
くは１００〜３００ｋｅＶの範囲のエネルギーをもつ電
子線が適当である。 後者は、高圧水銀灯やそのほかの
紫外線源から発するものを用いる。 転写シートをつくる転写台紙にはとくに制限はなく、既
知のものでよい。 たとえば、ポリプロピレン、ポリエ
チレンまたはポリエチレンテレフタレート、とくに２軸
延伸ポリプロピレンを上質紙に積層したものが、寸法安
定性が高く転写性にすぐれ、安価であって好ましい。 本発明で絵柄の印刷に使用するインキは昇華性をもつ染
料をビヒクル中に分散させたものでおる。 昇華性インキは多数市販されているので、その中から適
宜にえらぶ。 転写台紙への絵柄の印刷は、グラビア印刷法、オフセッ
トグラビア印刷層法、シルクスクリーン印刷法、ジェッ
トプリント法など通常の手法でよい。 絵柄は、木目な
ど任意である。 昇華転写は、従来と同様に、金属ロールや鏡面板などで
加熱加圧して行なえばよい。 加熱温度は、使用したイ
ンキにもよるが、一般に８０〜２５０℃である。 加圧
条件は５０ Ｋ！ｊ／ ｃｒｉ〜２００Ｋｌ／ＣＩｉが
、加熱加圧の処理時間は３０〜９０秒が、それぞれ適当
である。 ［作 用］ 基材上の指触乾燥未硬化樹脂層または半硬化樹脂層に絵
柄を昇華転写すると、インキが樹脂層を浸透し拡散する
。 これにより絵柄が立体的になって、深みのある意匠
が実現し、化粧材が天然物であるかのようにみえる。 電離放射線の照射により樹脂が完全に硬化すると、イン
キが浸透拡散したところで固定され、絵柄が安定する。 ［実施例１］ ポリエチレンテレフタレートのシートに、キノン系染料
を含有する昇華性イ・ンキｒＴＴカラー」（大日精化工
業製）で木目模様をグラビア印刷した転写シートを用意
した。 厚さ５履の木質板を基材とし、その上に未硬化の状態で
指触乾燥する紫外線硬化性樹脂の塗料「ユピマーＬＺＪ
（三菱油化製）をロールコートし、加熱乾燥して厚
さ２０μｍの未硬化樹脂層を形成した。 樹脂層の上に前記転写シートを重ね、加熱温度１７０℃
、圧力５００ｇ／−で３０秒間加熱加圧して絵柄を昇華
転写した。 転写台紙を剥離し、高圧水銀灯（出力８０Ｗ／ｃｍ ）
の下を１ ｆｆｌ／ｍｉｎの速度で通過させて樹脂層を
完全に硬化させ、木目調の化粧材を得た。 ［実施例２］ ポリエステルアクリレート系の紫外線硬化性樹脂「アロ
ニツクス」 （東亜合成製）と、溶剤揮散型の塩酢ビ系
樹脂である「Ｖ」 （大日精化工業製）とを、重量で１
：１の割合で含む塗料を用い、高圧水銀灯の通過速度を
３ＴｒＬ／１１１ｉｎとしたほかは実施例１と同様にし
て化粧材を得た。 ［実施例３１ 実施例１と同様に、ポリエチレンテレフタレート製の基
材上に、紫外線硬化性樹脂（実施例２と同じ＞９０重量
部と溶剤揮散型樹脂（同＞１０重量部とを含む塗料を塗
布し、高圧水銀灯（出力８０ Ｗ ／ ｃｍ ）の下を
１５ｍ／ｍｉｎの速度で通過させて半硬化樹脂層を形成
した。 実施例２と同様に転写工程および紫外線照射工程を行な
って、化粧材を得た。 ［発明の効果］ 本発明の製造方法によれば、インキの浸透拡散によって
生じた立体的な意匠をもつ化粧材が得られる。 本発明
の方法は、木目の再現に好適であり、得られた化粧材は
天然木と同様の深みのある外観をもつ。
図面は本発明の製造方法を説明するための工程図であっ
て、第１図は基材上に電離放射線硬化性樹脂を塗布して
いる工程、第２図Ａは指触乾燥、同Ｂは半硬化を行なっ
ている工程、第３図は絵柄の転写を行なっている工程、
そして第４図は樹脂の硬化を行なっている工程を、それ
ぞれ示す。 １・・・基 材 ２Ａ・・・未硬化樹脂層 ２Ｂ・・・半硬化樹脂層 ２Ｃ・・・硬化樹脂層 ３・・・転写シート ５・・−塗布手段６・
・・加熱乾燥手段 ７・・・転写手段８・・・
電離放射線照射手段
て、第１図は基材上に電離放射線硬化性樹脂を塗布して
いる工程、第２図Ａは指触乾燥、同Ｂは半硬化を行なっ
ている工程、第３図は絵柄の転写を行なっている工程、
そして第４図は樹脂の硬化を行なっている工程を、それ
ぞれ示す。 １・・・基 材 ２Ａ・・・未硬化樹脂層 ２Ｂ・・・半硬化樹脂層 ２Ｃ・・・硬化樹脂層 ３・・・転写シート ５・・−塗布手段６・
・・加熱乾燥手段 ７・・・転写手段８・・・
電離放射線照射手段
Claims (2)
- （１）下記の諸工程からなる化粧材の製造方法Ａ）基材
上に、電離放射線の照射を受けて硬化する樹脂を塗布す
る工程、 Ｂ）加熱して指触乾燥した未硬化樹脂層を形成するか、
または電離放射線を照射して半硬化樹脂層を形成する工
程、 Ｃ）未硬化樹脂層または半硬化樹脂層の上に、転写台紙
に昇華性インキで絵柄を印刷した転写シートを重ね、加
熱して絵柄を昇華転写したのち、転写台紙を剥離する工
程、および Ｄ）電離放射線を照射して未硬化樹脂層または半硬化樹
脂層を完全に硬化させるとともに、絵柄を硬化樹脂層に
固定する工程。 - （２）絵柄が木目模様の転写シートを使用して実施する
請求項１の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10691390A JPH045100A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 化粧材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10691390A JPH045100A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 化粧材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045100A true JPH045100A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14445675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10691390A Pending JPH045100A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 化粧材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH045100A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5378298A (en) * | 1993-06-01 | 1995-01-03 | Motorola, Inc. | Radiation sensitive adhesive composition and method of photoimagingsame |
| JP2002337272A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Daiken Trade & Ind Co Ltd | 木質化粧材およびその製造方法 |
| WO2010035869A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | サントリーホールディングス株式会社 | 高ガス圧炭酸飲料 |
-
1990
- 1990-04-23 JP JP10691390A patent/JPH045100A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5378298A (en) * | 1993-06-01 | 1995-01-03 | Motorola, Inc. | Radiation sensitive adhesive composition and method of photoimagingsame |
| JP2002337272A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Daiken Trade & Ind Co Ltd | 木質化粧材およびその製造方法 |
| WO2010035869A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | サントリーホールディングス株式会社 | 高ガス圧炭酸飲料 |
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