JPS6286030A - 凹凸化粧材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ケミカルエンボス法によるエンボスを有する
、耐熱性、耐摩耗性、耐汚染性、耐溶剤性などの表面物
性にすぐれた凹凸化粧材を製造する方法に関する。

［従来の技術］ 凹凸化粧材を製造するに当ってケミカルエンボス法を採
用し、上塗り塗料のない発泡樹脂層単体にエンボスを施
したものがあるが、発泡樹脂としてふつうはポリ塩化ビ
ニル樹脂を用いているので、表面物性が劣る。

上塗り塗料として、ウレタン系、アクリル系電離放射線
硬化性樹脂を使用したものは、発泡性樹脂が発泡する前
に塗布すると即座に硬化するため、発泡が抑制され、好
ましいエンボスが得られない。

また、発泡性樹脂の発泡後に塗布すると凹部に塗布でき
なかったり、逆に凹部に入りすぎてエンボス感が失われ
たりする。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、上記の欠点を改善し、高い意匠性をも
ったエンボスを、とくに所望ならば絵柄に同調したエン
ボスを有し、表面物性のすぐれた凹凸化粧材を製造する
方法を提供することにある。

発明の構成 ［問題点を解決するための手段］ 図面を参照して、本発明の製造方法を説明すれば、第１
図に示すように、基材１上に、発泡剤を含有する発泡性
樹脂層２Ａを全面に設けてから、発泡抑制剤を含有する
印刷インキで印刷し、ついで全面に未硬化の電離放射線
硬化性樹脂層５Ａを設けた後に、第２図に示すように、
加熱発泡させて発泡樹脂層２Ｂを形成すると同時に発泡
抑制剤を含有する印刷インキで印刷した部分を凹部６と
し、第３図に示すように、電離放射線８を照射して架橋
硬化させることにより、第４図に示すように、電離放射
線硬化樹脂層５Ｂを得ることを特徴とする。

この発明の好ましい態様としては、第１図ないし第４図
に示すように、発泡抑制剤を含有する印刷インキ４で絵
柄を印刷し、その前および（または）後にも発泡抑制剤
を含有しない印刷インキ３で絵柄を印刷して実施する。

基材としては、本発明の方法により得られる凹凸化粧材
の用途により適宜に選択したものを使用できる。　たと
えば用途が壁紙であれば、通常は難燃処理を施した裏打
用難燃紙を使用する。　クッションフロア−のような床
敷シートであれば、アスベストシートやガラス繊維不織
布を使用する。

この他、化粧材の基材として通常使用するものであれば
何でも使用でき、各種の紙、プラスチックフィルム、木
質系基材、石こう基材、繊維セメント板、コンクリート
板、金属の箔もしくはシートまたは板等が例示でき、こ
れらの複合体でもよい。

発泡剤、発泡性樹脂および発泡抑制剤は、常用のものを
使用すればよい。　発泡性樹脂層は、発泡性樹脂をフロ
ーコート、ロールコート、グラビアコートなどの手段で
塗布して形成する。

印刷インキは、発泡抑制剤を含有するものもしないもの
も、常用されている製品を使用すればよい。

電離放射線は、電子線および紫外線が代表的である。　
前者は各種の電子線加速機から放出され、５０〜１００
０Ｋｅｖ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶの範囲のエ
ネルギーをもつ電子線が用いられ、後者は、高圧水銀灯
、そのほかの紫外線源から発するものを用いる。

本発明で使用する電離放射線硬化性樹脂は、ラジカル重
合性不飽和基を有する熱可塑性のものであり、次の２種
類がある。

（１）　ガラス転移温度がＯ〜２５０’Ｃのポリマー中
にラジカル重合性不飽和基を有するもの。

具体的には、ポリマーとして以下の化合物■〜■を重合
または共重合させたものに対し後述する方法（イ〉〜（
ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用
いることができる。

■　水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロピルメタクリレートなど ■　カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など ■　エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレ
ートなど ■　アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニル
エチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸
アリルなと ■　アミン基を有する単量体ニアクリルアミド、メタク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミ
ンエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど■　スルフォン基を有する単量体：２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸など ■　イソシアネート基を有する単量体＝２，４−トルエ
ンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレー
トの等モル付加物のような、ジイソシアネートと活性水
素を有するラジカル重合性単量体の付加物など ■　ざらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調和したりするために、上記の化合
物をそれと共重合可能な単量体と共重合させることもで
きる。　そのような共重合可能な単量体としては、たと
えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、
イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、
ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、
イソアミルメタクリレート、シクロへキシルアクリレー
ト、シクロへキシルメタクリレート、２−エチルへキシ
ルアクリレート、２−エチルへキシルメタクリレートな
どが挙げられる。

次に上述のようにして得た重合体に、以下に述べる方法
（イ）〜（ニ）よりラジカル重合性不飽和基を導入する
。

（イ）　水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。

（ロ）　カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。

（ハ）　エポキシ基、イソシアネート基またはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体またはカルボキシル基
を有する単量体を付加反応させる。

（ニ）　水酸基またはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体またはアジリジニル基を有する単量体、おるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体との等モル付加物を付加反応させる。

上記の反応は、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤
を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。

（２）　融点が２０〜２５０℃で必りラジカル重合性不
飽和基を有する化合物。　具体的にはステアリルアクリ
レート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソ
シアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート
、シクロヘキサンジオールメタクリレート、スピログリ
コールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレ
ートなどが挙げられる。

