JPH0452217A - 真空炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は種々の被処理材に焼入や焼戻或いは焼結、焼
成などの熱処理を施す為に用いられる真空炉に関する。

［従来の技術］ この種の炉においては、例えば真空容器内において被処
理材の存置空間の近くにヒータが配設され、そのヒータ
からの熱によって被処理材が加熱される。

［発明が解決しようとする課題コ このような従来の真空炉では、被処理材において例えば
ヒータに近くてそれから直接に多くの熱を受ける箇所は
温度が高くなり、一方ヒータから遠くて上記直接的な受
熱の量が少ない箇所は比較的温度が低くなり、被処理材
の各所に温度差ができてしまう問題点があった。

本発明は上記従来技術の問題点（技術的謀Ｈ）を解決す
る為になされたもので、被処理材がヒータから直接的に
受ける熱量が少ない場所に対しては反射体により反射し
た熱を補うようにして、被処理材全体の温度分布を均一
化させうるようにした真空炉を提供することを目的とす
る。

［課題を解決する為の手段］ 上記目的を達成する為に、本願発明の真空炉は、内部に
被処理材の存置空間を有する真空容器内においては、上
記存置空間の周囲を囲う断熱壁が設けられ、上記断熱壁
の内部においては、上記存置空間に存置される被処理材
を加熱する為のヒータが備えられている真空炉において
、上記存置空間のうち上記ヒータからの直接的な受熱量
が少ない箇所と対向する部分における断熱壁の外面、内
面又はそれらの両面に低輻射率の材料で形成された反射
体を添設したものである。

［作用〕 ヒータの発熱によって被処理材に熱が与えられる。この
場合、被処理材においてヒータからの直接的な受熱量が
大きい部分はその熱によって充分に加熱される。一方上
記直接的な受熱量が少ない部分はヒータからの熱に加え
て反射体で反射された熱をも受け、その部分も充分に加
熱される。その結果、被処理材はその全体が均一な温度
分布の状態に加熱される。

［実施例］ 以下本願の実施例を示す図面について説明する。

第１図において、１は真空炉を示す。２は真空容器で、
本体３とその本体３の出入口に設けた扉４とから構成し
である。５は断熱壁で、本体６とその本体６の出入口に
設けた！＃７とから構成され、その内側の空間が熱処理
室８となっている。１０は熱処理室８内に設けられた載
置台で、その上側の空間が被処理材の存置空間１１とな
っている。１２は上記存置空間１１の周囲に配設された
ヒータで、断熱壁に取付けである。次に第２図に示され
る１３は反射体で、低輻射率の材料で形成された板体、
例えば磨きステンレス板（厚みは例えば１．６０）が用
いてあり（その他の低輻射率の材料としては例えばモリ
ブデンがある）、上記断熱壁５における１１７の外面に
添設しである。その添設の状態は、例えば図示の如く、
断熱壁５とそれを支える周知の枠体１４との間に挟み込
んである（扉７に貼り付けても良い）　　この反射体１
３は、上記存置空間１１のうち上記ヒータ１２からの直
接的な受熱量が少ない箇所と対向する部分における断熱
壁、例えば図示の如くヒータ１２が設けられていない側
の断熱壁に添設される。添設する面は、本例の如き外面
の他、内面又は内外両面であっても良い。次に１５は被
処理材の周知の冷却構造を示し、以下これについて説明
する。１６はクーラ、１７は冷却ファンで、ファンモー
タ１８によって運転されるようになっている。１９はモ
ータカバーで、真空保持用のものである。　２０．２１
は夫々整流板、２２．２３は上下流切替用のダンパーで
ある。このような冷却構造１５にあっては、ダンパー２
２．２３が図示の如き状態においてクーラ１６及びファ
ン１７を運転することにより、冷却用のガスが実線矢印
の如き経路で循環し、存置空間１１に置かれた被処理材
が冷却される。尚ダンパー２２．２３を切り替えること
により、冷却用のガスを存置空間１１に下から上へ向け
て流して被処理材の冷却を行うこともできる。

次に上記真空炉を用いた被処理材の熱処理を説明する。

、扉４，７が開けられ、被処理材３１が載置台１０の上
に乗せられる。載置状態は、大きな被処理材３１はその
まま、小さなものは例えば棚に積んだ状態である。次に
扉４．７が閉じられ、真空容器２内が真空排気され、ヒ
ータ１２への通電によってそれが発熱され、そのヒータ
１２からの主として輻射伝熱によって被処理材３１が加
熱される。

上記加熱の場合、被処理材３１においてヒータ１２と直
に対向している箇所はそのヒータ１２から直接的に受け
る熱量が多く充分に加熱される。一方ヒータ１２と直に
対向していない箇所例えば扉７の側は、ヒータ１２から
直接的に受ける熱量が少ない。しかしその側においては
、反射体１３が断熱壁５の外に逃げようとする熱を断熱
壁５の側に反射する。その結果その部分の断熱壁５の温
度は充分に高く保たれ、断熱壁５による抜熱が防止され
る。このように反射体１３の存在により熱処理室８にお
ける処理室有効寸法内の温度分布が改善されている為、
被処理材３１はその全体が均一な温度分布の状態で加熱
される。

上記のようにして被処理材３１に所定の加熱が施された
ならば、ヒータへの通電が停止され、冷却用のガスが真
空容器２内に導入され、クーラ１６やファン１７が前述
のように運転されて、被処理材３１の冷却が行われる。

そして冷却が終了すると、扉４．７が開かれて熱処理を
終えた被処理材３１が取り出される。

向上記の如き反射体１３が用いてない場合と用いた場合
とにおいて夫々加熱時の温度分布幅を実測したところ、
用いてない場合には１０℃であったものが、用いた場合
には５．５℃に改善された。

次に第２図は本願の異なる実施例を示すもので、断熱壁
５ｅで囲まれた内部の空間に抜熱要素が備えられている
例を示すものである。図において、２１は搬送用のロー
ルで、被処理材３１ｅを紙面と垂直な方向に搬送する為
のものであり、真空容器２ｅの外に設けられる回動装置
によって回動されるようになっている。該ロール２１は
断熱壁５ｅ内部の空間の高熱に耐えられるよう周知の如
く水冷の構造となっているものであり、上記抜熱要素の
一例として示されるものである。該ロール２１は被処理
材を受ける為の例えば黒鉛製の環状の受部材２２を有し
ており、それ以外の部分２３は断熱材によって覆われて
いると共にその外側を前述の如き低輻射率の材料で形成
された板状の反射体で覆われている。

このような構成のものにあっては、被処理材３１ｅの加
熱時に、上記反射体は上記抜熱要素であるロール２１が
被処理材３１ｅから抜熱することを阻止し、その結果被
処理材の均一加熱が可能となる。

なお、機能上前図のものと同−又は均等構成と考えられ
る部分には、前回と同一の符号にアルファベットのｅを
付して重複する説明を省略した。

［発明の効果］ 以上のように本発明にあっては、ヒータ１２の発熱によ
って被処理材３１を加熱できるは勿論のこと、その加熱
の場合、被処理材３１においてヒータ１２からの直接的
な受熱量が大きい部分はその熱によって充分に加熱でき
、一方上記直接的な受熱量が少ない部分は、ヒータ１２
からの熱に加えて反射体１３で反射された熱をも受ける
ことができてその部分も充分に加熱することができ、被
処理材３１をその全体が均一な温度分布の状態で加熱で
きる効果がある。

しかも上記反射体１３は単に熱を反射するだけのもので
あるから、例えば扉７のような可動部にも付設できると
いう使用場所の任意性がある。

【図面の簡単な説明】

図面は本願の実施例を示すもので、第１図は真空炉の縦
断面図、第２図は第１図の要部拡大図、第３図は異なる
実施例を示す縦断面図。 ２・・・真空容器、５・・・断熱壁、１１・存置空間、
１２・・・ヒータ、１３・・・反射体。 第１図 第２図 第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、内部に被処理材の存置空間を有する真空容器内にお
   いては、上記存置空間の周囲を囲う断熱壁が設けられ、
   上記断熱壁の内部においては、上記存置空間に存置され
   る被処理材を加熱する為のヒータが備えられている真空
   炉において、上記存置空間のうち上記ヒータからの直接
   的な受熱量が少ない箇所と対向する部分における断熱壁
   の外面、内面又はそれらの両面に低輻射率の材料で形成
   された反射体を添設したことを特徴とする真空炉。 ２、内部に被処理材の存置空間を有する真空容器内にお
   いては、上記存置空間の周囲を囲う断熱壁が設けられ、
   上記断熱壁の内部においては、上記存置空間に存置され
   る被処理材を加熱する為のヒータと抜熱要素とが備えら
   れている真空炉において、上記抜熱要素を低輻射率の材
   料で形成された抜熱防止用の反射体で囲んだことを特徴
   とする真空炉。