本発明においては、前記（１）、（２）を混合して用い
ることもでき、ざらに、それらに対してラジカル重合性
不飽和単量体を加えることもてきる。　このラジカル重
合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を
向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量
体のほかにエチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタエリス
リトールへキサメタクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリ
レート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビ
トールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレ
ート、などを用いることができ、前記した共重合体混合
物の固形分１００重量部に対して、０．１〜１００重量
部を用いることが好ましい、また、上記のものは電子線
により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させ
る場合には、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイン
、ベンゾインメチルエーテル、などのベンゾインエーテ
ル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアセチル類など
、紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いるこ
とができる。

電離放射線硬化性樹脂層は、溶剤で希釈した電離放射線
硬化性樹脂をフローコート、ロールコート、グラビアコ
ートなどの手段で塗布後、熱乾燥により溶剤を飛散させ
、固体皮膜化して形成する。

［作　用］ 第１図ないし第２図に示すように、発泡抑制剤を含有す
る印刷インキで印刷した部分は、加熱発泡するとこの部
分の発泡性樹脂層２Ａの発泡が抑制されるので凹部とな
り、電離放射線硬化性樹脂層５Ａは熱可塑性なので、そ
の凹凸に従って凹部６および凸部を形成する。　この態
様の好ましい例としては、発泡抑制剤を含有する印刷イ
ンキ４で絵柄を印刷し、発泡抑制剤を含有しない印刷イ
ンキ３で絵柄を印刷すると、印刷インキ４の部分が凹部
６となり、印刷インキ３の部分が凸部となり、絵柄に同
調したエンボスが形成される。

［実施例］ 下記の配合の発泡性樹脂を調製した。　　（１部」はい
ずれも重量部である。） 塩ビペーストレジン　　　　　　　　　１００部ＤＯＰ
　　　　　　　　　　　　　　　７０部ＤＢＰ　　　　
　　　　　　　　　　　３０部Ｔｔ０２　　　　　　　
　　　　　　１５部安定剤（二塩基性亜リン酸鉛）　　
　　　　３部発泡剤（ＡＤＣＡ系）　　　　　　　　　
　５部充填剤（水酸化アルミニウム＞　　　　　　３０
部合計２５３部 ８０ｇ／ＴＩｉの難燃壁紙原紙ｒ８０ＡＦ−１０Ｊく出
隅国策パルプ）に上記の発泡性樹脂を全面に厚さ２００
μ程度塗布し乾燥した後、その表面に塩ビ系インキｒＮ
ＷＰＪ　　（昭和インク）で絵柄を印刷し、ざらに発泡
抑制剤を含有する塩酢ビ系インキｒＬＩＥＪ　　（諸星
インキ）で絵柄を印刷した。

その上に紫外線硬化性樹脂「コピマー」　（三菱油化フ
ァイン）を全面に厚さ３μに塗布して、第１図に示す材
料を用意した。

２００℃に１分間加熱して発泡性樹脂層を発泡させ、発
泡部分の厚さが６００μの、第２図に示すような発泡樹
脂層を形成した。

第３図に示すように、このシートを高圧水銀灯１６０Ｗ
／ｃｍ４灯の下を１０ｍ／分のスピードで通過させ、紫
外線硬化性樹脂層を架橋硬化させた。

その結果、第４図に示すようになり表面に紫外線硬化樹
脂層を有し、発泡抑制剤含有のインキのパターンに同調
したエンボスをもった、表面物性良好な凹凸化粧シート
が１ｑられた。

発明の効果 本発明の方法により製造した凹凸化粧材は、表面層が電
離放射線硬化樹脂で形成されているので、耐熱性、耐摩
耗性、耐汚染性、耐溶剤性などの表面物性にすぐれてい
る。　エンボスは、所望に応じて絵柄に同調または非同
調であって、意匠性の高いものである。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第４図は、本発明の凹凸化粧材の製造方法
の工程を説明する模式的な断面図であり、第１図は、基
材シート上に、発泡剤を含有する発泡性樹脂層、発泡抑
制剤を含有する印刷インキおよび含有しない印刷イ′ン
キならびに電離放射線硬化性樹脂層を設けた段階を示し
、 第２図は、加熱発泡させた段階を示し、第３図は、この
シートに電離放銅線を照射している段階を示し、 第４図は、完成した凹凸化粧材を、それぞれ示す。 １・・・基材

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材上に、発泡剤を含有する発泡性樹脂層を全面
   に設けてから、発泡抑制剤を含有する印刷インキで印刷
   し、ついで未硬化状態では常温で熱可塑性の固体である
   未硬化の電離放射線硬化性樹脂層を全面に設けた後に、
   加熱発泡させて発泡樹脂層を形成すると同時に発泡抑制
   剤を含有する印刷インキで印刷した部分を凹部とし、電
   離放射線を照射して架橋硬化させることにより電離放射
   線硬化樹脂層を得ることを特徴とする凹凸化粧材の製造
   方法。
2. （２）発泡抑制剤を含有する印刷インキで絵柄を印刷し
   、その前および（または）後にも発泡抑制剤を含有しな
   い印刷インキで絵柄を印刷して実施する特許請求の範囲
   第１項に記載の製造方法。